[發明專利]移動體裝置、曝光裝置、平板顯示器的制造方法、及元件制造方法有效
| 申請號： | 201280042125.X | 申請日： | 2012-08-30 |
| 公開（公告）號： | CN103765554B | 公開（公告）日： | 2016-11-23 |
| 發明（設計）人： | 青木保夫 | 申請（專利權）人： | 株式會社尼康 |
| 主分類號： | H01L21/027 | 分類號： | H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京三友知識產權代理有限公司 11127 | 代理人： | 湯在彥 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 移動 裝置 曝光 平板 顯示器 制造 方法 元件 | ||
1.一種移動體裝置，其特征在于，具備：
第1移動體，可在沿與水平面平行的二維平面內的第1方向的位置移動；
第2移動體，設于所述第1移動體，能與所述第1移動體一起在沿所述第1方向的位置移動，且能相對所述第1移動體沿在所述二維平面內與所述第1方向正交的第2方向的位置移動；
物體保持構件，保持物體，被所述第2移動體誘導而沿所述二維平面移動；
第1導引構件，在所述第1方向配置于所述第1移動體一側，從下方支承在所述物體保持構件沿所述第2方向移動時所述物體保持構件在所述第1方向的一側區域，且能與所述物體保持構件一起沿所述第1方向移動；以及
第2導引構件，在所述第1方向配置于所述第1移動體另一側，從下方支承在所述物體保持構件沿所述第2方向移動時所述物體保持構件在所述第1方向的另一側區域，且能與所述物體保持構件一起沿所述第1方向移動。
2.根據權利要求1所述的移動體裝置，其特征在于，所述物體保持構件以非接觸方式支承于所述第1及第2導引構件。
3.根據權利要求2所述的移動體裝置，其特征在于，所述物體保持構件通過供應至所述物體保持構件與所述第1導引構件之間、以及所述物體保持構件與第2導引構件之間的氣體的靜壓以非接觸方式懸浮于所述第1及第2導引構件上。
4.根據權利要求1至3中任一項所述的移動體裝置，其特征在于，進一步具備將所述物體保持構件相對所述第2移動體往所述第1及第2方向、以及繞與所述水平面正交的軸微幅驅動的致動器。
5.根據權利要求4所述的移動體裝置，其特征在于，所述物體保持構件通過所述致動器產生的推力沿所述水平面被所述第2移動體誘導。
6.根據權利要求1至5中任一項所述的移動體裝置，其特征在于，進一步具備將所述第1移動體與所述第1及第2導引構件物理性連結的連結構件。
7.一種曝光裝置，其特征在于，具備：
權利要求1至6中任一項所述的移動體裝置；以及
使用能量束于保持于所述物體保持構件的所述物體形成既定圖案的圖案形成裝置。
8.根據權利要求7所述的曝光裝置，其特征在于，在對所述物體形成所述圖案時，所述移動體裝置使所述物體相對所述能量束沿所述第2方向移動。
9.根據權利要求7或8所述的曝光裝置，其特征在于，所述物體用于平板顯示器裝置的基板。
10.根據權利要求9所述的曝光裝置，其特征在于，所述基板至少一邊的長度或對角長為500mm以上。
11.一種平板顯示器的制造方法，其特征在于，包含：
使用權利要求9或10所述的曝光裝置使物體曝光的動作；以及
使曝光后的所述物體顯影的動作。
12.一種元件制造方法，其特征在于，包含：
使用權利要求7或8所述的曝光裝置使物體曝光的動作；以及
使曝光后的所述物體顯影的動作。
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H01L 半導體器件；其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置；專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理；集成電路器件或其特殊部件的制造
