[實用新型]一種鍍膜設備及靶材有效
| 申請號： | 201220657375.1 | 申請日： | 2012-12-03 |
| 公開（公告）號： | CN202954086U | 公開（公告）日： | 2013-05-29 |
| 發明（設計）人： | 金原奭;金永珉;金珌奭 | 申請（專利權）人： | 京東方科技集團股份有限公司 |
| 主分類號： | C23C14/35 | 分類號： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 北京銀龍知識產權代理有限公司 11243 | 代理人： | 黃燦;安利霞 |
| 地址： | 100015 *** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 鍍膜 設備 | ||
【權利要求書】：
1.一種鍍膜設備，包括：腔體和靶材；其特征在于，
所述靶材為位于所述腔體內部的平行設置的至少兩個靶材；
所述腔體具有位于任意兩行靶材之間的反應氣體輸入口。
2.根據權利要求1所述的鍍膜設備，其特征在于，所述靶材為長方體形、圓柱體形或者正方體形。
3.根據權利要求2所述的鍍膜設備，其特征在于，所述靶材為正方體形時，所述腔體的位于任意兩個靶材之間的位置還設置有反應氣體輸入口。
4.根據權利要求1所述的鍍膜設備，其特征在于，所述腔體的底部具有正對待鍍膜的基板的開口。
5.根據權利要求1所述的鍍膜設備，其特征在于，所述反應氣體為氧氣。
6.根據權利要求1所述的鍍膜設備，其特征在于，還包括：控制所述靶材旋轉速度的控制裝置。
7.一種靶材，其特征在于，包括：平行設置的至少兩個靶材。
8.根據權利要求7所述的靶材，其特征在于，所述靶材為長方體形、圓柱體形或者正方體形。
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