[發(fā)明專利]用于多晶硅反應(yīng)器的清潔工具

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201280032284.1
• 申請日: 2012-06-29
• 公開（公告）號: CN103619498A
• 公開（公告）日: 2014-03-05
• 發(fā)明（設(shè)計）人: E·博維奧;P·莫里諾;D·加瓦
• 申請（專利權(quán)）人: MEMC電子材料有限公司
• 主分類號: B08B9/08
• 分類號: B08B9/08
• 代理公司: 北京市中咨律師事務(wù)所 11247
• 代理人: 秘鳳華;吳鵬

1.一種用于清潔化學(xué)氣相沉積反應(yīng)器鐘形殼的內(nèi)表面的系統(tǒng)，所述系統(tǒng)包括：

用于連接到所述反應(yīng)器鐘形殼的凸緣上的框架；

連接到所述框架的致動機構(gòu)，所述致動機構(gòu)構(gòu)造成在所述反應(yīng)器鐘形殼連接到所述框架時，在所述反應(yīng)器鐘形殼的內(nèi)部空間內(nèi)作垂直及轉(zhuǎn)動運動；

與所述致動機構(gòu)連接的至少一個刷子，所述刷子構(gòu)造成與所述反應(yīng)器鐘形殼的內(nèi)表面接觸；和

連接到所述致動機構(gòu)的至少一個噴嘴，所述噴嘴構(gòu)造成將液體流引向所述反應(yīng)器鐘形殼的內(nèi)表面。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述系統(tǒng)還包括與所述至少一個刷子連接的旋轉(zhuǎn)致動器，所述旋轉(zhuǎn)致動器構(gòu)造成轉(zhuǎn)動所述刷子。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述系統(tǒng)還包括將所述至少一個刷子連接到所述致動機構(gòu)的線性致動器。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述系統(tǒng)還包括干燥噴嘴，用于將氣體流引向形成在所述反應(yīng)器鐘形殼內(nèi)的窗口的內(nèi)表面。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述系統(tǒng)還包括幫助檢視所述窗口的光源。

6.一種利用刷子清潔化學(xué)氣相沉積反應(yīng)器鐘形殼的內(nèi)表面的方法，所述方法包括：

將所述反應(yīng)器鐘形殼設(shè)置在一框架上；

操作第一致動器，以使刷子與所述反應(yīng)器鐘形殼的內(nèi)表面接合；

將液體流從噴嘴引向所述反應(yīng)器鐘形殼的內(nèi)表面；以及

操作第二致動器以轉(zhuǎn)動所述刷子。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法，其特征在于，所述方法還包括使致動機構(gòu)圍繞平行于所述反應(yīng)器鐘形殼的縱向軸線的垂直軸線轉(zhuǎn)動。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法，其特征在于，所述方法還包括沿平行于所述反應(yīng)器鐘形殼的縱向軸線的垂直軸線移動所述致動機構(gòu)。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的方法，其特征在于，所述方法還包括測量所述內(nèi)表面的污染物的數(shù)量。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的方法，其特征在于，所述方法還包括基于所述內(nèi)表面的污染物的數(shù)量調(diào)整轉(zhuǎn)動和垂直運動的速率。

11.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法，其特征在于，所述方法還包括將氣體流引向形成在所述反應(yīng)器鐘形殼內(nèi)的窗口的內(nèi)表面。