[發明專利]移動體裝置、曝光裝置、平板顯示器的制造方法、及元件制造方法有效
| 申請號: | 201280042125.X | 申請日: | 2012-08-30 |
| 公開(公告)號: | CN103765554B | 公開(公告)日: | 2016-11-23 |
| 發明(設計)人: | 青木保夫 | 申請(專利權)人: | 株式會社尼康 |
| 主分類號: | H01L21/027 | 分類號: | H01L21/027 |
| 代理公司: | 北京三友知識產權代理有限公司 11127 | 代理人: | 湯在彥 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 移動 裝置 曝光 平板 顯示器 制造 方法 元件 | ||
技術領域
本發明是關于移動體裝置、曝光裝置、平板顯示器的制造方法、及元件制造方法,更詳言的,是關于將保持物體的物體保持構件沿水平面驅動的移動體裝置、包含前述移動體裝置而于前述物體形成既定圖案的曝光裝置、使用前述曝光裝置的平板顯示器的制造方法、以及使用前述曝光裝置的元件制造方法。
背景技術
以往,在制造液晶顯示元件、半導體元件(集成電路等)等電子元件(微型元件)的光刻工藝中,是使用一邊使掩膜或標線片(以下總稱為“掩膜”)與玻璃板或晶片(以下總稱為“基板”)沿既定掃描方向(SCAN方向)同步移動、一邊使用能量束將形成于掩膜的圖案轉印至基板上的步進掃描方式的曝光裝置。
作為此種曝光裝置,由于是以高速且高精度控制基板的水平面內的位置(掃描方向、交叉掃描方向、以及繞正交于水平面的軸線的方向的位置),因此已知一種具有所謂支架(gantry)類型的2軸粗動載臺與微動載臺組合而成的粗微動構成的基板載臺裝置者(參照例如專利文獻1)。
隨著近年基板的大型化,基板載臺裝置亦隨之大型化,因而被期望有一種簡單構成且能以高精度且高速進行大型基板的水平面內的位置控制的基板載臺裝置。
現有技術文獻
專利文獻
專利文獻1:美國發明專利申請公開第2010/0018950號。
發明內容
用以解決課題的手段
本發明有鑒于上述情事而為,從第1觀點觀之,為一種移動體裝置,其具備:第1移動體,可在沿與水平面平行的二維平面內的第1方向的位置移動;第2移動體,設于前述第1移動體,能與前述第1移動體一起在沿前述第1方向的位置移動,且能相對前述第1移動體沿在前述二維平面內與前述第1方向正交的第2方向的位置移動;物體保持構件,保持物體,被前述第2移動體誘導而沿前述二維平面移動;第1導引構件,在前述第1方向配置于前述第1移動體一側,從下方支承在前述物體保持構件沿前述第2方向移動時該物體保持構件在前述第1方向的一側區域,且能與前述物體保持構件一起沿前述第1方向移動;以及第2導引構件,在前述第1方向配置于前述第1移動體另一側,從下方支承在前述物體保持構件沿前述第2方向移動時該物體保持構件在前述第1方向的另一側區域,且能與前述物體保持構件一起沿前述第1方向移動。
藉此,物體保持構件是通過第1及第2移動體沿與水平面平行的二維平面被誘導。從下方支承物體保持構件在第1方向的一側及另一側區域的第1及第2導引構件,由于與物體保持構件一起沿第1方向移動,因此裝置的構成簡單。
本發明從第2觀點觀之,為一種曝光裝置,其具備:本發明第1觀點的移動體裝置;以及使用能量束于保持于前述物體保持構件的前述物體形成既定圖案的圖案形成裝置。
本發明從第3觀點觀之,為一種平板顯示器的制造方法,其包含:使用本發明第2觀點的曝光裝置使前述物體曝光的動作;以及使曝光后的前述物體顯影的動作。
本發明從第4觀點觀之,為一種元件制造方法,其包含:使用本發明第2觀點的曝光裝置的曝光裝置使前述物體曝光的動作;以及使曝光后的前述物體顯影的動作。
附圖說明
圖1為概略顯略一實施形態的液晶曝光裝置的構成的圖。
圖2為圖1的液晶曝光裝置所具有的基板載臺裝置的俯視圖。
圖3為圖2的B-B線剖面圖。
具體實施方式
以下,使用圖1~圖3說明一實施形態。
圖1為概略顯示一實施形態的液晶曝光裝置10的構成。液晶曝光裝置10是用于液晶顯示裝置(平板顯示器)等的矩形(角型)玻璃基板P(以下單稱為基板P)為曝光對象物的步進掃描方式的投影曝光裝置、亦即所謂掃描機。
液晶曝光裝置10包含照明系12、保持掩膜M的掩膜載臺14、投影光學系16、基板載臺架臺18、保持于表面(在圖1中為朝向+Z側的面)涂布有抗蝕劑(感應劑)的基板P的基板載臺裝置20、以及此等的控制系等。以下的說明中,將在曝光時掩膜M與基板P相對投影光學系16分別相對掃描的方向設為X軸方向、將在水平面內與X軸正交的方向設為Y軸方向、將與X軸及Y軸正交的方向設為Z軸方向,且將繞X軸、Y軸、及Z軸的旋轉方向分別設為θx、θy、及θz方向。
照明系12,與例如美國發明專利第5,729,331號說明書等所揭示的照明系為相同構成。亦即,照明系12是將曝光用的照明光IL照射于掩膜M。照明光IL使用例如i線(波長365nm)、g線(波長436nm)、h線(波長405nm)等的光(或者上述i線、g線、h線的合成光)。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





