[實(shí)用新型]一種用于真空鍍膜膜厚測試的支架有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201220648551.5 | 申請日: | 2012-11-30 |
| 公開(公告)號: | CN202968684U | 公開(公告)日: | 2013-06-05 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 李凱;段冰;彭開燁 | 申請(專利權(quán))人: | 四川虹歐顯示器件有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/54 | 分類號: | C23C14/54;C23C14/30;G01B21/08 |
| 代理公司: | 成都九鼎天元知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 51214 | 代理人: | 詹永斌 |
| 地址: | 621000 四川省綿陽市*** | 國省代碼: | 四川;51 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 用于 真空鍍膜 測試 支架 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
?本實(shí)用新型涉及真空鍍膜設(shè)備領(lǐng)域,尤其是涉及通過電子束蒸發(fā)鍍膜的一種用于真空鍍膜膜厚測試的支架。?
背景技術(shù)
?在真空鍍膜領(lǐng)域,為了形成一定厚度規(guī)格的鍍層薄膜,在批量鍍膜之前,需要通過對鍍膜的膜厚測試來對真空鍍膜工藝參數(shù)進(jìn)行測試調(diào)整,為此,必須使用鍍膜測試樣品進(jìn)行測試薄膜樣品制作,并且測量鍍膜測試樣品的實(shí)際膜厚,進(jìn)而調(diào)整鍍膜工藝。特別是在等離子電視機(jī)適用的等離子顯示屏測試和制造過程中,必須對等離子顯示屏的金屬氧化物如氧化鎂導(dǎo)電薄膜的膜厚進(jìn)行精確測試,以調(diào)整真空鍍膜設(shè)備的鍍膜工藝參數(shù),減少鍍膜成品的不良率,提高產(chǎn)品質(zhì)量。
目前,真空鍍膜領(lǐng)域中常用的是電子束蒸發(fā)鍍膜,該方法是依靠皮爾斯電子槍發(fā)射的高能電子束流轟擊靶材,使靶材受熱瞬間蒸發(fā),最終沉積到相對位置的基片上,從而在基片上形成一層鍍膜。對于薄膜厚度控制中的膜厚測試項(xiàng)目,傳統(tǒng)的膜厚測試方法分為兩種:第一種,直接使用玻璃基板(母板)進(jìn)行鍍膜,然后切割成樣片,再用掃面電子顯微鏡進(jìn)行截面表征,測量出膜層厚度。該測試方法所需的樣品制作復(fù)雜,測試成本高,并且玻璃母板容易發(fā)生破碎,不宜量產(chǎn)應(yīng)用。第二種,使用高溫膠帶將載玻片貼附在玻璃基板(母板)上進(jìn)行鍍膜,然后用臺階儀測量膜層厚度。該測試方法由于仍然必須使用玻璃母板作為載體,測試成本依然比較高,并且仍然存在玻璃母板破碎風(fēng)險(xiǎn),同樣不適宜量產(chǎn)應(yīng)用。?
實(shí)用新型內(nèi)容
?本實(shí)用新型的目的在于:針對現(xiàn)有技術(shù)存在的問題,提供一種用于真空鍍膜膜厚測試的支架,利用該支架制成的鍍膜測試樣品進(jìn)行膜厚測試,在保證測試精準(zhǔn)度的前提下,降低測試成本,減少測試作業(yè)量,并且避免玻璃基板破碎風(fēng)險(xiǎn),不影響量產(chǎn)設(shè)備稼動(dòng)率。
本實(shí)用新型的目的通過以下技術(shù)方案來實(shí)現(xiàn):一種用于真空鍍膜膜厚測試的支架,主要包括支架加強(qiáng)板、樣品托板和樣品放置口。所述的支架加強(qiáng)板與樣品托板之間緊固連接,所述的樣品放置口設(shè)置在樣品托板上。所述的支架加強(qiáng)板呈細(xì)長矩形狀,其厚度為所述的樣品托板厚度的兩倍至四倍之間;所述的支架加強(qiáng)板共有兩條,并且以樣品托板長邊對稱軸為中心對稱分布在樣品托板的兩側(cè)邊緣;所述的支架加強(qiáng)板的長邊方向設(shè)置有若干個(gè)通孔,所有的通孔均沿著支架加強(qiáng)板長邊對稱軸呈“一”字型均勻分布。所述的樣品托板是一個(gè)扁平矩形板,在托板上設(shè)置有若干個(gè)樣品放置口和若干個(gè)螺紋孔。所述的樣品放置口呈“十”字型,中部是矩形通孔,上下端是矩形沉頭槽;所有的樣品放置口均沿著樣品托板長邊對稱軸呈“一”字型均勻分布,所有的螺紋孔以樣品托板長邊對稱軸為中心對稱均勻分布在樣品托板的兩側(cè)邊緣,并且與所述的支架加強(qiáng)板上的若干個(gè)通孔順序一一對應(yīng)。所述的支架加強(qiáng)板、樣品托板和緊固螺釘均采用不銹鋼制成。
與現(xiàn)有技術(shù)相比,本實(shí)用新型一種用于真空鍍膜膜厚測試的支架,采用不銹鋼制成的鍍膜支架代替?zhèn)鹘y(tǒng)的玻璃基板(母板),以載玻片為樣品,將載玻片放置于支架上,再進(jìn)入鍍膜設(shè)備進(jìn)行薄膜制備,然后對其膜厚進(jìn)行測量。使用本實(shí)用新型進(jìn)行膜厚測試,過程簡單,測試成本低廉,測試數(shù)據(jù)準(zhǔn)確,并且沒有玻璃基板(母板)破碎風(fēng)險(xiǎn)。
附圖說明
圖1為本實(shí)用新型一種用于真空鍍膜膜厚測試的支架的俯視圖。
圖2為本實(shí)用新型一種用于真空鍍膜膜厚測試的支架的正視圖。
圖3為本實(shí)用新型一種用于真空鍍膜膜厚測試的支架的側(cè)視圖。
具體實(shí)施方式
下面結(jié)合附圖和具體實(shí)施例對本實(shí)用新型進(jìn)行詳細(xì)說明。
如圖1~圖3所示,一種用于真空鍍膜膜厚測試的支架,主要包括支架加強(qiáng)板1、樣品托板2和樣品放置口3。所述的支架加強(qiáng)板1呈細(xì)長矩形狀,其厚度為所述的樣品托板2厚度的兩倍至四倍之間;所述的支架加強(qiáng)板1的數(shù)量共有兩條,并且以樣品托板2長邊對稱軸為中心對稱分布在樣品托板2的兩側(cè)邊緣;在所述的支架加強(qiáng)板1的長邊方向設(shè)置有若干個(gè)通孔,所有的通孔均沿著支架加強(qiáng)板1長邊對稱軸呈“一”字型均勻分布;所述的支架加強(qiáng)板1與樣品托板2之間均采用緊固螺釘4緊固連接。所述的樣品托板2是一個(gè)扁平矩形板,其上設(shè)置有若干個(gè)樣品放置口3和若干個(gè)螺紋孔;所述的樣品放置口3呈“十”字型,中部是矩形通孔,上下端是矩形沉頭槽;所有的樣品放置口3均沿著樣品托板2長邊對稱軸呈“一”字型均勻分布,所有的螺紋孔以樣品托板2長邊對稱軸為中心對稱均勻分布在樣品托板2的兩側(cè)邊緣,并且與所述的支架加強(qiáng)板1上的若干個(gè)通孔順序一一對應(yīng)。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





