[發(fā)明專利]清洗裝置及方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201280050693.4 | 申請日： | 2012-04-27 |
| 公開（公告）號： | CN103889602A | 公開（公告）日： | 2014-06-25 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 床嶋裕人 | 申請（專利權(quán)）人： | 栗田工業(yè)株式會社 |
| 主分類號： | B08B3/10 | 分類號： | B08B3/10;C02F1/78;G02F1/13;G02F1/1333;H01L21/304 |
| 代理公司： | 隆天國際知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 72003 | 代理人： | 董雅會;郭曉東 |
| 地址： | 日本國*** | 國省代碼： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 清洗 裝置 方法 | ||
【權(quán)利要求書】：
1.一種清洗裝置，具有：
在被清洗物的搬送方向下游側(cè)，對被清洗物噴出清洗水的下游側(cè)噴嘴；
容置來自該下游側(cè)噴嘴的清洗水的水槽；以及
在被清洗物的搬送方向上游側(cè)，對被清洗物噴出由該水槽所供給的清洗水的上游側(cè)噴嘴，其特征為：
具備：向該水槽供給臭氧氣體或臭氧水的臭氧供給裝置。
2.如權(quán)利要求1所述的清洗裝置，其中，上述臭氧供給裝置間歇性地將臭氧氣體或臭氧水供給至上述水槽，使得上述水槽的臭氧濃度成為0.1～3mg/L。
3.一種清洗方法，其特征為：利用權(quán)利要求1所述的清洗裝置來清洗被清洗物。
4.如權(quán)利要求3所述的清洗方法，其中，間歇性地將臭氧氣體或臭氧水供給至上述水槽。
5.如權(quán)利要求4所述的清洗方法，其中，上述被清洗物為玻璃基板，每3～90天對上述水槽供給臭氧，每次使該水槽內(nèi)的水的臭氧濃度在1～20分鐘內(nèi)維持0.1～1mg/L。
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