[實用新型]多通道電控雙折射液晶衰減波紋測試系統

有效

• 申請號: 201220723579.0
• 申請日: 2012-12-25
• 公開（公告）號: CN203053677U
• 公開（公告）日: 2013-07-10
• 發明（設計）人: 趙利剛;劉華;袁海驥
• 申請（專利權）人: 科納技術(蘇州)有限公司
• 主分類號: G01M11/00
• 分類號: G01M11/00
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術領域

本實用新型涉及多通道電控雙折射液晶衰減波紋測試系統。本實用新型可以準確地測試出多通道電控雙折液晶的衰減波紋數值，進而判定液晶rubbing?mark的工藝水平，能夠廣泛適用于要求檢測多通道電控雙折射液晶的各個領域，尤其是適用于大型企業和科研機構對多通道電控雙折射液晶衰減波紋進行測試，成本低、速度快。?

背景技術

近些年來，多通道電控雙折射液晶的出現對科學技術的發展和工業生產技術的革新影響日趨明顯。電控雙折射液晶不但可以應用到液晶顯示LCD領域，尤其投影放大的大畫面多色顯示領域；同時，在DWDM光纖通信領域的功率均衡中也具有較好的市場應用價值。?

傳統的多通道電控雙折射液晶衰減波紋測試方法因為其通道較多，復雜度較高，逐個通道測試需要時間較長，同時，由于電控雙折射液晶在光纖通信領域需要測試特定衰減下的每個通道損耗波紋數值，由于不同通道特定衰減下的電壓有差別，因此傳統的方法測試較為復雜、測試精度低、測試速度慢。?

實用新型內容

本實用新型公開了一種可以準確地測試出多通道電控雙折射液晶衰減波紋測試系統，通過每個通道的電壓-插損曲線擬合得出每個通道的固定衰減下的準確電壓，具有成本低、測試方法簡單，適用于大型企業對多通道電控雙折射液晶衰減波紋的測試。本實用新型的使用能夠克服傳統方法測試多通道電控雙折射液晶衰減波紋測試速度慢、測試精度低和無法實現自動化等缺點，具備測試速度較快以及測試精度高等優點。?

本實用新型所采用的技術方案為：?

多通道電控雙折射液晶衰減波紋測試系統，其特征在于：包括光源模塊、光學平臺、待測多通道電控雙折射液晶及其夾、治具、45度偏振片、平面反射鏡、環形器、光譜分析儀及測試程序，其中光源模塊作為寬帶光源，寬帶光源經過光學平臺入射到帶有夾、治具的待測多通道電控雙折射液晶上，45度偏振片用于從多通道電控雙折射液晶產生不同偏振光的衰減改變，平面反射鏡用于反射不同偏振態的寬帶光，該光再經過光學平臺，經由環形器接收到光譜分析儀，光譜分析儀用于測量多通道電控雙折射液晶的插入衰減損耗，整個測試系統的數據采集和數據分析是通過Labview平臺獨立開發的測試程序進行自動控制。?

進一步地，前述的多通道電控雙折射液晶衰減波紋測試系統，其特征在于通過夾、治具調整多通道電控雙折射液晶的位置，使得所有通道入射的線偏光在同一水平線，并通過其治具給多通道電控雙折射液晶以全高電壓，使得線偏光以最小損耗入射。?

進一步地，前述的多通道電控雙折射液晶衰減波紋測試系統，其特征在于Labview編寫的測試程序能夠分別設定電控雙折射液晶所有通道幾組電壓數值，光譜分析儀測試不同電壓下的損耗，實時地保存多通道電控雙折射液晶的電壓-插損數值，然后通過曲線擬合計算出預想衰減下的準確電壓。?

本實用新型的使用能夠克服傳統方法測試多通道電控雙折射液晶衰減波紋測試不準確、測試范圍小、測試速度慢和無法實現自動化等缺點，具有測試精度高、速度快，適用于大型?企業和科研機構對多通道電控雙折射液晶的rubbing?mark狀況進行檢測。?

附圖說明

圖1為多通道電控雙折射液晶衰減波紋測試系統示意圖。?

圖中各附圖標記的含義為：1、光源模塊；2、環形器；3、光學平臺；4、待測多通道電控雙折射液晶及其夾、治具；5、45度偏振片；6、平面反射鏡；7、光譜分析儀；8、測試程序。?

圖2為多通道電控雙折射液晶衰減波紋測試程序界面圖。?

圖3為多通道電控雙折射液晶衰減波紋測試結果示意圖。?

具體實施方式

為了實現多通道電控雙折射液晶衰減波紋的低成本、寬范圍、高速度和自動化測試，本實用新型提出了多通道電控雙折射液晶衰減波紋測試系統。該測試系統可以準確地測試出多通道電控雙折射液晶的衰減波紋，能夠廣泛適用于大型企業和科研機構對多通道電控雙折射液晶rubbing?mark工藝水平的檢測。該測試系統包括光源模塊1、環形器2、光學平臺3、待測多通道電控雙折射液晶及其夾、治具4、45度偏振片5、平面反射鏡6、光譜分析儀7、測試程序8。其結構如圖1所示。?

該多通道電控雙折射液晶衰減波紋測試系統的具體實施方式包含兩個部分：?

(一)系統的組裝：?