[發明專利]與樹脂粘著性優良的銅箔、其制造方法以及使用該電解銅箔的印刷布線板或電池用負極材料有效
| 申請號: | 201280048298.2 | 申請日: | 2012-09-18 |
| 公開(公告)號: | CN103857833B | 公開(公告)日: | 2018-09-07 |
| 發明(設計)人: | 古曳倫也;森山晃正 | 申請(專利權)人: | JX日礦日石金屬株式會社 |
| 主分類號: | C25D7/06 | 分類號: | C25D7/06;H05K3/38 |
| 代理公司: | 北京信慧永光知識產權代理有限責任公司 11290 | 代理人: | 張淑珍;王維玉 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 樹脂 粘著 優良 銅箔 制造 方法 以及 使用 電解 印刷 布線 電池 負極 材料 | ||
1.一種電解銅箔,所述電解銅箔是在電解銅箔的粗化面(M面)上形成粗化粒子的電解銅箔,其特征在于,所述粗化粒子的平均大小為0.1~1.0μm,粗化粒子數平均為1~2個/μm2,電解銅箔的粗化面(M面)的表面粗糙度Rz為3.0μm以下,所述平均大小是從該粗化粒子的該粗化面的任意2點觀察到的垂直剖面上的粒子大小和任意2點觀察到的水平面上的粒子大小的平均值,該粒子大小是以SEM 1萬倍圖像觀察到的該粗化粒子進行線性分析法后計量的結果。
2.根據權利要求1所述的電解銅箔,其特征在于,所述電解銅箔的粗化面(M面)的表面粗糙度Ra低于0.6μm,Rt低于4.0μm。
3.根據權利要求1所述的電解銅箔,其特征在于,所述電解銅箔與BT基材的常態剝離強度為1.0kN/m以上。
4.根據權利要求2所述的電解銅箔,其特征在于,所述電解銅箔與BT基材的常態剝離強度為1.0kN/m以上。
5.根據權利要求1所述的電解銅箔,其特征在于,所述電解銅箔與BT基材的焊接后的剝離強度為0.98kN/m以上。
6.根據權利要求2所述的電解銅箔,其特征在于,所述電解銅箔與BT基材的焊接后的剝離強度為0.98kN/m以上。
7.根據權利要求3所述的電解銅箔,其特征在于,所述電解銅箔與BT基材的焊接后的剝離強度為0.98kN/m以上。
8.根據權利要求4所述的電解銅箔,其特征在于,所述電解銅箔與BT基材的焊接后的剝離強度為0.98kN/m以上。
9.根據權利要求1~8任一項所述的電解銅箔,其特征在于,在所述粗化粒子層上,具有覆銅鍍層。
10.根據權利要求1~8任一項所述的電解銅箔,其特征在于,在所述粗化粒子層或所述覆鍍處理層上,設有耐熱/防銹層,所述耐熱/防銹層含有選自鋅、鎳、銅、磷的至少一種元素。
11.根據權利要求9所述的電解銅箔,其特征在于,在所述粗化粒子層或所述覆鍍處理層上,設有耐熱/防銹層,所述耐熱/防銹層含有選自鋅、鎳、銅、磷的至少一種元素。
12.根據權利要求10所述的電解銅箔,其特征在于,在所述耐熱/防銹層上,具有鉻酸鹽覆膜層。
13.根據權利要求11所述的電解銅箔,其特征在于,在所述耐熱/防銹層上,具有鉻酸鹽覆膜層。
14.根據權利要求12所述的電解銅箔,其特征在于,在所述鉻酸鹽覆膜層上,具有硅烷偶聯劑層。
15.根據權利要求13所述的電解銅箔,其特征在于,在所述鉻酸鹽覆膜層上,具有硅烷偶聯劑層。
16.一種電解銅箔,所述電解銅箔是在電解銅箔的粗化面(M面)上形成粗化粒子的電解銅箔,其特征在于,所述粗化粒子的平均大小為0.1~1.0μm,粗化粒子數平均為1~2個/μm2,所述平均大小是從該粗化粒子的該粗化面的任意2點觀察到的垂直剖面上的粒子大小和任意2點觀察到的水平面上的粒子大小的平均值,該粒子大小是以SEM 1萬倍圖像觀察到的該粗化粒子進行線性分析法后計量的結果。
17.根據權利要求16所述的電解銅箔,其特征在于,所述電解銅箔的粗化面(M面)的表面粗糙度Rz為3.0μm以下,Ra低于0.6μm,Rt低于4.0μm。
18.根據權利要求16所述的電解銅箔,其特征在于,所述電解銅箔與BT基材的常態剝離強度為1.0kN/m以上。
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