[發明專利]用于監控耦合至處理腔室的流量控制器的方法有效
| 申請號: | 201280055872.7 | 申請日: | 2012-09-28 |
| 公開(公告)號: | CN103930972B | 公開(公告)日: | 2017-01-18 |
| 發明(設計)人: | 巴拉拉貝·N·穆罕默德;約翰·W·萊恩;麻里烏斯·格雷戈爾;丹·約瑟夫·希利 | 申請(專利權)人: | 應用材料公司 |
| 主分類號: | H01L21/205 | 分類號: | H01L21/205;H01L21/66 |
| 代理公司: | 北京律誠同業知識產權代理有限公司11006 | 代理人: | 徐金國,趙靜 |
| 地址: | 美國加利*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用于 監控 耦合 處理 流量 控制器 方法 | ||
領域
本發明的實施例一般性地涉及用于基板處理的方法和設備,特別地涉及用于流量控制器的原位校正的方法和設備。
背景
流量控制器可被使用以供給工藝氣體至處理腔室的處理空間。流量控制器典型地于安裝在處理腔室上之前由制造者使用標準氣體來校正。發明人提供用于流量控制器的原位校正(in-situ?calibration)的改善的方法。
發明內容
在此提供一種用于流量控制器的原位校正的方法和設備。在一些實施例中,耦合至處理腔室的流量控制器的原位校正的方法可包含以下步驟:提供流量控制器,流量控制器經配置以:當基于計算出的第一關系而設定為第一數值的設定點時,提供具有第一數值的流量的第一氣體,第一關系由使用不同于第一氣體的標準氣體來確定;從處于流量控制器的相對應的多個數值的設定點而確定的第一氣體的多個數值的流量中,確定對于第一氣體的流量和設定點之間的實際的第一關系,其中多個數值的每一數值的流量從將第一氣體流動經過處在多個數值的相對應的數值的設定點的流量控制器來確定;及基于實際的第一關系,利用第一數值的流量從流量控制器流動第一氣體。
在一些實施例中,一種用于處理基板的設備可包含:處理腔室,處理腔室具有處理空間;及第一流量控制器,第一流量控制器耦合至處理腔室以提供第一氣體至處理空間,其中第一流量控制器經配置以:當基于計算出的第一關系而設定為第一數值的設定點時,提供具有第一數值的流量的第一氣體,第一關系由使用不同于第一氣體的標準氣體來確定;及控制器,控制器耦合至處理腔室,其中控制器進一步包含:計算機可讀取媒體,計算機可讀取媒體具有存儲于所述計算機可讀媒體上的指令,當指令由控制器執行時,使得用于將氣體流動進入處理空間的第一方法被執行,所述方法包含以下步驟:從處于第一流量控制器的相對應的多個數值的設定點而確定的第一氣體的多個數值的流量中,確定對于第一氣體的流量和設定點之間的實際的第一關系,其中多個數值的每一數值的流量從將第一氣體流動經過處在多個數值的相對應的數值的設定點的第一流量控制器來確定;及基于實際的第一關系,利用第一數值的流量從第一流量控制器流動第一氣體。
在一些實施例中,監控耦合至處理腔室的流量控制器的方法可包含以下步驟:在第一時間處監控流量控制器的第一零點偏移(zero?offset);在第一時間之后的第二時間處,監控流量控制器的第二零點偏移;及若累加的零點漂移(zero?drift)超過:流量控制器的全部的流量范圍的大約百分之十(10percent),發出服務警告,其中累加的零點漂移是第一零點偏移和第二零點偏移的總和。
在一些實施例中,監控耦合至處理腔室的流量控制器的方法可包含以下步驟:監控第一時間,在第一時間期間流量控制器進行操作;監控第二時間,在第二時間期間流量控制器進行操作;及若累加的工作壽命(operating?lifetime)超過第一臨界數值,發出服務警告,其中累加的工作壽命是第一時間和第二時間的總和。
在一些實施例中,監控耦合至處理腔室的流量控制器的方法可包含以下步驟:在第一時間區間(period)中于第一時間間隔(interval)處,取樣流量控制器的溫度數值;及若從取樣的溫度數值中所計算出的標準差(standard?deviation)對于流量控制器的設定的溫度數值超過臨界數值,發出服務警告。
在一些實施例中,監控耦合至處理腔室的流量控制器的方法可包含以下步驟:利用第一取樣率來取樣:從位置控制器至流量控制器的可調整的閥的輸出信號的數值;及若從取樣的輸出信號的數值中計算出的標準差對于輸出信號的穩態設定點超過臨界數值,發出服務警告。
在一些實施例中,監控耦合至處理腔室的流量控制器的方法可包含以下步驟:在流量控制器處于第一流量的情況下,在第一時間處監控流量控制器的第一參數或處理腔室的第二參數的至少一個的第一數值;在流量控制器處于第一流量的情況下,在第一時間之后的第二時間處監控:流量控制器的第一參數或處理腔室的第二參數的所述至少一個的第二數值;及從第一數值和第二數值的比較中,確定流量控制器或處理腔室的部件的至少一個的狀態。
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H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





