[實用新型]防著板、防著板-靶材組件及等離子體濺射設備有效

申請號：	201220632542.7	申請日：	2012-11-26
公開（公告）號：	CN203007392U	公開（公告）日：	2013-06-19
發明（設計）人：	趙欣凱;劉勃;李勝斌;李正勛;金相起;車奉周;劉占偉	申請（專利權）人：	京東方科技集團股份有限公司;北京京東方顯示技術有限公司
主分類號：	C23C14/34	分類號：	C23C14/34;C23C14/35
代理公司：	北京天昊聯合知識產權代理有限公司 11112	代理人：	羅建民;鄧伯英
地址：	100015 ***	國省代碼：	北京;11
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摘要：
搜索關鍵詞：	防著組件等離子體濺射設備
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【說明書】：

技術領域

本實用新型屬于等離子體技術領域，具體涉及一種防著板和防著板-靶材組件及等離子體濺射設備。

背景技術

在沉積鍍膜工藝中，尤其是薄膜晶體管液晶顯示器(Thin?FilmTransistor?Liquid?Crystal?Display，TFT-LCD)的生產制造過程中，需要使用等離子體濺射設備、例如使用磁控濺射機進行鍍膜。采用磁控濺射機進行鍍膜時，磁控濺射機中的濺射源在電場的作用下產生加速電子，這些加速電子與磁控濺射機真空腔中預先充入的惰性氣體碰撞得到帶正電的粒子，帶正電的粒子受到陰極(靶材)的吸引而撞擊靶材表面的原子，這些原子因受到帶正電的粒子的撞擊而獲得動量轉移，進而產生垂直靶材表面的作用力，將靶材表面的原子碰撞出去而沉積在被鍍物上完成鍍膜。

為防止靶材原子濺射到被鍍物以外的其它位置，需要在真空腔室中設置防著板，例如，腔室的四周。目前高世代TFT-LCD生產線所用的銦錫氧化物（ITO）立式磁控濺射設備中，ITO靶材通常是多聯的，例如12塊ITO靶材并排排列稱為12聯靶材。然而，每兩聯（塊）ITO靶材之間的邊緣由于ITO粉塵的回落沉積，會形成一定的非侵蝕區域，且鍍膜工藝中形成顆粒和缺陷較多，良品率下降；并且長時間沉積可能造成短路。

為了防止ITO粉塵回落到靶材上需要設置防著板，該防著板能附著ITO粉塵保護靶材，但使用一段時間后，防著板的附著ITO粉塵的能力下降，需要對防著板進行更換。

同時，防著板能減少靶材的非侵蝕區域，從而減少鍍膜工藝中形成顆粒和缺陷，防止良品率下降。

防著板的形狀以及與靶材之間相對位置關系影響非侵蝕區域的大小，現有技術常見的防著板如圖1所示，靶材2和防著板1并排放置，防著板1在垂直于靶材2方向上與靶材2沒有重疊的部分，使防著板1不能有效的遮擋ITO粉塵回落至靶材2，造成非侵蝕區域4較大，在5mm以上。非侵蝕區域4較大會縮短防著板的使用壽命，造成需要更頻繁地更換防著板，增加了人工工作量，而且使磁控濺射設備的停機和恢復時間延長，稼動率較低。因此，設計合適形狀的防著板降低非侵蝕區域成為研發的重點。

實用新型內容

本實用新型的一個目的是提供一種減少非侵蝕區域，延長更換周期的防著板。

解決本實用新型技術問題所采用的技術方案是一種防著板，設置于設有靶材的等離子體濺射設備中，所述的防著板包括用于遮擋靶材上表面邊緣的突出部，所述靶材的上表面是指所述靶材的被等離子體轟擊的表面。

具有突出部的防著板能夠防止ITO粉塵回落到靶材上；同時，防著板能減少靶材的非侵蝕區域，延長了防著板的更換周期，從而減少鍍膜工藝中形成顆粒和缺陷，防止鍍膜的良品率下降。

優選的是，所述突出部的縱截面為矩形。

優選的是，所述防著板的突出部具有向外傾斜的側面。

優選的是，所述的防著板還具有設在靶材側方的支撐部，所述突出部連接于所述支撐部。

優選的是，所述防著板的支撐部的兩側各連接有一個突出部。

本實用新型的另一目的是提供一種減少非侵蝕區域，延長更換周期的防著板-靶材組件。

解決本實用新型技術問題所采用的技術方案是一種防著板-靶材組件，包括靶材和設在靶材邊緣處的防著板，所述的防著板包括用于遮擋靶材上表面邊緣的突出部，所述靶材的上表面是指所述靶材的被等離子體轟擊的表面。

優選的是，所述的靶材的縱截面為矩形。

優選的是，所述的靶材靠近防著板的一側具有從靶材中心向外向下傾斜的上表面。