[實用新型]一種掩模板有效
| 申請號： | 201220727273.2 | 申請日： | 2012-12-26 |
| 公開（公告）號： | CN203021640U | 公開（公告）日： | 2013-06-26 |
| 發明（設計）人： | 唐軍 | 申請（專利權）人： | 唐軍;錢超 |
| 主分類號： | C23C14/04 | 分類號： | C23C14/04 |
| 代理公司： | 廣州市南鋒專利事務所有限公司 44228 | 代理人： | 張志醒 |
| 地址： | 518000 廣東省深圳*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 模板 | ||
【權利要求書】：
1.一種掩模板，包括ITO接觸面和蒸鍍面，在所述蒸鍍面上設置有多個蒸鍍孔，所述蒸鍍孔自所述蒸鍍面貫穿至所述ITO接觸面，且截面呈階梯狀，其特征在于：所述蒸鍍孔包括同軸設置的第一段和第二段，所述蒸鍍孔的尺寸自所述第一段向第二段呈逐漸收縮狀。
2.如權利要求1所述的掩模板，其特征在于：所述第一段和第二段均由激光切割而成，且切割方向相同。
3.如權利要求2所述的掩模板，其特征在于：所述第二段呈錐形，所述錐形的錐角為4~10度。
4.如權利要求3所述的掩模板，其特征在于：所述掩模板的厚度為18～190μm。
5.如權利要求4所述的掩模板，其特征在于：所述第二段的垂直深度為10～50μm。
6.如權利要求1所述的掩模板，其特征在于：所述掩模板的材料為鎳鈷合金、鎳鐵合金、銦瓦合金中的任意一種，厚度為18～45μm。
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