[發明專利]改進的復合吸氣劑

有效

• 申請號: 201280050593.1
• 申請日: 2012-10-25
• 公開（公告）號: CN103930966A
• 公開（公告）日: 2014-07-16
• 發明（設計）人: A·伯納希;P·瓦卡
• 申請（專利權）人: 工程吸氣公司
• 主分類號: H01J7/18
• 分類號: H01J7/18;H01L23/26
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 11038
• 代理人: 任宗華

1.一種復合吸氣劑體系，它包括至少一種NEG材料和至少一種聚酰亞胺和/或聚酰胺基化合物，其特征在于至少80%面向周圍環境的NEG材料的表面用所述聚酰亞胺/聚酰胺基化合物涂布，和所述涂層的厚度為0.1至1mm。

2.權利要求1的復合吸氣劑體系，其中所述涂層的厚度為0.2至0.5mm。

3.權利要求1的復合吸氣劑體系，其中面向環境的NEG材料表面被完全涂布。

4.權利要求1的復合吸氣劑體系，其中所述聚酰亞胺或聚酰胺基化合物涂層是均勻的。

5.權利要求1的復合吸氣劑體系，其中所述聚酰亞胺化合物選自聚(l,2,3-三甲基-2,3-二氫-l,6-茚二基-l,4-亞苯基-乙烯),聚3,3,4,4'二苯甲酮四羧酸二酐聯苯胺，聚3,3,4,4'二苯甲酮四羧酸二酐苯二胺，聚3,3,4,4'二苯甲酮四羧酸二酐二氨基二苯甲酮，聚3,3,4,4'二苯甲酮四羧酸二酐二氨基茋，聚(均苯四酸二酐聯苯胺)。

6.權利要求1的復合吸氣劑體系，其中所述聚酰胺化合物選自聚(4,4'-氧基二亞苯基-均苯四酸酰亞胺)，聚[亞氨基(l,6-二氧代-l,6-己二基)亞氨基-1,6己二基]聚[亞氨基(l-氧代-1,11-十一烷二基)]。

7.權利要求1的復合吸氣劑體系，其中所述NEG材料為粒度測定等于或小于500μm的粉末形式。

8.權利要求1的復合吸氣劑體系，其中所述NEG為厚度為0.5μm至300μm的薄膜形式。

9.權利要求8的復合吸氣劑體系，其中所述NEG薄膜的厚度為1μm至200μm。

10.權利要求1的復合吸氣劑體系，其中所述NEG材料包括Zr、Ti、Y中的至少一種或者它們的結合物與合金。

11.權利要求10的復合吸氣劑體系，其中所述NEG材料包括Zr,Ti,Y與下述中的一種或更多種的結合物和合金：V,Al,Ni,Fe,Si,Sb,Co,Mn，和其中Zr,Ti,Y中的至少一種的重量比等于或高于20wt%。

12.權利要求10的復合吸氣劑體系，其中所述NEG材料的活化溫度等于或低于450℃。

13.權利要求12的復合吸氣劑體系，其中活化溫度等于或低于450℃的所述NEG材料包括含下述的鋯結合物與合金：

·至少50wt%Zr，當NEG合金是二元合金或結合物時，

·至少20wt%Zr，當NEG含有三種或更多種元素時。

14.權利要求13的復合吸氣劑體系，其中所述NEG材料包括至少5wt%選自Co,Fe,V中的一種元素。

15.權利要求14的復合吸氣劑體系，其中所述NEG材料包括至少1wt%混合稀土(MM)。

16.一種氣敏器件，它含有前述任何一項權利要求的復合吸氣劑體系。

17.權利要求16的氣敏器件，其中所述器件在真空下密封。

18.權利要求16的氣敏器件，其中所述器件在惰性氣體氛圍下密封。

19.權利要求16的氣敏器件，其中在該器件內的壓力比大氣壓低至少100mbar。