[發明專利]用于拋光的結構構件

有效

• 申請號: 201280028637.0
• 申請日: 2012-06-08
• 公開（公告）號: CN103596729B
• 公開（公告）日: 2017-01-18
• 發明（設計）人: 藤田淳;齋藤裕輔
• 申請（專利權）人: 3M創新有限公司
• 主分類號: B24D3/20
• 分類號: B24D3/20;B24D11/00;B24D3/34
• 代理公司: 北京天昊聯合知識產權代理有限公司11112
• 代理人: 丁業平,金小芳

1.一種用于拋光的結構構件，所述結構構件包括支撐構件、拋光材料和粘結所述支撐構件與所述拋光材料的粘合劑層；其中所述粘合劑層包括單體的聚合物，所述單體包括58重量%至85重量%的第一單體、2重量%至7重量%的第二單體、以及10重量%至40重量%的第三單體；其中所述第一單體為具有碳數為8至18個碳原子的烷基基團的(甲基)丙烯酸烷基酯，并提供玻璃化轉變溫度為0℃或更低的均聚物；所述第二單體為提供玻璃化轉變溫度為50℃或更高的均聚物的極性單體；并且所述第三單體為具有碳數為4至18個碳原子的烷基基團或碳數為7至18個碳原子的芳烷基基團的(甲基)丙烯酸烷基酯，并提供玻璃化轉變溫度為10℃或更高的均聚物。

2.根據權利要求1所述的用于拋光的結構構件，其中所述聚合物的玻璃化轉變溫度介于-25℃和10℃之間。

3.根據權利要求2所述的用于拋光的結構構件，其中所述聚合物的玻璃化轉變溫度介于-15℃和10℃之間。

4.根據權利要求1所述的用于拋光的結構構件，其中所述粘合劑層的加工液吸收小于5重量%，其中所述加工液吸收在粘合劑層之上測量，所述粘合劑層具有25mm×70mm×250微米厚度的尺寸，具有隔離襯墊，所述測量在移除所述隔離襯墊之一并將所述粘合劑層于23℃下在10%的SABRELUBE9016水溶液中浸泡10天后進行。

5.根據權利要求1所述的用于拋光的結構構件，其中所述拋光材料包含基體材料和拋光層。

6.根據權利要求5所述的用于拋光的結構構件，其中所述拋光層包含多個固體元件。

7.根據權利要求6所述的用于拋光的結構構件，其中所述多個固體元件包含多個磨粒和它們的粘結劑。

8.根據權利要求1、3或7中任一項所述的用于拋光的結構構件，其中所述粘合劑層的厚度介于50μm和500μm之間。

9.根據權利要求1所述的用于拋光的結構構件，所述結構構件還包含設置在所述支撐構件的另一表面側上的可移除的粘合劑層。