[發明專利]用于監控耦合至處理腔室的流量控制器的方法有效
| 申請號: | 201280055872.7 | 申請日: | 2012-09-28 |
| 公開(公告)號: | CN103930972B | 公開(公告)日: | 2017-01-18 |
| 發明(設計)人: | 巴拉拉貝·N·穆罕默德;約翰·W·萊恩;麻里烏斯·格雷戈爾;丹·約瑟夫·希利 | 申請(專利權)人: | 應用材料公司 |
| 主分類號: | H01L21/205 | 分類號: | H01L21/205;H01L21/66 |
| 代理公司: | 北京律誠同業知識產權代理有限公司11006 | 代理人: | 徐金國,趙靜 |
| 地址: | 美國加利*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用于 監控 耦合 處理 流量 控制器 方法 | ||
1.一種監控耦合至處理腔室的流量控制器的方法,包含以下步驟:
在所述流量控制器處于第一流量的情況下,在第一時間處監控:所述流量控制器的第一參數或所述處理腔室的第二參數的至少一個的第一數值;
在所述流量控制器處于所述第一流量的情況下,在所述第一時間之后的第二時間處監控:所述流量控制器的所述第一參數或所述處理腔室的所述第二參數的所述至少一個的第二數值;及
從所述第一數值和所述第二數值的比較中,確定所述流量控制器或所述處理腔室的部件的至少一個的狀態。
2.如權利要求1所述的方法,其中所述流量控制器的所述第一參數包含:流量控制器流量輸出、流量控制器壓力輸出、流量控制器溫度輸出、流量控制器閥位置,或所述流量控制器的總氮等效流量輸出中的一或多個,并且其中所述處理腔室的所述第二參數包含腔室壓力或排氣閥位置的一或多個。
3.如權利要求1所述的方法,其中確定所述處理腔室的所述狀態包含下列步驟的一或多個步驟:確定線路壓力為增加或為減少,或確定線路溫度為增加或為減少,其中所述線路被設置在所述流量控制器和氣體源之間,而從所述氣體源提供氣體至所述流量控制器。
4.如權利要求1所述的方法,其中監控所述第一數值的步驟進一步包含以下步驟:
在所述流量控制器處于所述第一流量的情況下,在所述第一時間處監控:流量控制器閥位置、所述流量控制器的總氮等效流量,及所述處理腔室的排氣閥位置的所述第一數值。
5.如權利要求4所述的方法,其中監控所述第二數值的步驟進一步包含以下步驟:
在所述流量控制器處于所述第一流量的情況下,在所述第二時間處監控:所述流量控制器閥位置、所述流量控制器的所述總氮等效流量,及所述處理腔室的所述排氣閥位置的所述第二數值。
6.如權利要求5所述的方法,其中確定所述狀態的步驟進一步包含以下步驟:
從所述第一數值和所述第二數值的比較中,確定所述流量控制器為高流量的或為低流量的。
7.如權利要求6所述的方法,其中若所述流量控制閥位置、所述流量控制器的所述總氮等效流量,及所述處理腔室的所述排氣閥位置的每一個的所述第二數值高于:相對應的所述流量控制閥位置、所述流量控制器的所述總氮等效流量,及所述處理腔室的所述排氣閥位置的每一個的所述第一數值,所述流量控制器為高流量的,而其中若所述流量控制閥位置、所述流量控制器的所述總氮等效流量,及所述處理腔室的所述排氣閥位置的每一個的所述第二數值低于:相對應的所述流量控制閥位置、所述流量控制器的所述總氮等效流量,及所述處理腔室的所述排氣閥位置的每一個的所述第一數值,所述流量控制器為低流量的。
8.如權利要求1所述的方法,所述方法進一步包含以下步驟:
基于所述比較,設定所述流量控制器的所述第一參數或所述處理腔室的所述第二參數的所述至少一個為新的數值。
9.如權利要求1所述的方法,
其中在所述流量控制器處于第一流量的情況下,在第一時間處監控所述流量控制器的第一參數或所述處理腔室的第二參數的至少一個的第一數值包含:監控所述流量控制器的第一零點偏移或第一時間的至少一個,在所述第一時間期間所述流量控制器進行操作;
其中在所述流量控制器處于所述第一流量的情況下,在所述第二時間處監控所述流量控制器的所述第一參數或所述處理腔室的所述第二參數的所述至少一個的所述第二數值包含:監控所述流量控制器的第二零點偏移或第二時間的至少一個,在所述第二時間期間所述流量控制器進行操作;以及進一步包含:
若累加的零點漂移超過所述流量控制器的全部的流量范圍的大約百分之十,發出服務警告,其中所述累加的零點漂移是所述第一零點偏移和所述第二零點偏移的總和,或若累加的工作壽命超過第一臨界數值,發出服務警告,其中所述累加的工作壽命是所述第一時間和所述第二時間的總和。
10.如權利要求9所述的方法,所述方法進一步包含以下步驟:
在所述第二時間之后的第三時間處,監控所述流量控制器的第三零點偏移,其中所述累加的零點漂移是所述第一零點偏移、所述第二零點偏移及所述第三零點偏移的總和。
11.如權利要求9所述的方法,所述方法進一步包含以下步驟:
若所述累加的零點漂移超過臨界數值,關閉所述流量控制器。
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H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
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