[實(shí)用新型]漂浮式微球電鍍裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201220566603.4
• 申請(qǐng)日: 2012-10-31
• 公開（公告）號(hào): CN202898574U
• 公開（公告）日: 2013-04-24
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 張林;張?jiān)仆?/a>;金容;杜凱;尹強(qiáng);樂瑋;周蘭;肖江;張超
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 中國(guó)工程物理研究院激光聚變研究中心
• 主分類號(hào): C25D7/00
• 分類號(hào): C25D7/00;C25D21/12
• 代理公司: 中國(guó)工程物理研究院專利中心 51210
• 代理人: 翟長(zhǎng)明;韓志英

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型屬于電化學(xué)領(lǐng)域，具體涉及一種漂浮式微球電鍍裝置，適用于對(duì)各種表面涂覆導(dǎo)電層的不同材質(zhì)的漂浮微球表面進(jìn)行電沉積的電鍍裝置。

背景技術(shù)

目前微球表面金屬化多是采用物理氣相沉積法、化學(xué)氣相沉積法、化學(xué)鍍等方法，但在使用這些方法時(shí)，隨著膜層厚度增加，膜層表面質(zhì)量下降，厚度均勻性和表面光潔度都會(huì)降低，無(wú)法很好地滿足其在材料，生物醫(yī)藥，光電及催化等領(lǐng)域的應(yīng)用需求。

發(fā)明內(nèi)容

為了克服現(xiàn)有技術(shù)中微球鍍層厚度偏薄、表面粗糙度較大的不足，本實(shí)用新型提供了一種漂浮式微球電鍍裝置，可以對(duì)在電鍍?nèi)芤褐袝?huì)漂浮的微球的表面電沉積金屬的電鍍裝置，以用來制備厚度較大且球形度和表面光潔度較高的各種金屬微球。

本實(shí)用新型采用如下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)：

本實(shí)用新型的漂浮式微球電鍍裝置，其特點(diǎn)是：所述的電鍍裝置包括調(diào)節(jié)水位的孔、陰極、陽(yáng)極、圓柱體、鍍槽、轉(zhuǎn)子、圓環(huán)陣列、鍍槽蓋。鍍槽為圓筒狀，鍍槽蓋形狀為圓筒，陰極和陽(yáng)極的形狀均為圓環(huán)狀薄片，材料和要鍍覆的金屬相同。其連接關(guān)系是，所述鍍槽的上方設(shè)置有鍍槽蓋，鍍槽蓋內(nèi)徑與鍍槽外徑相同，鍍槽蓋內(nèi)側(cè)面和鍍槽上端口外側(cè)面設(shè)置有相互匹配的內(nèi)外螺紋，通過旋轉(zhuǎn)將鍍槽蓋固定于鍍槽上，用于封閉鍍槽；鍍槽蓋頂部外側(cè)中心設(shè)置有一個(gè)正方形凸塊，用以輔助旋轉(zhuǎn)鍍槽蓋。圓柱體以鍍槽蓋中軸線為中心固定于鍍槽蓋底面上。陰極、陽(yáng)極均以鍍槽蓋中心為圓心分別平行固定于鍍槽蓋底面上，陽(yáng)極外徑與鍍槽蓋內(nèi)徑相同，陽(yáng)極內(nèi)徑大于陰極外徑，陽(yáng)極和陰極位于同一平面上，圓柱體直徑與陰極內(nèi)徑相同，用來限制溶液和微球在鍍槽中的運(yùn)動(dòng)路徑。在鍍槽蓋的陰極與陽(yáng)極之間設(shè)置有調(diào)節(jié)水位的孔，調(diào)節(jié)水位的孔垂直貫穿鍍槽蓋，將鍍槽內(nèi)部和大氣連通，用來向鍍槽內(nèi)注入或取出鍍液。使鍍槽內(nèi)部和大氣連通，用來向鍍槽內(nèi)注入或取出鍍液。圓環(huán)陣列由大小不同的一組圓環(huán)構(gòu)成，以鍍槽底部中心為圓心固定于鍍槽底部，用于在鍍槽底部隔出具有一定深度的凹槽，微球下沉后在凹槽中運(yùn)動(dòng)而不會(huì)被轉(zhuǎn)子打碎。轉(zhuǎn)子水平置于所述圓環(huán)陣列的中心，轉(zhuǎn)子旋轉(zhuǎn)時(shí)帶動(dòng)溶液以鍍槽中軸線為中心流動(dòng)。

