[發明專利]在成像式曝光于光化輻射下之后形成構圖層的聚合物及其組合物

有效

• 申請號: 201280034811.2
• 申請日: 2012-07-16
• 公開（公告）號: CN103649220A
• 公開（公告）日: 2014-03-19
• 發明（設計）人: 大西治;池田治生;田頭宣雄;L·羅德斯;P·坎達納拉什切
• 申請（專利權）人: 住友電木株式會社;普羅米魯斯有限責任公司
• 主分類號: C08L65/00
• 分類號: C08L65/00
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 11038
• 代理人: 陳季壯

1.形成層的聚合物組合物，它包括：

由降冰片烯-型重復單元和馬來酸酐-型重復單元組成的可自成像的聚合物，其中：

這種降冰片烯-型重復單元用式Ia表示，它衍生于式I表示的降冰片烯-型單體：

其中m為0，1或2，對于所述第一類型的重復單元來說，每一R¹,R²,R³和R⁴獨立地為氫或在可見光光譜內具有高透明度的烴基側基；

這一馬來酸酐-型重復單元用式IIa，IIb和IIc中的一個或更多個表示，它衍生于用式II表示的馬來酸酐單體：

其中R⁵和R⁶各自獨立地為氫，甲基，乙基，氟化或全氟化甲基或乙基，直鏈或支鏈C₃-C₉烴基；直鏈或支鏈的氟化或全氟化C₃-C₉烴基；C₆-C₁₈取代或未取代的環狀或多環烴基之一；

光活性化合物(PAC)；

含至少兩個環氧基的環氧樹脂；和

溶劑。

2.權利要求1的形成層的聚合物組合物，進一步包括由用式III表示的馬來酸酐-型單體衍生的馬來酸酐-型重復單元：

其中R⁷和R⁸相同或不同且選自氫，甲基和乙基。

3.權利要求1的聚合物組合物，其中R⁵是甲基，乙基，丙基，異丙基，丁基，異丁基，仲丁基，或叔丁基之一。

4.權利要求1的聚合物組合物，其中環氧樹脂包含三個環氧基。

5.權利要求1或2的聚合物組合物，其中PAC是Tris-P3M6C-2-201,4NT-300或TS-300。

6.權利要求5的聚合物組合物，其中溶劑是丙二醇單甲醚乙酸酯(PGMEA)，乳酸乙酯，甲基正戊基酮(MAK)或其混合物。

7.權利要求5的聚合物組合物，其中R¹-R⁴各自為氫，R⁵是丁基，和環氧樹脂是Techmore?VG3101L，三羥甲基丙烷三縮水甘油基醚(TMPTGE)或雙酚A環氧樹脂(LX-1)。

8.權利要求6的聚合物組合物，其中PAC是Tris-P3M6C-2-201，環氧樹脂是Techmore?VG3101L，和溶劑是丙二醇單甲醚乙酸酯(PGMEA)。

9.由權利要求1的聚合物組合物形成的聚合物層，在1MHz下，它的介電常數小于或等于3.2。

10.權利要求1的聚合物層，它在250℃下固化30分鐘之后，在400nm下的透明度大于85%。