[實(shí)用新型]靶片可移動的離子注入機(jī)有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201220594743.2 | 申請日： | 2012-11-01 |
| 公開（公告）號： | CN202905662U | 公開（公告）日： | 2013-04-24 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 崔保群;曹耀輝;李志軍;路瑞亮 | 申請（專利權(quán)）人： | 秦皇島博碩光電設(shè)備股份有限公司 |
| 主分類號： | H01J37/317 | 分類號： | H01J37/317;H01J37/20 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 066001 河北省秦*** | 國省代碼： | 河北;13 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 靶片可 移動 離子 注入 | ||
1.一種靶片可移動的離子注入機(jī)，包括設(shè)置有放電室(12)的離子源系統(tǒng)、設(shè)置有引出縫(13)和引出電極的引出系統(tǒng)、設(shè)置有所述靶片(19)的靶室(18)，以及使所述靶片可移動的移動裝置，其特征在于：離子束由所述的引出縫(13)引出后通過引出電極進(jìn)入所述的靶室(18)，所述的移動裝置使所述的靶片(19)在所述靶室(18)內(nèi)垂直于所述的引出縫(12)的長度方向移動。
2.如權(quán)利要求1所述的靶片可移動的離子注入機(jī)，其特征在于，所述的離子源系統(tǒng)由RF電源驅(qū)動。
3.如權(quán)利要求1或2所述的靶片可移動的離子注入機(jī)，其特征在于，天線(11)設(shè)置在所述放電室(12)的頂部外。
4.如權(quán)利要求1或2所述的靶片可移動的離子注入機(jī)，其特征在于，天線(11)沿所述引出縫(13)的長度方向設(shè)置。
5.如權(quán)利要求3所述的靶片可移動的離子注入機(jī)，其特征在于，所述天線(11)沿所述引出縫的長度方向設(shè)置。
6.如權(quán)利要求1所述的靶片可移動的離子注入機(jī)，其特征在于，所述的引出縫(13)設(shè)置在所述放電室(12)的底部。
7.如權(quán)利要求1所述的靶片可移動的離子注入機(jī)，其特征在于，所述的引出電極由抑制電極(14)和地電極(15)組成。
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