[實用新型]采用電磁加熱的PVD設備

有效

• 申請號: 201220724407.5
• 申請日: 2012-12-25
• 公開（公告）號: CN203128645U
• 公開（公告）日: 2013-08-14
• 發明（設計）人: 王奉瑾
• 申請（專利權）人: 王奉瑾
• 主分類號: C23C14/26
• 分類號: C23C14/26
• 代理公司: 深圳中一專利商標事務所 44237
• 代理人: 張全文

技術領域

本實用新型屬于材料鍍膜設備領域，尤其涉及一種采用電磁加熱的PVD設備。?

背景技術

PVD是英文Physical?Vapor?Deposition（物理氣相沉積）的縮寫，指利用物理過程實現物質轉移，將靶材蒸發源的原子或分子轉移到基材表面上的過程。它的作用是可以是某些有特殊性能（強度高、耐磨性、散熱性、耐腐性等）的微粒噴涂在性能較低的母體上，使得母體具有更好的性能。PVD基本方法為：在真空條件下，采用低電壓、大電流的電弧放電技術，利用氣體放電使靶材蒸發并使被蒸發物質與氣體都發生電離，利用電場的加速作用，使被蒸發物質及其反應產物沉積在工件上。?

現有技術中，加熱方式一般都是使用電熱圈發熱，通過傳導的方式把熱量傳到料筒上，而這樣只有內側的熱量傳導到料筒上，外側的熱量大部分失散到空氣中，存在熱傳導損失，并導致環境溫度上升，另外電阻絲加熱還有一個缺點就是功率密度低，有一些需要溫度較高的場合就無法實現加熱靶材，將靶材激發形成鍍膜粒子。使用電熱圈發熱來加熱靶材的方式效率低，所鍍出來的膜厚也不均勻，鍍膜表面粗糙。?

實用新型內容

本實用新型的目的在于克服上述現有技術的不足，提供了一種采用電磁加熱的PVD設備，其加熱速度快，效率高，鍍膜均勻、表面光滑平整。?

本實用新型是這樣實現的：一種采用電磁加熱的PVD設備，包括殼體，所?述殼體具有密封的腔體，所述殼體內設置有將所述腔體分隔為上腔和下腔的密封裝置，用于容放靶材并將所述靶材蒸發形成鍍膜的蒸發舟設置于所述下腔內，所述殼體兩相對的側面分別開設有供待鍍材料進入的進料口、供所述待鍍材料離開的出料口，所述下腔體內還設置有用于加熱所述靶材的電磁加熱組件，所述電磁加熱組件套設于所述蒸發舟的外周。?

具體地，所述電磁加熱組件包括基架和纏繞于所述基架的線圈，所述線圈電連接有導線，所述導線的一端電連接于所述線圈，另一端延伸至殼體外且與外部電源電連接。?

具體地，所述基架開設有用于容納所述蒸發舟的安裝孔，所述安裝孔的形狀與所述蒸發舟的外形相匹配，所述蒸發舟設置于所述安裝孔內，所述蒸發舟上設置有容納所述靶材的容納腔。?

進一步地，所述下腔內于所述待鍍材料的兩側設置有用于改變所述靶材受熱后形成的鍍膜粒子的運動軌跡的磁極，所述磁極相對設置且設置有兩個。?

進一步地，所述基架和所述蒸發舟均連接有用于驅動所述基架和所述蒸發舟相對所述待鍍材料移動的驅動裝置，所述驅動裝置包括具有螺紋的絲桿及驅動所述絲桿轉動的第一電機，所述基架和所述蒸發舟均開設有與所述絲桿相匹配的螺紋孔，所述絲桿穿設于所述螺紋孔內。?

進一步地，所述進料口處和所述出料口處均設置有所述密封裝置，所述密封裝置包括彈性按壓于所述待鍍材料一面的第一滾筒和彈性按壓于所述待鍍材料另一面的第二滾筒，所述第一滾筒或所述第二滾連接有第二電機。?

進一步地，所述殼體內于所述進料口處和所述出料口處分別相對設有上支撐塊和下支撐塊，所述上支撐塊和下支撐塊分別設有部分收容所述第一滾筒和第二滾筒的弧形收容槽，各所述弧形收容槽表面分別與所述第一滾筒和第二滾筒的主體部相互接觸。?

進一步地，各所述上支撐塊和下支撐塊開設有循環冷卻槽道，各所述循環冷卻槽道包括進水管道和出水管道，各所述進水管道連接有進水三通管，所述?進水三通管具有第一進水端、第二進水端和第三進水端，所述第一進水端和所述第二進水端分別與各相對的所述進水管道連接，所述第三進水端連接于外部進水機構；各所述出水管道連接有出水三通管，所述出水三通管具有第一出水端、第二出水端和第三出水端，所述第一出水端和所述第二出水端分別與各相對的所述出水管道連接，所述第三出水端連接于外部出水機構。?

具體地，所述第三進水端伸出于所述殼體外，所述殼體設置有供所述第三進水端穿過的第一通孔，所述第三出水端伸出于所述殼體外，所述殼體設置有供所述第三出水端穿過的第二通孔。?

進一步的，所述采用電磁加熱的PVD設備還設置有主控器，用于監控鍍膜厚度的膜厚監控裝置、用于測溫的溫測裝置、用于測壓的測壓裝置和用于監控腔體內部環境的視頻監控裝置，所述膜厚監控裝置、所述溫測裝置、所述測壓裝置和所述視頻監控裝置均分別電連接于所述主控器。?

本實用新型提供的一種采用電磁加熱的PVD設備，密封的腔體分隔為上下兩個腔體，下腔內設置有用于加熱的電磁加熱組件，通過套設在蒸發舟外周電磁加熱組件的作用，使蒸發舟內的靶材受熱激發，對待鍍材料進行鍍膜，采用電磁對靶材進行加熱，其加熱速度快、控溫準確，鍍膜便捷，提高了生產效率，并且，形成的鍍膜均勻平整，達到了加工的要求。?