[實(shí)用新型]電子束泵浦式紫外線金屬表面處理系統(tǒng)

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201220712123.4
• 申請(qǐng)日: 2012-12-20
• 公開（公告）號(hào): CN203056369U
• 公開（公告）日: 2013-07-10
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 張學(xué)淵;趙健;梁忠輝;鐘偉杰;唐偉;夏忠平
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 上海顯恒光電科技股份有限公司
• 主分類號(hào): H01S5/20
• 分類號(hào): H01S5/20;H01S5/024;B23K26/00
• 代理公司: 上海精晟知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 31253
• 代理人: 何新平

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型涉及表面處理領(lǐng)域，具體涉及紫外表面處理領(lǐng)域。

背景技術(shù)

紫外光波長(zhǎng)比可見光短，但比X射線長(zhǎng)的電磁輻射。紫外光在電磁波譜中范圍波長(zhǎng)為10-400?nm。這范圍內(nèi)開始于可見光的短波極限，而與長(zhǎng)波X?射線的波長(zhǎng)相重疊。紫外光被劃分為A?射線、B?射線和C?射線(簡(jiǎn)稱UVA、UVB?和UVC)，波長(zhǎng)范圍分別為400-315nm，315-280nm，280-190nm。

一般工業(yè)或高科技領(lǐng)域使用的一些材料具有非常高的性能，對(duì)環(huán)境也非常的有好處，但這些材料的接著性、印涂性等一般都非常差。處理中需要用到UV改性。改性的基本的反應(yīng)就是UV引起的氧化反應(yīng)。UV照射固體表面后，表面的污染物被氧化，而后被分解成CO2和H2O等易揮發(fā)性物質(zhì)，最終揮發(fā)消失。并且表面形成有利表面接著的如OH，COO，CO，COOH等親水性原子團(tuán)，被改性的表面接著性得到飛躍性地提高。

UV光源技術(shù)的進(jìn)步保證了UV/O3表面改性技術(shù)充分發(fā)揮其突出的優(yōu)越性。UV/O3表面改性技術(shù)因能處理得到極高的清潔度與表面接著性，在固體表面處理中越來越得到廣泛的應(yīng)用。

該技術(shù)具有如下特點(diǎn)：1、大氣中處理，簡(jiǎn)單、方便、環(huán)保，無二次污染，無需加熱、藥液等處理。

2、精度極高，單分子層以下，從來處理方法難以想象的接著性可以得到。

3、僅需短時(shí)間（秒單位）照射，發(fā)揮強(qiáng)大的處理能力。

4、對(duì)絕大多數(shù)塑料成型品照射有效，適用性廣；可避免大量消耗藥液、熱能等，運(yùn)行成本低。

綜上所述，該技術(shù)具有很多優(yōu)點(diǎn)，但是現(xiàn)有的技術(shù)還存在功耗高、維護(hù)成本高、工作效率低等不足。

實(shí)用新型內(nèi)容

本實(shí)用新型的目的在于，提供一種電子束泵浦式紫外線金屬表面處理系統(tǒng)，解決以上技術(shù)問題。

本實(shí)用新型所解決的技術(shù)問題可以采用以下技術(shù)方案來實(shí)現(xiàn)：

電子束泵浦式紫外線金屬表面處理系統(tǒng)包括一反應(yīng)室、一清洗執(zhí)行系統(tǒng)，所述清洗執(zhí)行系統(tǒng)連接一紫外光源，以及一控制系統(tǒng)，其特征在于：

所述紫外光源采用一電子束激發(fā)紫外光源，所述電子束激發(fā)紫外光源包括一電致發(fā)光半導(dǎo)體機(jī)構(gòu)，還包括一激勵(lì)源，所述激勵(lì)源采用一電子槍系統(tǒng)；

所述電致發(fā)光半導(dǎo)體機(jī)構(gòu)設(shè)置在所述電子槍系統(tǒng)的靶向方向上，所述電致發(fā)光半導(dǎo)體機(jī)構(gòu)連接一電極；

