[實用新型]一種掩模板

有效

• 申請號: 201220727273.2
• 申請日: 2012-12-26
• 公開（公告）號: CN203021640U
• 公開（公告）日: 2013-06-26
• 發明（設計）人: 唐軍
• 申請（專利權）人: 唐軍;錢超
• 主分類號: C23C14/04
• 分類號: C23C14/04
• 代理公司: 廣州市南鋒專利事務所有限公司 44228
• 代理人: 張志醒

技術領域

本實用新型涉及OLED顯示及照明技術領域，特別涉及一種掩模板。

背景技術

有機電致發光器件，具有自發光、反應時間快、視角廣、成本低、制造工藝簡單、分辨率佳及高亮度等多項優點，被認為是下一代的平面顯示器新興應用技術。在?OLED（Organic?Light-Emitting?Diode，有機電致發光二極管）?技術中，真空蒸鍍中的掩模板技術是一項非常重要和關鍵的技術，該技術的等級直接影響?OLED?產品的質量和制造成本。

在應用于蒸鍍時，傳統工藝的蒸鍍用掩模板一般采用正反同時蝕刻工藝，雖然可以制作出帶有一?定錐度的開口，但由于側蝕的原因，使得掩模板貼緊蒸鍍?ITO?玻璃基板的銦錫氧化物接觸面?的銦錫氧化物接觸面開口存在倒錐度，該種倒錐角的存在，產生死角區域?，由于該死角區域的存在，無法達到蒸鍍厚度要求，導致蒸鍍材料的成膜均勻性降低，影響蒸鍍質量，延長了蒸鍍時間，增加制造成本。

一般蒸鍍用蔭罩（即掩模板）的厚度在?100μm?左右，而需蒸鍍的有機材料膜的厚度在100nm左右，蔭罩上的開口尺寸最小可以是?10μm，所以無錐度開口的側壁勢必會在蒸鍍過程中產生遮擋。另一方面，如果通過減薄蔭罩的厚度的方法來降低蔭罩的遮擋程度，又會影響蔭罩的使用壽命，因為蔭罩過薄，易變形，影響的蔭罩的使用，降低蒸鍍質量。

實用新型內容

本實用新型的主要目的在于，針對上述現有技術中的不足，提供一種掩模板，既能提高有機發光材料的使用率和成膜率，又能提高掩模板的加工效率，具有工藝簡單、良品率高、加工效率高、制造成本低和實用性強等優點。

為實現上述發明目的，本實用新型提供一種掩模板，包括ITO接觸面和蒸鍍面，在所述蒸鍍面上設置有多個蒸鍍孔，所述蒸鍍孔自所述蒸鍍面貫穿至所述ITO接觸面，且截面呈階梯狀，所述蒸鍍孔包括同軸設置的第一段和第二段，所述蒸鍍孔的尺寸自所述第一段向第二段呈逐漸收縮狀。

優選地，所述第一段和第二段均由激光切割而成，且切割方向相同。

優選地，所述第二段呈錐形，所述錐形的錐角為4~10度。

優選地，所述掩模板的厚度為18～190μm。

優選地，所述第二段的垂直深度為10～50μm。

優選地，所述掩模板的材料為鎳鈷合金、鎳鐵合金、銦瓦合金中的任意一種，厚度為18～45μm。

本實用新型先采用激光工藝在蒸鍍面上加工出蒸鍍孔的第一段，再調整激光位置，繼續沿著第一段的末端向ITO接觸面繼續加工出第二段蒸鍍孔，由于激光加工出的蒸鍍孔的孔壁呈錐形，使蒸鍍孔在掩模板上呈現出逐漸收縮的態勢，克服了傳統工藝中出現的死角區域，使得在應用于蒸鍍時，有機發光顆粒可以較大限度地到達玻璃基板上的預定位置，從而提高了OLED顯示屏的質量，提高了有機發光材料的使用率和成膜率。同時，本實用新型僅使用激光工藝來完成蒸鍍孔的加工，省去了使用多種工藝加工蒸鍍孔時需要的二次拆卸和裝夾工序，也避免了使用多種工藝加工蒸鍍孔所帶來的安裝誤差，從而可有效提高蒸鍍孔的加工精度和加工效率，降低掩模板的生產成本，從而降低了OLED顯示屏的制造成本，具有廣闊的市場前景。

附圖說明

圖1是本實用新型實施例中掩模板的結構示意圖。

本實用新型目的的實現、功能特點及優點將結合實施例，參照附圖做進一步說明。

具體實施方式

以下將結合附圖及具體實施例詳細說明本實用新型的技術方案，以便更清楚、直觀地理解本實用新型的發明實質。

圖1是本實用新型實施例中掩模板的結構示意圖。

參照圖1所示，本實施例提供一種掩模板1，包括ITO接觸面11和蒸鍍面12，在蒸鍍面12上設置有多個呈中心對稱狀的蒸鍍孔2，蒸鍍孔2自蒸鍍面12貫穿至ITO接觸面11。蒸鍍孔2的截面呈階梯狀，包括同軸設置的第一段和第二段，蒸鍍孔的尺寸自第一段向第二段呈逐漸收縮狀。