[發明專利]使用了強制薄膜式流體處理裝置的防止附著物附著的方法

有效

• 申請號: 201280026005.0
• 申請日: 2012-03-15
• 公開（公告）號: CN103561856A
• 公開（公告）日: 2014-02-05
• 發明（設計）人: 荒木加永子;前川昌輝;本田大介;榎村真一
• 申請（專利權）人: M技術株式會社
• 主分類號: B01J19/00
• 分類號: B01J19/00;B01F3/08;B01J13/00
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 11038
• 代理人: 賈成功

1.一種防止附著物附著的方法，其特征在于,其為以下的流體處理方法:

作為被處理流動體使用至少2種流體，

其中至少1種流體是含有至少1種原料物質的原料流體，

在上述以外的流體中至少其它的1種流體是用于處理上述原料物質的流體，

將上述的2種以上的被處理流動體在對向配設了的、可接近·分離的、至少一方相對于另一方相對進行旋轉的至少2個處理用面之間產生的薄膜流體中混合，得到被處理了的原料物質；其中，

通過從對向配設了的、可接近·分離的、至少一方相對于另一方相對進行旋轉的至少2個處理用面的中央導入上述原料流體，

防止在上述處理用面間被處理了的原料物質附著于上述處理用面。

2.如權利要求1所述的防止附著物附著的方法，其特征在于，上述的處理為選自析出、乳化、分散、反應、凝集的至少任1種。

3.如權利要求1或2所述的防止附著物附著的方法，其特征在于，

上述原料流體一邊形成上述薄膜流體，一邊通過上述兩處理用面間，

具備與上述原料流體流過的流路獨立的另外的導入路，

上述至少2個處理用面的至少任一方具備至少一個與上述另外的導入路相通的開口部，

上述至少其它的1種流體從上述開口部導入上述處理用面之間，

上述原料流體和上述至少其它的1種流體在上述薄膜流體中進行混合。

4.如權利要求1～3的任一項所述的防止附著物附著的方法，其特征在于，在上述處理用面間被處理了的原料物質，為具有上述處理用面間的間隔以下的一次粒徑的微粒。

5.如權利要求3所述的防止附著物附著的方法，其特征在于，

上述處理用面的至少1個形成環狀，從該環狀的中央將上述原料流體導入上述處理用面間，

上述原料流體和上述的至少其它的1種流體合流的、最靠近環狀的中央的地點的上述兩處理用面間的間隙的總開口面積(a)，為與上述另外的導入路相通的開口部總開口面積(b)的5倍以下。

6.如權利要求3所述的防止附著物附著的方法，其特征在于，上述處理用面的至少1個形成環狀，從該環狀的中央將上述原料流體導入上述處理用面間，

具備至少2個以上與上述處理用面相通的上述另外的導入路的開口部，

上述原料流體和上述的至少其它的1種流體合流的、最靠近環狀的中央的地點的上述兩處理用面間的間隙的總開口面積(a)，為與上述其它導入路相通的開口部各自的開口面積的5倍以下。

7.如權利要求3～6的任一項所述的防止附著物附著的方法，其特征在于，與上述處理用面相通的上述另外的導入路的開口部的形狀為圓環形狀。

8.如權利要求3～7的任一項所述的防止附著物附著的方法，其特征在于，上述處理用面至少1個形成環狀，從該環狀的中央將上述原料流體導入上述處理用面間，

從上述環狀的中央導入上述處理用面間的每單位時間的上述原料流體的流量，為來自上述開口部的每單位時間的上述至少其它的1種流體的流量的0.1～20000倍。