[實用新型]一種微波天線有效
| 申請號： | 201220748697.7 | 申請日： | 2012-12-27 |
| 公開（公告）號： | CN203007416U | 公開（公告）日： | 2013-06-19 |
| 發明（設計）人： | 袁廣鋒 | 申請（專利權）人： | 英利能源（中國）有限公司 |
| 主分類號： | C23C16/511 | 分類號： | C23C16/511 |
| 代理公司： | 北京集佳知識產權代理有限公司 11227 | 代理人： | 魏曉波 |
| 地址： | 071051 河*** | 國省代碼： | 河北;13 |
| 權利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 微波 天線 | ||
【權利要求書】：
1.一種微波天線，其特征在于，包括等管徑的小管徑段、設置在所述小管徑段兩側的過渡段和與所述過渡段相連接且等管徑的大管徑段；
所述過渡段的管徑由所述小管徑段向所述大管徑段的方向逐漸增大。
2.根據權利要求1所述的微波天線，其特征在于，所述微波天線以所述小管徑段的中點為對稱中點。
3.根據權利要求2所述的微波天線，其特征在于，所述大管徑段的內徑為6mm，長度為30cm。
4.根據權利要求3所述的微波天線，其特征在于，所述小管徑段的內徑為3mm，長度為49cm。
5.根據權利要求4所述的微波天線，其特征在于，大管徑段的內徑比所述小管徑段的內徑大2mm至3mm。
6.根據權利要求5所述的微波天線，其特征在于，所述過渡段的長度為2mm至3mm。
7.根據權利要求1-6任一項中所述的微波天線，其特征在于，所述過渡段的內徑變化規律符合雙曲線函數關系。
下載完整專利技術內容需要扣除積分，VIP會員可以免費下載。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息，商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于英利能源（中國）有限公司，未經英利能源（中國）有限公司許可，擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作，請聯系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/201220748697.7/1.html，轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇：用于格子間辦公室的飲用水裝置
- 下一篇：一種用于發動機冷卻系統的變排量水泵
- 同類專利
- 專利分類
C23 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制
C23C 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面擴散法，化學轉化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆，例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上，例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的
C23C 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面擴散法，化學轉化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆，例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上，例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的
