[發明專利]容器的處理裝置有效
| 申請號： | 201280054535.6 | 申請日： | 2012-10-11 |
| 公開（公告）號： | CN103917465A | 公開（公告）日： | 2014-07-09 |
| 發明（設計）人： | 小幡一元;柴坂守 | 申請（專利權）人： | 東洋制罐集團控股株式會社 |
| 主分類號： | B65G47/86 | 分類號： | B65G47/86;B21D51/26;B67C3/24 |
| 代理公司： | 中科專利商標代理有限責任公司 11021 | 代理人： | 雒運樸 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 容器 處理 裝置 | ||
【權利要求書】：
1.一種容器的處理裝置，其特征在于，
該容器的處理裝置具有：使容器吸附于底板吸附機構而向實施規定處理的處理機構供給的主轉臺；與所述主轉臺對置的容器供給轉臺，
該容器的處理裝置在所述主轉臺的容器的接收區域具有輔助轉臺，
所述輔助轉臺在所述接收區域進行容器向底板吸附機構的定心。
2.根據權利要求1所述的容器的處理裝置，其特征在于，
所述輔助轉臺的凹處具有容器支承圓弧面部以及從該容器支承圓弧面部向旋轉方向外周面延伸的導入面，所述輔助轉臺的節圓與所述主轉臺的節圓相接。
3.根據權利要求1或2所述的容器的處理裝置，其特征在于，
在所述主轉臺的接收開始點的下游側，所述輔助轉臺的節圓與所述主轉臺的節圓相接。
4.根據權利要求1至3中任一項所述的容器的處理裝置，其特征在于，
所述輔助轉臺的周速比所述主轉臺的周速快。
5.根據權利要求1至4中任一項所述的容器的處理裝置，其特征在于，
在所述接收區域，具有對所述容器進行引導的接收用引導構件。
6.根據權利要求1至5中任一項所述的容器的處理裝置，其特征在于，
所述規定處理是罐體的壓紋加工工序前的加熱處理，將高頻感應加熱機構設置在主轉臺的外周側以及中心側。
7.根據權利要求1至5中任一項所述的容器的處理裝置，其特征在于，
所述規定處理是檢查罐體的針孔的光學檢查處理，將照明機構設置在主轉臺的外周側以及中心側。
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