[發(fā)明專利]光刻設(shè)備、器件制造方法和計(jì)算機(jī)程序

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201280057705.6
• 申請日: 2012-11-06
• 公開（公告）號: CN103946750B
• 公開（公告）日: 2019-03-29
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: P·提奈馬恩斯;A·布里克爾;E·魯普斯特拉
• 申請（專利權(quán)）人: ASML荷蘭有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021
• 代理人: 吳敬蓮

1.一種曝光設(shè)備，包括：

輻射源，配置成產(chǎn)生具有獨(dú)立可控強(qiáng)度的多個(gè)輻射束；

投影系統(tǒng)，配置將所述多個(gè)輻射束中的每一個(gè)輻射束投影到目標(biāo)上的各自的部位上；和

控制器，配置成計(jì)算所述多個(gè)輻射束中的每一個(gè)輻射束的目標(biāo)強(qiáng)度值，以將目標(biāo)曝光至想要的圖案并控制輻射源以發(fā)射具有目標(biāo)強(qiáng)度值的多個(gè)束，其中所述控制器參照多個(gè)部位中的每一個(gè)部位相對于投影系統(tǒng)的位置或參照多個(gè)部位中的每一個(gè)部位相對于投影系統(tǒng)的位置和旋轉(zhuǎn)計(jì)算目標(biāo)強(qiáng)度值，并且所述控制器配置成通過使用用于每個(gè)輻射束的對該輻射束與相鄰輻射束之間的交叉耦合建模的函數(shù)計(jì)算目標(biāo)強(qiáng)度值。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的曝光設(shè)備，其中所述函數(shù)依賴于多個(gè)部位中的每一個(gè)部位相對于投影系統(tǒng)的位置。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的曝光設(shè)備，其中所述控制器包括存儲用于每個(gè)輻射束的多個(gè)函數(shù)的查找表，所述控制器配置成根據(jù)各自的部位的位置從查找表中選擇每個(gè)輻射束的函數(shù)。

4.根據(jù)權(quán)利要求1-3中任一項(xiàng)所述的曝光設(shè)備，其中所述函數(shù)是(去)卷積核。

5.根據(jù)權(quán)利要求1-3中任一項(xiàng)所述的曝光設(shè)備，還包括位置傳感器，所述位置傳感器配置成將輻射束投影到目標(biāo)上的同時(shí)測量目標(biāo)上的部位相對于投影系統(tǒng)的位置或測量目標(biāo)上的部位相對于投影系統(tǒng)的位置和旋轉(zhuǎn)。

6.根據(jù)權(quán)利要求1-3中任一項(xiàng)所述的曝光設(shè)備，還包括：

第一存儲器，布置成存儲表示目標(biāo)的表面輪廓圖的數(shù)據(jù)；

第二存儲器，布置成存儲表示目標(biāo)的軌跡的數(shù)據(jù)；和

位置計(jì)算器，布置成從所述表面輪廓圖和軌跡計(jì)算每個(gè)部位的位置或每個(gè)部位的位置和旋轉(zhuǎn)。

7.根據(jù)權(quán)利要求1-3中任一項(xiàng)所述的曝光設(shè)備，其中所述部位相對于投影系統(tǒng)的位置是沿垂直于參照平面的方向離開參照平面的距離。

8.根據(jù)權(quán)利要求1-3中任一項(xiàng)所述的曝光設(shè)備，其中所述目標(biāo)是襯底上的目標(biāo)部分。

9.根據(jù)權(quán)利要求1-3中任一項(xiàng)所述的曝光設(shè)備，其中所述目標(biāo)是與將在其上形成器件的襯底間隔開的施主材料層。

10.根據(jù)權(quán)利要求1-3中任一項(xiàng)所述的曝光設(shè)備，其中所述輻射源包括配置成提供多個(gè)輻射束的可編程圖案形成裝置。

11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的曝光設(shè)備，其中所述可編程圖案形成裝置包括可控元件，用以選擇地提供所述多個(gè)輻射束。

12.根據(jù)權(quán)利要求10所述的曝光設(shè)備，其中所述可編程圖案形成裝置包括多個(gè)自發(fā)射式對比度裝置。

13.一種器件制造方法，其中將要用想要的圖案照射目標(biāo)，所述方法包括：

計(jì)算將要用于照射所述目標(biāo)的多個(gè)輻射束中的每一個(gè)輻射束的強(qiáng)度值，參照在目標(biāo)上的多個(gè)部位的相對于投影系統(tǒng)的位置或參照在目標(biāo)上的多個(gè)部位的相對于投影系統(tǒng)的位置和旋轉(zhuǎn)執(zhí)行所述計(jì)算并且所述計(jì)算使用用于每個(gè)輻射束的對該輻射束與相鄰輻射束之間的交叉耦合建模的函數(shù)；和

使用投影系統(tǒng)將具有已計(jì)算的強(qiáng)度值的輻射束投影到多個(gè)部位中的各自的一個(gè)部位上。