[實用新型]光刻膠涂覆設備有效
| 申請號: | 201220575490.4 | 申請日: | 2012-11-02 |
| 公開(公告)號: | CN202854484U | 公開(公告)日: | 2013-04-03 |
| 發明(設計)人: | 趙娜;王守波;王文龍;操彬彬 | 申請(專利權)人: | 京東方科技集團股份有限公司;合肥京東方光電科技有限公司 |
| 主分類號: | G03F7/16 | 分類號: | G03F7/16 |
| 代理公司: | 北京中博世達專利商標代理有限公司 11274 | 代理人: | 申健 |
| 地址: | 100015 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 光刻 膠涂覆 設備 | ||
技術領域
本實用新型涉及半導體工藝技術領域,尤其涉及一種光刻膠涂覆設備。
背景技術
薄膜晶體管液晶顯示器(TFT-LCD,Thin?Film?Transistor-Liquid?CrystalDisplay)是目前顯示領域的主流顯示器件,TFT-LCD制造工藝中的光刻膠涂覆是光刻工藝的關鍵步驟,其涂覆質量的好壞直接影響到薄膜晶體管陣列圖形的性能優劣。
目前,光刻膠涂覆主要采用“涂膠-甩膠”工藝。如圖1所示,該工藝首先將待涂覆的基板11放在操作平臺上,然后通過調整噴嘴平動裝置13將固定在噴嘴平動裝置13下方的涂覆噴嘴12調整到待涂覆的基板11上方的合適位置;隨后光刻膠供給裝置以一定的速度將光刻膠從涂覆噴嘴12中噴出,同時噴嘴平動裝置13帶動涂覆噴嘴12在該基板11上方平動,從而在該基板11上涂覆一層所需厚度的光刻膠14。
在涂覆光刻膠前,待涂覆的基板11在搬運及運輸過程中,極易沾染各種異物,如微小顆粒和有機污染物。由于這些異物的存在,會造成待涂覆的基板11在涂覆光刻膠后的表面不平整,從而導致各種不良情況的發生,例如,薄膜晶體管陣列圖形尺寸不滿足要求,互連線的斷路或短路等。其中,一些不良情況在后續工藝中不可修復,即使可修復也會增加成本。
實用新型內容
本實用新型的實施例提供一種光刻膠涂覆設備,解決了現有技術對待涂覆的基板涂覆光刻膠時,其上沾染的異物會導致各種不良情況發生的問題。
為達到上述目的,本實用新型的實施例采用如下技術方案:
一種光刻膠涂覆設備,包括固定在噴嘴平動裝置下方的涂覆噴嘴,還包括除異物裝置,位于待涂覆基板上方,用于在使用所述涂覆噴嘴向所述待涂覆基板上表面涂膠的同時,向所述待涂覆基板上表面的未涂膠部分噴射氣體,以使異物沿所述噴嘴平動裝置的運動方向脫離所述待涂覆基板。
優選地,所述除異物裝置沿所述噴嘴平動裝置的運動方向與所述噴嘴平動裝置同步運動。
其中,所述除異物裝置設置在所述噴嘴平動裝置上。
優選地,所述的光刻膠涂覆設備,還包括高度調節機構;所述高度調節機構一端與所述噴嘴平動裝置連接,另一端與所述除異物裝置連接,用于調整所述除異物裝置與所述待涂覆基板之間的距離。
其中,所述高度調節機構由第一連桿和第一螺桿組成,所述噴嘴平動裝置具有與第一連桿相匹配的孔,所述第一連桿一端與所述除異物裝置固定連接,另一端穿入所述孔;所述第一螺桿一端部分穿入所述噴嘴平動裝置與其螺紋連接,并且緊頂在所述第一連桿上。
優選地,所述除異物裝置包括:進氣管、氣室;所述進氣管的一端與用于供給所述氣體的氣源連通,另一端與所述氣室連通;所述氣室朝向所述待涂覆基板的表面具有狹縫,所述氣體經由所述進氣管和所述氣室從所述狹縫中噴出;所述狹縫的長度不小于所述涂覆噴嘴的涂膠寬度。
其中,所述氣室的進氣口截面積大于該氣室的出氣口截面積。
優選地,所述進氣管上設有氣體流量控制閥或者壓力調節器。
優選地,所述的光刻膠涂覆設備,還包括角度調節機構;所述角度調節機構一端與所述噴嘴平動裝置連接,另一端與所述除異物裝置連接,用于調整氣體噴射方向與所述待涂覆基板之間的角度。
其中,所述角度調節機構由第二連桿、套筒、轉軸,第三連桿和第二螺桿構成;所述第二連桿的一端固定在所述噴嘴平動裝置上,另一端與所述套筒的外表面固定連接;所述轉軸一端與所述第三連桿一端固定連接,另一端穿入所述套筒內部與所述套筒活動連接;所述第二螺桿一端部分穿入所述套筒與其螺紋連接,并且緊頂在所述轉軸上;所述第三連桿另一端與所述除異物裝置固定連接。
本實用新型實施例提供的一種光刻膠涂覆設備中,由于除異物裝置可位于待涂覆基板上方,在使用涂覆噴嘴向待涂覆基板上表面涂膠時,除異物裝置能夠向待涂覆基板上表面的未涂膠部分噴射氣體,該氣體能使異物沿噴嘴平動裝置的運動方向脫離待涂覆基板。這樣使得除異物裝置能夠在涂覆噴嘴未進行涂膠操作之前,將待涂覆基板上的異物清除。從而避免了其上因沾染的異物存在導致的涂覆光刻膠后的表面不平整問題,進而避免了各種不良情況的發生。
附圖說明
為了更清楚地說明本實用新型實施例或現有技術中的技術方案,下面將對實施例或現有技術描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹。
圖1為現有技術中光刻膠涂覆設備的示意圖;
圖2為本實用新型實施例提供的一種光刻膠涂覆設備示意圖;
圖3為本實用新型實施例提供的另一種光刻膠涂覆設備示意圖;
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