[實用新型]電子束泵浦式紫外線金屬表面處理系統

有效

• 申請號: 201220712123.4
• 申請日: 2012-12-20
• 公開（公告）號: CN203056369U
• 公開（公告）日: 2013-07-10
• 發明（設計）人: 張學淵;趙健;梁忠輝;鐘偉杰;唐偉;夏忠平
• 申請（專利權）人: 上海顯恒光電科技股份有限公司
• 主分類號: H01S5/20
• 分類號: H01S5/20;H01S5/024;B23K26/00
• 代理公司: 上海精晟知識產權代理有限公司 31253
• 代理人: 何新平

1.電子束泵浦式紫外線金屬表面處理系統包括一反應室、一清洗執行系統，所述清洗執行系統連接一紫外光源，以及一控制系統，其特征在于：?

所述紫外光源采用一電子束激發紫外光源，所述電子束激發紫外光源包括一電致發光半導體機構，還包括一激勵源，所述激勵源采用一電子槍系統；?

所述電致發光半導體機構設置在所述電子槍系統的靶向方向上，所述電致發光半導體機構連接一電極；?

所述電子束激發紫外光源還設有一用于透射出紫外線的出光口。?

2.根據權利要求1所述的電子束泵浦式紫外線金屬表面處理系統，其特征在于：所述出光口朝向所述反應室。?

3.根據權利要求1所述的電子束泵浦式紫外線金屬表面處理系統，其特征在于：所述出光口處設有一電動調光機構，所述電動調光機構連接所述控制系統。?

4.根據權利要求1所述的電子束泵浦式紫外線金屬表面處理系統，其特征在于：所述反應室為一密封腔體，在所述反應室上設有視窗，所述視窗采用鈷玻璃。?

5.根據權利要求1所述的電子束泵浦式紫外線金屬表面處理系統，其特征在于：所述反應室內設有一攝像頭，所述攝像頭連接一位于所述反應室外的成像系統。?

6.根據權利要求1所述的電子束泵浦式紫外線金屬表面處理系統，其特征在于：所述電致發光半導體機構生成在一導電透明基片上，并將所述導電透明基片連接所述電極。?

7.根據權利要求1所述的電子束泵浦式紫外線金屬表面處理系統，其特征在于：相鄰的兩層所述電致發光半導體層為禁帶寬度不同的電致發光半導體層，從而在新組成的材料的能帶結構上形成單勢能阱或是多勢能阱的結構。?

8.根據權利要求1所述的電子束泵浦式紫外線金屬表面處理系統，其特征在于：所述電致發光半導體機構還可以是一半導體紫外激光諧振腔。?

9.根據權利要求1所述的電子束泵浦式紫外線金屬表面處理系統，其特征在于：所述半導體紫外激光諧振腔內設有半導體結構，所述半導體結構生?成在所述襯底上，所述襯上設有一層高禁帶半導體層，所述高禁帶半導體層上生長有另一層禁帶寬度不同的高禁帶半導體層；?

所述電子槍系統包括一真空腔室，自所述真空腔室一端向另一端依次排布有電子槍、電學控制機構、電磁聚焦機構、電磁偏轉掃描機構、電致發光半導體機構、出光口；?

所述襯底下方設有一散熱底座，所述散熱底座連接一循環冷卻系統，所述循環冷卻系統包括散熱管、熱交換系統、冷卻液，所述散熱管埋設在所述散熱底座內；所述冷卻液設置在所述散熱管內，所述熱交換系統連接所述散熱管的入口和出口。?