[實用新型]一種電容式觸摸屏雙面鍍膜磁控濺射生產線

有效

• 申請號: 201220634135.X
• 申請日: 2012-11-27
• 公開（公告）號: CN202913052U
• 公開（公告）日: 2013-05-01
• 發明（設計）人: 郭愛云;黃國興;孫桂紅;祝海生;梁紅;黃樂
• 申請（專利權）人: 湘潭宏大真空技術股份有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35
• 代理公司: 湘潭市匯智專利事務所 43108
• 代理人: 顏昌偉

1.一種電容式觸摸屏雙面鍍膜磁控濺射生產線，其特征是：包括多個真空腔體和多個腔體支架，所述的真空腔體安裝在腔體支架上，內部設有內傳送系統，真空腔體依次分為進口真空段、進口緩沖真空段、進口過渡真空段、工藝鍍膜真空段、出口過渡真空段、出口緩沖真空段和出口真空段七段；

所述的進口真空段，進口處設有翻板閥，兩側設有腔體維修門，附近設有由機械泵與羅茲泵組成的前級抽氣系統，前級抽氣系統通過抽氣管道與進口真空段的底部連接；

所述的進口緩沖真空段與進口真空段連接處設有翻板閥或插板閥，進口緩沖真空段一側設有六位二裝分子泵高真空抽氣系統，另一側設有六位一裝分子泵高真空抽氣系統，進口緩沖真空段的底部通過分子泵抽氣連接耦合器分別與前級抽氣連接管道、六位二裝分子泵高真空抽氣系統和六位一裝分子泵高真空抽氣系統連接；進口緩沖真空段附近設有由機械泵與羅茲泵組成的前級抽氣系統，前級抽氣系統通過抽氣管道與前級抽氣連接管道連接；

所述的進口過渡真空段與進口緩沖真空段連接處設有翻板閥或插板閥，進口過渡真空段的兩側各安裝有六位一裝分子泵高真空抽氣系統一組，六位一裝分子泵高真空抽氣系統錯位布置，進口過渡真空段的底部通過分子泵抽氣連接耦合器分別與分子泵高真空抽氣系統和抽氣連接管道連接；

所述的工藝鍍膜真空段包括多個工藝真空模塊和至少一個工藝隔離真空模塊，真空隔離模塊的一側安裝有六位三裝分子泵門，另一側安裝有六位二裝分子泵門；真空隔離模塊底部通過分子泵抽氣連接耦合器分別與六位三裝分子泵門、六位二裝分子泵門和抽氣連接管道連接；每個工藝真空模塊的兩側均安裝有三位一裝分子泵門和雙陰極門，兩側的三位一裝分子泵門與雙陰極門錯位布置，工藝真空模塊的底部通過分子泵抽氣連接耦合器分別與三位一裝分子泵門和抽氣連接管道連接；工藝鍍膜真空段附近設有由機械泵與羅茲泵組成的前級抽氣系統；前級抽氣系統通過抽氣管道與抽氣連接管道連通；

所述的出口過渡真空段兩側設有六位一裝分子泵高真空抽氣系統，出口過渡真空段的底部通過分子泵抽氣連接耦合器分別與分子泵高真空抽氣系統和抽氣連接管道連接；

所述的出口緩沖真空段與出口過渡真空段連接處設有翻板閥或插板閥，出口緩沖真空段的兩側設有六位一裝分子泵高真空抽氣系統，出口緩沖真空段的底部通過分子泵抽氣連接耦合器分別與六位一裝分子泵高真空抽氣系統和前級抽氣連接管道連接；出口緩沖真空段附近設有由機械泵與羅茲泵組成的前級抽氣系統，前級抽氣系統通過抽氣管道與前級抽氣連接管道連通；

所述的出口真空段與出口緩沖真空段連接處設有翻板閥或插板閥，出口真空段出口處設有翻板閥，兩側設有腔體維修門，附近設有由機械泵與羅茲泵組成的前級抽氣系統，前級抽氣系統通過抽氣管道與出口真空段的底部連接。

2.如權利要求1所述的電容式觸摸屏雙面鍍膜磁控濺射生產線，其特征是：還包括進片架、出片架和回片架，進片架設在進口真空段的進口附近，進片架附近設有進片平移臺；出片架設在出口真空段的出口附近，出片架附近設有出片平移臺；所述回片架與真空鍍膜腔體平行，設置在真空鍍膜腔體附近；所述進片架、出片架和回片架上設有外傳送系統。

3.如權利要求1所述的電容式觸摸屏雙面鍍膜磁控濺射生產線，其特征是：所述前級抽氣系統連接的抽氣管道上設有蝶閥。

4.如權利要求1所述的電容式觸摸屏雙面鍍膜磁控濺射生產線，其特征是：所述真空鍍膜腔體采用SUS304不銹鋼焊接而成。

5.如權利要求1所述的電容式觸摸屏雙面鍍膜磁控濺射生產線，其特征是：所述內傳送系統由內摩擦R輪和磁導向組成。

6.如權利要求1所述的電容式觸摸屏雙面鍍膜磁控濺射生產線，其特征是：真空鍍膜腔體的上端還設有安裝線槽。

7.如權利要求1所述的電容式觸摸屏雙面鍍膜磁控濺射生產線，其特征是：所述外傳送系統由外摩擦R輪、磁導向和安裝支架組成。

8.如權利要求1、2、3、4、5、6或7所述的新型電容式觸摸屏磁控濺射鍍膜生產線，其特征是：還包括純水冷卻供給系統、壓縮空氣供給系統，設置在真空鍍膜腔體的下方。