所述轉(zhuǎn)子為橢圓體狀。

采用本裝置進(jìn)行微球表面電沉積時(shí)，小球上半球面向陽(yáng)極一側(cè)部分的電流密度較大，使這些部分的鍍層生長(zhǎng)速度較快，微球的重心發(fā)生偏移而旋轉(zhuǎn)，使鍍層較厚的部分在重力作用下背離陽(yáng)極，鍍層較薄的部分旋轉(zhuǎn)至上部，從而實(shí)現(xiàn)鍍層的均勻生長(zhǎng)，在此過程中，鍍液的流動(dòng)可以防止小球和陰極片發(fā)生粘連，保證微球具有足夠的運(yùn)動(dòng)自由度。

本實(shí)用新型的漂浮式微球電鍍裝置有益效果是：簡(jiǎn)單易操作，可控性強(qiáng)。本實(shí)用新型漂浮式微球電鍍裝置，對(duì)多種金屬，如金、銅、鎳及其合金等，在其常規(guī)電鍍工藝參數(shù)下，通過適當(dāng)調(diào)節(jié)轉(zhuǎn)子的轉(zhuǎn)速，即可獲得球形度和表面粗糙度優(yōu)良的金屬微球，鍍層厚度可通過改變電鍍時(shí)間調(diào)節(jié)，以直徑為300????????????????????????????????????????????????左右的金微球?yàn)槔儗雍穸茸畲罂蛇_(dá)15左右。

附圖說明

圖1是本實(shí)用新型的漂浮式微球電鍍裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖中，1.調(diào)節(jié)水位的孔????2.陰極?????3.陽(yáng)極?????4.圓柱體?????5.鍍槽?????6.轉(zhuǎn)子?????7.圓環(huán)陣列?????8.鍍槽蓋。

具體實(shí)施方式

下面結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型做進(jìn)一步描述。

實(shí)施例1

圖1是本實(shí)用新型的漂浮式微球電鍍裝置的結(jié)構(gòu)示意圖，在圖1中，本實(shí)用新型的漂浮式微球電鍍裝置包括調(diào)節(jié)水位的孔1、陰極2、陽(yáng)極3）、圓柱體4、鍍槽5、轉(zhuǎn)子6、圓環(huán)陣列7、鍍槽蓋8；鍍槽5為圓筒狀，鍍槽蓋8形狀為圓筒，陰極2和陽(yáng)極3的形狀均為圓環(huán)狀薄片；其連接關(guān)系是，所述鍍槽5的上方設(shè)置有鍍槽蓋8，鍍槽蓋8內(nèi)徑與鍍槽5外徑相同，鍍槽蓋8內(nèi)側(cè)面和鍍槽5上端口外側(cè)面設(shè)置有相互匹配的內(nèi)外螺紋，通過旋轉(zhuǎn)將鍍槽蓋8固定于鍍槽5上，用于封閉鍍槽5；鍍槽蓋8頂部外側(cè)中心設(shè)置有一個(gè)正方形凸塊，用以輔助旋轉(zhuǎn)鍍槽蓋8；圓柱體4以鍍槽蓋8中軸線為中心固定于鍍槽蓋8底面上；陰極2、陽(yáng)極3均以鍍槽蓋8中心為圓心分別平行固定于鍍槽蓋8底面上，陽(yáng)極3外徑與鍍槽蓋8內(nèi)徑相同，陽(yáng)極3內(nèi)徑大于陰極2外徑，陽(yáng)極3和陰極2位于同一平面上，圓柱體4直徑與陰極2內(nèi)徑相同；在鍍槽蓋8的陰極2與陽(yáng)極3之間設(shè)置有調(diào)節(jié)水位的孔1，調(diào)節(jié)水位的孔1垂直貫穿鍍槽蓋8；使鍍槽5內(nèi)部和大氣連通，用來向鍍槽5內(nèi)注入或取出鍍液；圓環(huán)陣列7由大小不同的一組圓環(huán)構(gòu)成，以鍍槽5底部中心為圓心固定于鍍槽5底部；轉(zhuǎn)子6水平置于所述圓環(huán)陣列7的中心。