[實用新型]磁控濺射鍍膜機的工件轉動裝置

有效

• 申請號: 201220669495.3
• 申請日: 2012-12-07
• 公開（公告）號: CN202925091U
• 公開（公告）日: 2013-05-08
• 發明（設計）人: 溫旭輝;潘明元
• 申請（專利權）人: 成都南光機器有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35
• 代理公司: 成都行之專利代理事務所(普通合伙) 51220
• 代理人: 謝敏

技術領域

本實用新型涉及鍍膜機的技術領域，具體涉及磁控濺射鍍膜機的工件轉動裝置。

背景技術

隨著科技的不斷發展，在對空和對地目標觀測方面，隨著觀測精度以及分辨率的不斷提高，被鍍零件尺寸越來越大，這就要求鍍膜設備的尺寸越來越大，來滿足鍍制大型光學元件的需要。此類光學元件基本應用于特殊的領域，像航空、航天、遙感、探測、監控領域，這些領域對光學元件的工程配套比要求也比較高，比如能夠對地觀測和對空觀測有高的分辨率。因此也就對大型光學真空鍍膜設備有更高的要求。而現有光學元件重量大，差不多有3噸多重，翻面非常困難，還容易造成元件變形。在大型光學真空鍍膜設備中一個必要的裝置就是工件轉動裝置，以實現光學元件的自動翻面。現有工件轉動裝置只能實現朝固定方向轉動，無法人工控制工件轉動的方向，帶來操作上的局限性，阻礙型光學真空鍍膜設備向更高水平發展，讓真空系統由有油系統發展到無油系統，被鍍鏡片從原有的特種光學玻璃發展到輕量化的碳化硅（SIC）材料。設備的控制系統也從原有的簡單程序控制變為現在的計算機自動控制。

實用新型內容

本實用新型克服了現有技術的不足，提供了磁控濺射鍍膜機的工件轉動裝置，解決了現有技術中工件轉動裝置只能朝一個方向轉動，無法實現任意方向的轉動的缺陷。

為解決上述的技術問題，本實用新型采用以下技術方案：一種磁控濺射鍍膜機的工件轉動裝置，包括承片結構、轉盤、連接塊、大齒輪、軸承和動力裝置，所述的轉盤通過連接塊與軸承一端連接，所述的軸承另一端與動力裝置連接，所述的大齒輪固定在轉盤和軸承之間，大齒輪和轉盤兩端分別用承片結構相連接，還包括與大齒輪垂直連接的自轉大齒輪、襯套和大齒輪轉動裝置，所述的襯套位于自轉大齒輪和軸承之間，所述的大齒輪轉動裝置與自轉大齒輪一端連接，大齒輪轉動裝置內分布有電機。襯套的設計用以保護軸承，同時也起到固定軸承的作用，防止軸承發生偏轉。上述的大齒輪轉動裝置則專門用來為大齒輪提供動力。

上述的所有的承片結構外側分布有屏蔽板，屏蔽板與轉盤平行且位于轉盤的斜上方。通過屏蔽板的設計將鍍膜器件阻擋在承片結構外側，阻止鍍膜器件的灰塵或是其它部件對工件轉動裝置的損壞，影響工件轉動裝置的正常運轉。

上述的動力裝置和軸承之間安裝有引入座，動力裝置內部依次連接有連接柱、聯軸器和步進電機。通過連接軸將步進電機與上面的軸承連接，帶動軸轉動，給轉盤提供動力。

上述的連接柱的一個側面上依次連接有支架和傳感器支架，傳感器支架露于動力裝置的對應位置的外側。通過傳感器支架的設計，安裝上相應的傳感器，通過軟件就可實現對步進電機工作狀態的隨時監控，觀察其運行狀態。

上述的轉盤和大齒輪相互平行，軸承位于轉盤和大齒輪的垂直平分線上。

上述的軸承與襯套之間依次連接有壓蓋和支撐座。該設計用以保護和固定軸承，減小軸承的摩擦。

上述的襯套一側緊挨自轉大齒輪。

與現有技術相比，本實用新型的有益效果是：本實用新型通過給轉盤和大齒輪分別設置電機提供動力，來實現轉盤和大齒輪的轉動，從而就可通過調節大齒輪的轉動方向來控制轉盤實現順時針運動、逆時針運動和相對靜止狀態，從而實現對轉盤運動方向的有效控制，能更好的實現對大型光學元件的鍍膜操作。

附圖說明

圖1為本實用新型的剖視圖。

圖中附圖標記分別表示為：1、承片結構；2、轉盤；3、連接塊；4、屏蔽板；5、大齒輪轉動裝置；6、大齒輪；7、自轉大齒輪；8、襯套；9、壓蓋；10、支撐座；11、引入座；12、動力裝置；13、連接柱；14、聯軸器；15、軸承；16、步進電機；17、傳感器支架；18、支板。

具體實施方式

下面結合附圖1對本實用新型作進一步闡述，該實用新型的實施例不限于此。

實施例：