[發(fā)明專利]光學(xué)設(shè)備用遮光材料有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201280015556.7 | 申請日： | 2012-02-29 |
| 公開（公告）號： | CN103460080A | 公開（公告）日： | 2013-12-18 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 豐島靖麿;大久保貴志 | 申請（專利權(quán)）人： | 木本股份有限公司 |
| 主分類號： | G02B5/00 | 分類號： | G02B5/00;G03B9/02;G03B9/10 |
| 代理公司： | 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021 | 代理人： | 張玉玲 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 光學(xué) 備用 遮光 材料 | ||
1.一種光學(xué)設(shè)備用遮光材料，其是具有遮光膜的光學(xué)設(shè)備用遮光材料，其中，
所述遮光膜按照滿足下述條件A1及條件A2中的至少任一者、和下述條件B1及條件B2中的至少任一者的方式調(diào)整表面性狀，
條件A1：設(shè)三維表面粗糙度測定中的算術(shù)平均粗糙度為Sa時，Sa的值達(dá)到0.4以上且2.0以下的條件，
條件A2：設(shè)三維表面粗糙度測定中的十點(diǎn)平均粗糙度為Sz時，Sz的值達(dá)到1以上且20以下的條件，
條件B1：以三維表面粗糙度測定中的凹凸的中心平面為基準(zhǔn)面，設(shè)從該基準(zhǔn)面突出于位于Sa的n倍的高度位置的平面的突起數(shù)為Pn，設(shè)突出于位于Sa的(n+1)倍的高度位置的平面的突起數(shù)為Pn+1，設(shè)Pn與Pn+1的比(Pn+1/Pn)為Rn時，R1達(dá)到55％以上、且R4達(dá)到7％以上的條件，其中，n均為正的整數(shù)，
條件B2：與條件B1相同地設(shè)定Pn、Pn+1、Rn時，至少R1達(dá)到55％以上、R2達(dá)到15％以上、及R3達(dá)到8％以上的條件。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)設(shè)備用遮光材料，其中，
所述遮光膜至少含有粘合劑樹脂、黑色微粒及消光劑而構(gòu)成，且層疊在基材上。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的光學(xué)設(shè)備用遮光材料，其中，
所述條件B2進(jìn)一步包含R4達(dá)到7％以上的條件。
4.一種光學(xué)部件，其使用了權(quán)利要求1～3中任一項所述的遮光材料。
5.一種攝像裝置，其包含權(quán)利要求4所述的光學(xué)部件。
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