[發明專利]LCST聚合物無效
| 申請號: | 201280017911.4 | 申請日: | 2012-04-11 |
| 公開(公告)號: | CN103476830A | 公開(公告)日: | 2013-12-25 |
| 發明(設計)人: | T·維斯;H-P·澤爾曼-埃格貝特;A·米斯克;W·斯皮格勒 | 申請(專利權)人: | 巴斯夫歐洲公司 |
| 主分類號: | C08G65/02 | 分類號: | C08G65/02;C08G65/332 |
| 代理公司: | 北京市中咨律師事務所 11247 | 代理人: | 林柏楠;劉金輝 |
| 地址: | 德國路*** | 國省代碼: | 德國;DE |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | lcst 聚合物 | ||
1.通式I的化合物:
其中
R1和R2各自(獨立地)是氫或烷基,更尤其是甲基,
A是含有基團A1和A2的基團,
其中
R3至R6是相同或不同的,并且各自是H,C1-C5烷基,更尤其是甲基、乙基、丙基,或芳基,更尤其是苯基,
l是1或0,
m是1或0,前提是l+m是至少1,
n是1-100,
o是0-5,
p是0-5,前提是o+p是3-5,
q是1-100,
其中根據2006年9月的德國標準DIN?EN1890按照方法E的工序檢測時,所述式I化合物具有40-80℃范圍內的濁點,更尤其是60-80℃,并且A2單元是包含在A基團中的末端位置處。
2.根據權利要求1的化合物,其中A由A1和A2組成。
3.根據上述權利要求之一或兩者的化合物,其中A1是以下基團之一:
4.根據上述權利要求中至少一項的化合物,其中A2是以下基團之一:
5.根據上述權利要求中至少一項的化合物,其中A具有以下結構之一:
-(PO)x-(EO)y-(PO)z,或
-(pTHF)x-(EO)y-(pTHF)z-,
其中
EO、PO和pTHF各自如權利要求2和3所定義,和其中
x和z是相同或不同的,各自是1-100,更尤其是1-10,和
y是1-100,更尤其是10-90。
6.根據權利要求5的化合物,其中,
x和z是相同或不同的,各自是5-20,和
y是60-80,更尤其是65-75。
7.根據上述權利要求中至少一項的化合物用于制備涂層的用途,其中將所述化合物施用到基質表面上并且聚合。
8.一種在從可熔融的基質S形成的成型制品的表面上制備基于根據上述權利要求中至少一項的式I化合物的涂層的方法,更尤其在熔融紡絲工藝中的纖維上或在擠出之后的自支持性膜上,此方法包括:
a)提供熔融形式的基質,
b)經由合適的設備V、優選口型或齒縫使熔融的基質形成成型制品,更尤其形成纖維或自支持性膜,其中,
c)成型制品在從所述設備V出來時具有高于所述式I化合物的濁點的溫度,和
d)使所述成型制品的表面在高于濁點的溫度下與所述式I化合物接觸,從而沉積所述式I化合物,
其中所述式I化合物中的雙鍵的聚合反應是在沉積到表面上之后引發的,從而在表面上形成優選交聯的涂層。
9.根據權利要求8的方法,其中
-成型制品在從所述設備V出來之后被加入優選含水的浴B中,所述浴B含有所述式I化合物和任選地聚合引發劑,其中成型制品在其進入所述浴時具有高于濁點的溫度,
-所述式I化合物沉積在成型制品上,
-所述浴具有低于濁點的溫度,和
-聚合在低于濁點的溫度下進行,或其中
-在根據本發明的所述式I化合物沉積到表面上之后,所述式I化合物中的雙鍵的聚合反應是通過光聚合進行的。
10.根據權利要求8的方法,其中從所述裝置V出來的成型制品立即在高于濁點的溫度下進入噴霧設備,并且在那里用所述式I化合物噴霧,優選以水溶液的形式進行,其中噴霧分散的聚合物的溫度低于濁點,從而在基質表面上沉積所述式I化合物。
11.根據上述權利要求中至少一項的方法,其中基質是聚酰胺、聚酯、聚丙烯或聚氨酯。
12.根據上述權利要求中至少一項的方法,其中成型制品在涂覆之后進行拉伸和卷繞。
13.根據上述權利要求中至少一項的方法,其中基質是玻璃、鋼或木材。
14.根據權利要求7的方法,其中雙鍵的聚合反應是在浴B中的處理之后進行的。
15.可根據上述權利要求中的至少一項獲得的成型制品。
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