[實用新型]等離子體放電裝置

有效

• 申請號: 201220720322.X
• 申請日: 2012-12-24
• 公開（公告）號: CN202979452U
• 公開（公告）日: 2013-06-05
• 發明（設計）人: 賈少霞;張宸;楊景華;王守國
• 申請（專利權）人: 中國科學院微電子研究所
• 主分類號: H05H1/46
• 分類號: H05H1/46
• 代理公司: 北京市德權律師事務所 11302
• 代理人: 劉麗君

技術領域

本實用新型涉及硅片清洗技術領域，特別涉及一種等離子體放電裝置。

背景技術

在半導體生產中，清洗硅片表面光刻膠工藝占據了十分重要的環節，清洗的好壞直接影響器件的穩定性和可靠性。在其他行業中，液晶玻璃平板、PCB板等材料表面除了需要清洗表面有機污染物外，還需要改善材料表面的親水性或疏水性。

傳統清洗硅片表面的方式是采用濕法化學方法，濕法化學方法存在許多亟待解決的問題，例如清洗不夠徹底、清洗產生的廢液易對環境造成污染、采用溶液容易引進雜質、消耗大量的水和酸等。目前已經出現了一種干法清洗裝置，這種清洗裝置工作在真空狀態下，需要不斷切斷設備工作，取出硅片，放入另一批硅片，抽真空，然后進行放電清洗，導致設備操作復雜、成本高，不能實現連續在線工作；此外，已經出現的一些常壓清洗技術采用了金屬電極，存在易引入金屬雜質的缺點。

實用新型內容

本實用新型所要解決的技術問題是提供一種等離子體放電裝置。

為解決上述技術問題，本實用新型提供了一種等離子體放電裝置，包括兩個射頻電極、介質阻擋層、勻氣板、氣源、射頻電源和金屬外殼；所述射頻電源與所述射頻電極連接；

放電裝置在工作時，所述金屬外殼接地；

所述射頻電極被介質阻擋層包覆；

兩個射頻電極之間為等離子體噴口；

所述勻氣板位于所述介質阻擋層上方；

所述氣源提供的工作氣體通過由所述勻氣板構成的收縮口，到達所述等離子體噴口，并在常壓下，電源接通后，在所述噴口處形成大面積的輝光等離子體，等離子體在氣流的攜帶下向外噴出。

進一步地，所述勻氣板分為三層，其中，靠近所述射頻電極的一層勻氣板設置有用于收縮氣流的出口，使得工作氣體通過所述第三出口后到達射頻電極之間的噴口。

進一步地，第一層勻氣板由兩個勻氣板構成，該兩個勻氣板之間設置有氣體出口，該兩個該勻氣板與所述金屬外殼之間均設置有氣體出口；

第二層勻氣板由一個勻氣板構成，該勻氣板與所述金屬外殼之間均設置有氣體出口；

第三層勻氣板由兩個所述勻氣板構成，該兩個勻氣板分別與所述金屬外殼連接，該兩個勻氣板之間設置有用于氣體收縮氣流的出口。

進一步地，在第三層勻氣板設置的所述用于氣體收縮氣流的出口面積小于兩個射頻電極之間的面積。

進一步地，兩個所述射頻電極均是呈半圓形金屬條，在裝置放電時，等離子體僅沿著半圓形弧面轉移。

進一步地，所述金屬殼體表面設置有帶孔的絕緣塊，所述射頻電源通過所述絕緣塊與所述射頻電極的連接。

本實用新型提供的等離子體放電裝置，兩個射頻電極均為半圓形金屬條，裝置工作時，等離子體僅沿著弧面轉移，避免了散射性放電，提高了放電效率，裝置的收縮狀氣流出口提高了氣流速率，等離子體在氣流的攜帶下噴向被處理材料，與被處理材料表面的有機物發生反應，生成二氧化碳和水，可以直接排放到大氣中。常壓介質阻擋等離子體放電裝置用于清洗硅片表面光刻膠、清洗或活化液晶玻璃平板、清洗或改善PCB板或其他有機材料表面的親水性或疏水性。本實用新型的金屬射頻電極被介質阻擋層包覆，金屬外殼與射頻電極之間也被介質阻擋層隔離，能克服現有技術中易引入金屬雜質這一缺點。由于采用板圓形金屬條的射頻電極，使得放電產生的等離子體沿著弧面轉移，避免了散射性放電，提高了放電效率，采用收縮狀勻氣板，可有效提高氣流速率，增大等離子體噴出噴口的長度，降低了裝置對被處理材料的形狀等要求。

附圖說明

圖1為本實用新型實施例提供的等離子體放電裝置原理示意圖。

圖2為本實用新型實施例提供的等離子體放電裝置外形圖。

具體實施方式

參見圖1，本實用新型實施例提供的等離子體放電裝置，包括兩個半圓形射頻電極107、包覆在射頻電極外面的介質阻擋層106、作為接地電極的金屬外殼104、射頻電極與金屬殼體之間的介質阻擋層112、裝置內部的三層勻氣板105、一個射頻電源111、氣源101、流量計102以及供氣管路103。兩個射頻電極107均呈半圓形金屬條，裝置放電時，等離子體僅沿著弧面轉移，提高了放電效率，擴大了等離子體與硅片等被處理材料表面的接觸面積。