[實用新型]一種硅片拋光系統(tǒng)

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201220566715.X
• 申請日: 2012-10-31
• 公開（公告）號: CN202940264U
• 公開（公告）日: 2013-05-15
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 胡海平;班群;方結(jié)彬;何達能;陳剛
• 申請（專利權(quán)）人: 廣東愛康太陽能科技有限公司
• 主分類號: H01L31/18
• 分類號: H01L31/18;H01L21/306
• 代理公司: 廣州三環(huán)專利代理有限公司 44202
• 代理人: 顏希文

技術(shù)領(lǐng)域

本實用新型涉及晶硅太陽電池制作領(lǐng)域，尤其涉及一種硅片拋光系統(tǒng)。

背景技術(shù)

太陽能電池是一種利用光生伏打效應(yīng)把光能轉(zhuǎn)換成電能的器件，在光電轉(zhuǎn)換過程中，損耗主要為：光損耗和電損耗。而對于晶硅太陽電池，光損耗主要來自前表面的反射損失和后表面的長波反射損耗，電損耗主要來自光子激發(fā)的電子、空穴對復(fù)合及電阻功率損耗。

目前，在晶硅太陽電池的制絨工序中，整個硅片被完全浸沒在堿或酸的制絨槽中，使硅片前、后表面都被制絨，這對晶硅太陽電池非常不利，限制了晶硅太陽電池光電轉(zhuǎn)換效率，其原因是：1、后表面因絨面而導(dǎo)致起伏不平，減弱了后表面與鋁漿所形成的反射面對長波的反射作用，使部分長波穿過鋁背場而損耗；2、增加了后表面的接觸面積，由于后表面是采用鋁背場結(jié)構(gòu)，其表面復(fù)合速率一般高達500cm/s，增加后表面接觸面積將增大電子、空穴的復(fù)合。

發(fā)明內(nèi)容

本實用新型所要解決的技術(shù)問題在于，提供一種結(jié)構(gòu)的硅片拋光系統(tǒng)，可有效地實現(xiàn)對硅片的局部拋光。

為了解決上述技術(shù)問題，本實用新型提供了一種硅片拋光系統(tǒng)，包括：掩膜臺、烘干箱、拋光槽、第一漂洗槽、去掩膜槽、第二漂洗槽、堿洗槽、第三漂洗槽、吹干槽及用于傳輸硅片的傳送機構(gòu)；所述掩膜臺、烘干箱、拋光槽、第一漂洗槽、去掩膜槽、第二漂洗槽、堿洗槽、第三漂洗槽及吹干槽依次相連。

作為上述方案的改進，所述掩膜臺內(nèi)設(shè)有絲網(wǎng)印刷機。

作為上述方案的改進，所述傳送機構(gòu)包括傳送帶及傳送滾輪。

作為上述方案的改進，所述的硅片拋光系統(tǒng)還包括用于控制所述掩膜臺、烘干箱、拋光槽、去掩膜槽、堿洗槽及吹干槽工作狀態(tài)的控制器。

作為上述方案的改進，所述去掩膜槽內(nèi)設(shè)有超聲波發(fā)射器。

作為上述方案的改進，所述吹干槽內(nèi)設(shè)有氮氣吹風機或壓縮空氣吹風機。

實施本實用新型的有益效果在于：傳送機構(gòu)將制絨后的硅片傳輸至掩膜臺，并對硅片中預(yù)作發(fā)射極的前表面進行掩膜處理。隨后，進入烘干箱，使掩膜漿料緊貼硅片的前表面。然后，將硅片浸沒在拋光槽中進行拋光處理，由于硅片前面表覆蓋有掩膜漿料，使拋光槽中的拋光液無法腐蝕前表面絨面，相應(yīng)地，后表面經(jīng)拋光后，增加了后表面對未吸收太陽光譜中的長波反射，減小硅片與后表面的接觸面積，達到減少后表面電子、空穴復(fù)合量，提高了晶硅太陽電池的光電轉(zhuǎn)換效率。拋光后，將硅片依次送入第一漂洗槽、去掩膜槽、第二漂洗槽、堿洗槽、第三漂洗槽及吹干槽，其中，硅片置于去掩膜槽中，可去除前表面的掩膜漿料，在堿洗槽，可除去生成的多孔硅，再經(jīng)漂洗后進入吹干槽，吹干后即可流入擴散工序。

附圖說明

圖1是本實用新型一種硅片拋光系統(tǒng)的第一實施例結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2是本實用新型一種硅片拋光系統(tǒng)的第二實施例結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實施方式

為使本實用新型的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點更加清楚，下面將結(jié)合附圖對本實用新型作進一步地詳細描述。

圖1是本實用新型一種硅片拋光系統(tǒng)1的第一實施例結(jié)構(gòu)示意圖，包括：掩膜臺2、烘干箱3、拋光槽4、第一漂洗槽5、去掩膜槽6、第二漂洗槽7、堿洗槽8、第三漂洗槽9、吹干槽10及用于傳輸硅片的傳送機構(gòu)。

所述掩膜臺2、烘干箱3、拋光槽4、第一漂洗槽5、去掩膜槽6、第二漂洗槽7、堿洗槽8、第三漂洗槽9、吹干槽10依次相連，硅片在傳送機構(gòu)的傳送下依次進入掩膜臺2、烘干箱3、拋光槽4、第一漂洗槽5、去掩膜槽6、第二漂洗槽7、堿洗槽8、第三漂洗槽9、吹干槽10。

更佳地，所述傳送機構(gòu)包括傳送帶及傳送滾輪，其中，掩膜臺2及烘干箱3利用傳送帶傳輸硅片，拋光槽4、第一漂洗槽5、去掩膜槽6、第二漂洗槽7、堿洗槽8、第三漂洗槽9及吹干槽10利用傳送滾輪傳輸硅片。