[發明專利]清洗裝置及方法

有效

• 申請號: 201280050693.4
• 申請日: 2012-04-27
• 公開（公告）號: CN103889602A
• 公開（公告）日: 2014-06-25
• 發明（設計）人: 床嶋裕人
• 申請（專利權）人: 栗田工業株式會社
• 主分類號: B08B3/10
• 分類號: B08B3/10;C02F1/78;G02F1/13;G02F1/1333;H01L21/304
• 代理公司: 隆天國際知識產權代理有限公司 72003
• 代理人: 董雅會;郭曉東

技術領域

本發明關于一種用清洗水來清洗玻璃基板等的被清洗物的清洗裝置及方法，特別是關于把在搬送方向下游側在清洗中使用過的清洗水用于搬送方向上游側的清洗，即所謂階流式（cascade?type）的清洗裝置及方法。

背景技術

近年來，為了有效率地制造以液晶電視等為代表的平板顯示器（FPD），FPD用玻璃基板逐漸大型化，清洗玻璃基板的清洗機也隨之大型化。此外，因為清洗機的大型化，清洗時所使用的清洗水量也跟著增加。在清洗機中，為了控制制造成本設想各種的節水方案，其一為：將最終沖洗水等較干凈的清洗排出水儲存在貯槽，進行抽吸來施以簡單的純化處理（利用過濾器來進行過濾等），再利用于前級的噴灑清洗水，即進行所謂的階流清洗。（專利文獻1～3）。

近年來，雖為了減低制造成本而提升了水的再利用率，但隨之增加了再利用水在系統內的滯留時間，而產生菌體在系統內繁殖的問題。在系統內繁殖的菌體在噴灑清洗時附著在玻璃基板，引起制品良率的降低。

防止這樣的菌體繁殖、或者是去除已繁殖的菌體的方法為：在已確認菌體繁殖時，長時間停止清洗生產線，以濃縮藥液來進行殺菌清洗。但是，這種以濃縮藥液來進行殺菌清洗的方法又會產生以下問題：停止清洗生產線所引起的生產性降低、使用濃縮藥液的非經常作業所引起的安全性降低、廢液處理成本的增加、以及殺菌后的沖洗不良增加等問題。

現有技術文獻

專利文獻

專利文獻1：JP特開平8-71512

專利文獻2：JP特開平11-44877

專利文獻3：JP特開2011-200819

發明內容

發明要解決的課題

本發明的目的為提供一種：用簡易的裝置即可防止階流式的清洗裝置的菌體繁殖，可提升被清洗物的清洗效率的清洗裝置及方法。

用以解決課題的手段

本發明的清洗裝置系具有：在被清洗物的搬送方向下游側，對被清洗物噴出清洗水的下游側噴嘴；容置來自該下游側噴嘴的清洗水的水槽；以及在被清洗物的搬送方向上游側，對被清洗物噴出由該水槽所供給的清洗水的上游側噴嘴，其特征為：具備：向該水槽供給臭氧氣體或臭氧水的臭氧供給裝置。

本發明的清洗方法系為利用本發明的清洗裝置來清洗被清洗物。

在本發明中，優選間歇性地將臭氧氣體或臭氧水供給至水槽，特別是，臭氧氣體或臭氧水的供給頻率3～90天1次，每次對水槽供給臭氧氣體或臭氧水以使水槽內的臭氧濃度在1～20分鐘內維持0.1～1mg/L。

[發明效果]

根據本發明，不須要使用濃縮的清洗藥液即可簡易地對階流式的水槽內進行殺菌，可節水以及維持良品率。在本發明中，通過將水槽內含有臭氧的水供給至上游側噴嘴，不須停止清洗生產線，另外不會增加廢液處理成本，即可進行從水槽一直到上游側噴嘴為止的系統內的殺菌。

附圖說明

圖1是有關實施形態的FDP用玻璃基板的清洗裝置及方法的說明圖。

具體實施方式

以下參照圖1來說明本實施方式。圖1的清洗裝置為平流式玻璃基板清洗機，利用滾輪2依序來搬送玻璃基板1，經過各種的清洗處理，最后利用噴射清洗噴嘴3來進行二流體噴射和高壓噴射等的噴射清洗，利用最終沖洗噴嘴4以潔凈的純水來進行最終沖洗，然后移行至氣幕等的瀝干干燥步驟，完成清洗。

從各噴嘴3、4朝向玻璃基板1噴射清洗水。來自純水配管5的純水被供給至最終沖洗噴嘴4。

在該清洗步驟中，從最終沖洗噴嘴4朝向玻璃基板1噴射對玻璃基板1進行了清洗的清洗排出水，是清凈度較高的水，由水槽（階流槽）7從再利用配管6承接該清洗排出水。利用送水泵9對該水槽7內的水進行抽吸，并將該水經由配管10朝向前級的噴射清洗噴嘴3供給，來清洗玻璃基板1。在水槽7連接了剩余水的排出配管8。

再者，從噴射清洗噴嘴3朝向前級側的玻璃基板1噴射時的清洗排水的一部分，經由配管11被回收至水槽7內，剩余的部分則經由配管15被排出。但是，也可以不進行來自配管11的回收，將所有前級的清洗排出水都從配管15排出亦可。

從臭氧水供給裝置12經由配管13將臭氧水供給至該水槽7。配管14用來將來自水槽7的水朝向臭氧水供給裝置12導入的構件。即，從水槽7通過配管14將水導入至臭氧水供給裝置12，通過溶入臭氧氣體變成臭氧水，該臭氧水經由配管13被供給至水槽7。