所述電子束激發(fā)紫外光源還設(shè)有一用于透射出紫外線的出光口。

通過將傳統(tǒng)的紫外線金屬表面處理系統(tǒng)中的紫外光源替換為新型的電子束激發(fā)紫外光源，減小設(shè)備體積、降低功耗并且提高了特定波段紫外光的純度。電子束激發(fā)紫外光源通過電子束為電致發(fā)光半導(dǎo)體機(jī)構(gòu)提供電流，并通過所述電極形成電流回路。

所述出光口朝向所述反應(yīng)室。以便進(jìn)行精密清洗。

所述出光口處設(shè)有一電動(dòng)調(diào)光機(jī)構(gòu)，所述電動(dòng)調(diào)光機(jī)構(gòu)連接所述控制系統(tǒng)。以便通過控制系統(tǒng)調(diào)整光強(qiáng)、焦點(diǎn)等光學(xué)參數(shù)。

所述反應(yīng)室為一密封腔體，在所述反應(yīng)室上設(shè)有視窗，所述視窗采用鈷玻璃。通過視窗觀察反應(yīng)狀況，鈷玻璃屏蔽掉大量紫外線。

或者所述反應(yīng)室內(nèi)設(shè)有一攝像頭，所述攝像頭連接一位于所述反應(yīng)室外的成像系統(tǒng)，以便于觀察反應(yīng)狀況。

所述電致發(fā)光半導(dǎo)體機(jī)構(gòu)生成在一反光金屬層上，并所述反光金屬層連接所述電極。所發(fā)出的紫外光線經(jīng)過反射后從出光口射出。

或者，所述電致發(fā)光半導(dǎo)體機(jī)構(gòu)生成在一導(dǎo)電透明基片上，并將所述導(dǎo)電透明基片連接所述電極。所發(fā)出的紫外線經(jīng)過所述導(dǎo)電透明基片透射后，從所述出光口射出。

所述電致發(fā)光半導(dǎo)體機(jī)構(gòu)包含至少兩層層疊的電致發(fā)光半導(dǎo)體層，構(gòu)成半導(dǎo)體發(fā)光結(jié)構(gòu)。

這些電致發(fā)光半導(dǎo)體層的材料可以是晶格匹配的，也可以是晶格不匹配的。這些電致發(fā)光半導(dǎo)體層可以是有應(yīng)變的，也可以是沒有應(yīng)變的。

相鄰的兩層所述電致發(fā)光半導(dǎo)體層為禁帶寬度不同的電致發(fā)光半導(dǎo)體層，從而在新組成的材料的能帶結(jié)構(gòu)上形成單勢(shì)能阱或是多勢(shì)能阱的結(jié)構(gòu)。以便于提高轉(zhuǎn)換效率和調(diào)控光的波長(zhǎng)。這些勢(shì)能阱結(jié)構(gòu)有利于約束半導(dǎo)體導(dǎo)帶和價(jià)帶上的載流子于特定的能量狀態(tài)上，從而達(dá)到提高轉(zhuǎn)換效率的目的。

所述半導(dǎo)體發(fā)光結(jié)構(gòu)包括至少兩種不同材質(zhì)的所述電致發(fā)光半導(dǎo)體層，且包含至少三層所述電致發(fā)光半導(dǎo)體層，相鄰的兩層所述電致發(fā)光半導(dǎo)體層為不同材質(zhì)的所述電致發(fā)光半導(dǎo)體層。

具體的可以為：所述半導(dǎo)體發(fā)光結(jié)構(gòu)包括兩種不同材質(zhì)的所述電致發(fā)光半導(dǎo)體層，且包含至少三層所述電致發(fā)光半導(dǎo)體層，相鄰的兩層所述電致發(fā)光半導(dǎo)體層為不同材質(zhì)的所述電致發(fā)光半導(dǎo)體層，即，兩種材質(zhì)的所述電致發(fā)光半導(dǎo)體層交替排列構(gòu)成層疊式結(jié)構(gòu)。