[發(fā)明專利]光學(xué)設(shè)備用遮光材料

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201280015556.7
• 申請(qǐng)日: 2012-02-29
• 公開（公告）號(hào): CN103460080A
• 公開（公告）日: 2013-12-18
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 豐島靖麿;大久保貴志
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 木本股份有限公司
• 主分類號(hào): G02B5/00
• 分類號(hào): G02B5/00;G03B9/02;G03B9/10
• 代理公司: 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021
• 代理人: 張玉玲

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及可以適當(dāng)用于各種光學(xué)設(shè)備的遮光部件、特別是具備完全消光性能的遮光材料。

背景技術(shù)

作為光學(xué)設(shè)備的以快門或光圈等為代表的遮光部件中使用的遮光材料，已知有在由合成樹脂構(gòu)成的薄膜基材上設(shè)置含有有機(jī)填料的遮光膜的遮光薄膜(專利文獻(xiàn)1)。

現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)1：日本特開平7-319004

發(fā)明內(nèi)容

發(fā)明所要解決的問題

專利文獻(xiàn)1中公開的遮光薄膜的遮光膜由于其表面僅由小的凹凸形成，所以遮光膜的消光性不完全。具體而言，雖然相對(duì)于遮光膜的膜面以幾乎接近垂直方向的角度入射的光的反射受到抑制，但是以接近平面方向的角度入射的光發(fā)生反射。該反射在光學(xué)設(shè)備內(nèi)成為稱為重影的不良情況，成為導(dǎo)致產(chǎn)品性能的降低的原因。這樣，專利文獻(xiàn)1的技術(shù)不能吸收以所有角度入射的光。

另外，為了維持作為遮光材料的產(chǎn)品性能，除了相對(duì)于以所有角度的入射光的低光澤性以外，還必須同時(shí)滿足遮光性。

本發(fā)明的一方面提供一種光學(xué)設(shè)備用遮光材料，其具有保持遮光性等遮光膜的必要物性、并且得到低光澤度的入射角度的區(qū)域(以下，低光澤度區(qū)域)寬的遮光膜。

用于解決問題的方法

本發(fā)明者們對(duì)規(guī)定遮光膜的表面性狀的各種要素進(jìn)行了反復(fù)研究。其結(jié)果發(fā)現(xiàn)，在遮光膜的任意位置的規(guī)定區(qū)域中，通過適當(dāng)?shù)卣{(diào)整三維表面粗糙度測(cè)定中的幾個(gè)參數(shù)的值，不但對(duì)于相對(duì)于遮光膜的膜面以幾乎接近垂直方向的角度(例如20度)、或60度入射的光，就連對(duì)于以接近平面方向的角度(例如85度)入射的光，也能夠可靠地抑制相對(duì)于該入射光的反射光，能夠擴(kuò)大低光澤度區(qū)域的寬度。

即本發(fā)明所述的光學(xué)設(shè)備用遮光材料的特征在于，其是具有遮光膜的光學(xué)設(shè)備用遮光材料，其中，遮光膜按照滿足條件A1及條件A2中的至少任一者、和條件B1及條件B2中的至少任一者的方式調(diào)整表面性狀。

條件A1：設(shè)三維表面粗糙度測(cè)定中的算術(shù)平均粗糙度為Sa時(shí)，Sa的值達(dá)到0.4以上且2.0以下的條件，

條件A2：設(shè)三維表面粗糙度測(cè)定中的十點(diǎn)平均粗糙度為Sz時(shí)，Sz的值達(dá)到1以上且20以下的條件，

條件B1：以三維表面粗糙度測(cè)定中的凹凸的中心平面為基準(zhǔn)面，設(shè)從該基準(zhǔn)面突出于位于Sa的n倍的高度位置的平面的突起數(shù)為Pn，設(shè)突出于位于Sa的(n+1)倍的高度位置的平面的突起數(shù)為P_n+1，設(shè)Pn與P_n+1的比(P_n+1/Pn)為Rn時(shí)(其中，n均為正的整數(shù)。)，R1達(dá)到55％以上、且R4達(dá)到7％以上的條件，

條件B2：與條件B1相同地設(shè)定Pn、P_n+1、Rn時(shí)，至少R1達(dá)到55％以上、R2達(dá)到15％以上、及R3達(dá)到8％以上的條件。

本發(fā)明所述的光學(xué)設(shè)備用遮光材料優(yōu)選條件B2進(jìn)一步包含R4達(dá)到7％以上的條件。

本發(fā)明所述的光學(xué)設(shè)備用遮光材料一般是在基材上層疊遮光膜而構(gòu)成的。此時(shí)，遮光膜至少含有粘合劑樹脂、黑色微粒及消光劑而構(gòu)成。但是，本發(fā)明中并不限定于這樣的層疊結(jié)構(gòu)的構(gòu)成方式，例如，也可以考慮使用模具使含有黑色微粒的樹脂混合物賦型固化而成的成型物的方式。

發(fā)明的效果

根據(jù)本發(fā)明所述的光學(xué)設(shè)備用遮光材料，由于遮光膜的表面性狀被適當(dāng)?shù)卣{(diào)整，所以對(duì)該遮光膜賦予了低光澤度區(qū)域?qū)挼耐耆南庑Ч?例如后述的G20、G60及G85均低)。此外，由于遮光膜含有粘合劑樹脂和黑色微粒，所以保持了遮光性等必要物性。

另外，如上所述，專利文獻(xiàn)1中公開的遮光薄膜的遮光膜由于其表面僅以小的凹凸形成，其結(jié)果是，表面性狀沒有被適當(dāng)?shù)乜刂疲詿o(wú)法發(fā)揮完全的消光效果。

附圖說明

圖1是表示本發(fā)明的一實(shí)施方式所述的光學(xué)設(shè)備用遮光材料的遮光膜的局部剖面立體圖。

圖2是從略上方(遮光膜側(cè))觀察圖1的遮光材料的平面圖。

圖3是將圖1的遮光材料在任意位置沿厚度方向剖斷時(shí)，其剖斷部位的剖面影像圖。

符號(hào)的說明

1…光學(xué)設(shè)備用遮光材料

2…基材

4…遮光膜。

具體實(shí)施方式

以下，基于附圖對(duì)本發(fā)明的一實(shí)施方式進(jìn)行說明。