[發(fā)明專利]光學設(shè)備用遮光材料及其制造方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201280015546.3
• 申請日: 2012-02-29
• 公開（公告）號: CN103443666A
• 公開（公告）日: 2013-12-11
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 豐島靖麿;大久保貴志
• 申請（專利權(quán)）人: 木本股份有限公司
• 主分類號: G02B5/00
• 分類號: G02B5/00;G03B9/02;G03B9/10
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 張玉玲

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及制造可適合用于各種光學設(shè)備的遮光部件、特別是具備完全消光性能的遮光材料的方法、和通過該方法制造的遮光材料。

背景技術(shù)

作為光學設(shè)備的以快門或光圈等為代表的遮光部件中使用的遮光材料，已知有在由合成樹脂構(gòu)成的薄膜基材上設(shè)置含有有機填料的遮光膜的遮光薄膜(專利文獻1)。

現(xiàn)有技術(shù)文獻

專利文獻

專利文獻1：日本特開平7-319004

發(fā)明內(nèi)容

發(fā)明所要解決的問題

專利文獻1中，由于使用含有僅控制了平均粒徑的有機填料的涂敷液而在薄膜基材上形成遮光膜，所以遮光膜的消光性不完全。具體而言，雖然相對于遮光膜的膜面以幾乎接近垂直方向的角度入射來的光的反射受到抑制，但是以接近平面方向的角度入射來的光發(fā)生反射。該反射在光學設(shè)備內(nèi)成為稱為重影的不良情況，成為導致產(chǎn)品性能的降低的原因。這樣，專利文獻1的技術(shù)不能吸收以所有角度入射來的光。

此外，專利文獻1中由于使用含有僅控制了平均粒徑的有機填料的涂敷液，所以得到低光澤度的遮光膜的膜厚范圍非常窄，其形成并不容易。

另外，為了維持作為遮光材料的產(chǎn)品性能，除了相對于所有角度的入射光的低光澤性以外，還必須同時滿足遮光性。

本發(fā)明的一方面提供用于制造具有保持遮光性等遮光膜的必要物性、并且得到低光澤度的入射角度的區(qū)域(以下，低光澤度區(qū)域)寬的遮光膜的光學設(shè)備用遮光材料的方法、和通過該方法制造的光學設(shè)備用遮光材料。本發(fā)明的另一方面提供能夠以各種膜厚形成低光澤度區(qū)域?qū)挼恼诠饽さ恼诠饽ば纬捎猛糠笠骸?/p>

用于解決問題的方法

作為可對遮光膜直接賦予消光效果(與低光澤性同義)的消光劑的選定基準，本發(fā)明者們不著眼于平均粒徑，而著眼于粒度分布進行了研究。其結(jié)果發(fā)現(xiàn)，通過采用某粒徑下的粒度分布寬的消光劑，從而保持遮光膜的必要物性，并且不但對于相對于遮光膜的膜面以幾乎接近垂直方向的角度(例如20度)、或60度入射的光，就連對于以接近平面方向的角度(例如85度)入射來的光，也能夠可靠地抑制相對于該入射光的反射光，能夠擴大低光澤度區(qū)域的寬度。

此外還發(fā)現(xiàn)，通過采用上述特定的消光劑，能夠以各種膜厚形成低光澤度區(qū)域?qū)挼恼诠饽ぃ茨軌驍U大得到低光澤度的合適的膜厚范圍。

即本發(fā)明所述的光學設(shè)備用遮光材料的制造方法的特征在于，其是制造在基材上形成有遮光膜的光學設(shè)備用遮光材料的方法，其中，準備至少含有粘合劑樹脂、黑色微粒、及變異系數(shù)(CV值)為20以上的消光劑的涂敷液，將該涂敷液涂布到基材上，使其干燥，形成遮光膜。

本發(fā)明所述的光學設(shè)備用遮光材料的特征在于，其是在基材上具有至少含有粘合劑樹脂、黑色微粒及消光劑的遮光膜的光學設(shè)備用遮光材料，其中，上述遮光膜使用含有變異系數(shù)為20以上的消光劑的涂敷液而形成，60度鏡面光澤度(G60)被調(diào)整為低于1，且85度鏡面光澤度(G85)被調(diào)整為低于15。

本發(fā)明所述的遮光膜形成用涂敷液的特征在于，其是用于形成在基材上具有遮光膜的光學設(shè)備用遮光材料的上述遮光膜的涂敷液，其中，至少含有粘合劑樹脂、黑色微粒、消光劑及溶劑，上述消光劑的變異系數(shù)為20以上。

發(fā)明的效果

根據(jù)上述發(fā)明方法，由于使用含有變異系數(shù)為20以上的消光劑的涂敷液，所以能夠在基材上形成賦予了低光澤度區(qū)域?qū)挼耐耆南庑Ч恼诠饽ぁ４送?，由于涂敷液中含有粘合劑樹脂和黑色微粒，所以對于所形成的遮光膜，也能夠保持遮光性等必要物性?/p>

根據(jù)通過上述發(fā)明方法制造的光學設(shè)備用遮光材料，由于使用含有變異系數(shù)為20以上的消光劑的涂敷液來形成遮光膜，所以對該遮光膜賦予了低光澤度區(qū)域?qū)挼耐耆南庑Ч?例如后述的G20、G60及G85均低)。

根據(jù)利用上述發(fā)明的涂敷液，由于含有變異系數(shù)為20以上的消光劑，所以容易以各種膜厚形成賦予了低光澤度區(qū)域?qū)挼耐耆南庑Ч恼诠饽ぁＨ缟纤?，專利文獻1中使用的涂敷液由于含有僅控制了平均粒徑的有機填料，所以得到低光澤度的遮光膜的膜厚范圍極小，且極難控制有機填料的存在狀態(tài)，操作性差。

具體實施方式

以下，對本發(fā)明的一實施方式進行說明。

本實施方式所述的光學設(shè)備用遮光材料可以適當用于照相機(包括帶有照相機的手機)或投影機等光學設(shè)備的遮光部件，且具有基材。在基材的至少單面上形成有遮光膜。本實施方式的遮光膜至少含有粘合劑樹脂、黑色微粒及消光劑而構(gòu)成。