[發明專利]光學設備用遮光材料及其制造方法有效
| 申請號： | 201280015546.3 | 申請日： | 2012-02-29 |
| 公開（公告）號： | CN103443666A | 公開（公告）日： | 2013-12-11 |
| 發明（設計）人： | 豐島靖麿;大久保貴志 | 申請（專利權）人： | 木本股份有限公司 |
| 主分類號： | G02B5/00 | 分類號： | G02B5/00;G03B9/02;G03B9/10 |
| 代理公司： | 中科專利商標代理有限責任公司 11021 | 代理人： | 張玉玲 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 光學 備用 遮光 材料 及其 制造 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種光學設備用遮光材料的制造方法，其是制造在基材上形成有遮光膜的光學設備用遮光材料的方法，其特征在于，
準備至少含有粘合劑樹脂、黑色微粒、及變異系數為20以上的消光劑的涂敷液，將該涂敷液涂布到基材上，使其干燥，形成遮光膜。
2.根據權利要求1所述的制造方法，其特征在于，所述消光劑具有相當于所述遮光膜的膜厚的35～110％的平均粒徑。
3.根據權利要求2所述的制造方法，其特征在于，所述消光劑為平均粒徑為10μm以下的有機微粒。
4.根據權利要求1～3中任一項所述的制造方法，其特征在于，所述消光劑在所述涂敷液中的含量是相對于100重量份粘合劑樹脂為50重量份以上且170重量份以下。
5.一種光學設備用遮光材料，其特征在于，其是在基材上具有至少含有粘合劑樹脂、黑色微粒及消光劑的遮光膜的光學設備用遮光材料，其中，
所述遮光膜使用含有變異系數為20以上的消光劑的涂敷液而形成，
60度鏡面光澤度被調整為低于1，且85度鏡面光澤度被調整為低于15。
6.一種遮光膜形成用涂敷液，其特征在于，其用于形成在基材上具有遮光膜的光學設備用遮光材料的所述遮光膜，其中，
至少含有粘合劑樹脂、黑色微粒、消光劑及溶劑，
所述消光劑的變異系數為20以上。
7.一種光學部件，其使用了權利要求5所述的遮光材料。
8.一種攝像裝置，其包含權利要求7所述的光學部件。
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