[實用新型]吸附裝置

有效

• 申請號: 201220543427.2
• 申請日: 2012-10-23
• 公開（公告）號: CN202846418U
• 公開（公告）日: 2013-04-03
• 發明（設計）人: 宋延生;文斌
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司;北京京東方顯示技術有限公司
• 主分類號: B25B11/00
• 分類號: B25B11/00
• 代理公司: 北京同達信恒知識產權代理有限公司 11291
• 代理人: 宋珊珊

技術領域

本實用新型涉及需要使用基板的制造領域，特別涉及一種吸附裝置。

背景技術

在需要使用基板的制造領域中，如在液晶顯示裝置的制造過程中，需要使用不同的裝置對基板進行不同的加工，在對基板進行不同的加工的過程中，需要對基板進行固定。現有的基板的固定是通過吸附裝置如放置基板的基臺的吸附栓或真空孔進行吸附固定。但是這兩種吸附方式吸附的面積比較小，固定效果不夠理想；如果通過增加吸附栓和真空孔的方式保證固定效果，需要的吸附栓和真空孔比較多，加工的復雜程度比較高。

實用新型內容

本實用新型提供了一種吸附裝置，增加吸附面積，從而改善了吸附固定基板的效果，同時，吸附槽的加工比較簡單。

為達到上述目的，本實用新型提供以下技術方案：

一種吸附裝置，包括：

載放臺，所述載放臺的上表面劃分有一個或多個吸附區域；每個所述吸附區域凹設有吸附槽，每個所述吸附槽的槽底設置有一個或多個真空孔；

抽真空單元，所述抽真空單元與每個所述真空孔相連通。

優選地，每個所述吸附區域包括p個相互平行的吸附槽；其中，p是大于1的自然數。

優選地，所述吸附槽包括橫向吸附槽和縱向吸附槽；每個所述吸附區域包括m個相互平行的橫向吸附槽和n個相互平行的縱向吸附槽，橫向吸附槽和縱向吸附槽相交叉且交叉處相連通，交叉處為m×n個；其中，m和n是大于1的自然數。

優選地，所述橫向吸附槽之間等間距分布，所述縱向吸附槽之間等間距分布，且最邊緣的交叉處位于所述橫向吸附槽和所述縱向吸附槽的端部。

優選地，每個所述真空孔設置在交叉處的槽底。

優選地，所述多個真空孔均勻分布。

優選地，所述多個真空孔圍合形成的圖形是中心對稱圖形且是軸對稱圖形。

優選地，每個所述交叉處的槽底設置有一個真空孔。

優選地，所述載放臺的上表面劃分有1個吸附區域，所述吸附區域包括6個相互平行的橫向吸附槽和6個相互平行的縱向吸附槽；

所述第1個，第3個，第4個和第6個橫向吸附槽與第1個，第3個，第4個和第6個縱向吸附槽的交叉處的槽底設置有真空孔；

所述第2個和第5個橫向吸附槽與所述第2個和第5個縱向吸附槽的交叉處的槽底設置有真空孔。

優選地，所述載放臺的上表面劃分有四個吸附區域，所述四個吸附區域按陣列兩行×兩列分布；每個所述吸附區域包括3個相互平行的橫向吸附槽和3個相互平行的縱向吸附槽；

第一行第一列和第二行第二列的吸附區域的所述第1個橫向吸附槽與第1個縱向吸附槽的交叉處的槽底設置有真空孔，所述第2個橫向吸附槽與第2個縱向吸附槽的交叉處的槽底設置有真空孔，所述第3個橫向吸附槽與第3個縱向吸附槽的交叉處的槽底設置有真空孔；

第一行第二列和第二行第一列的吸附區域的所述第1個橫向吸附槽與第3個縱向吸附槽的交叉處的槽底設置有真空孔，所述第2個橫向吸附槽與第2個縱向吸附槽的交叉處的槽底設置有真空孔，所述第3個橫向吸附槽與第1個縱向吸附槽的交叉處的槽底設置有真空孔。

優選地，還包括真空監測單元，所述真空監測單元與吸附區域一一對應，每個真空監測單元和與之對應的吸附區域的吸附槽相連接。

本實用新型提供的吸附裝置，在需要固定基板的時候，將基板放置在載放臺上，基板與載放臺的上表面相接觸；啟動抽真空單元，抽真空單元通過每個真空孔對每個吸附槽與基板之間進行抽真空，從而將基板吸附固定在載放臺上。與現有的僅依靠真空孔進行吸附固定相比，本實用新型的吸附裝置采用吸附槽這個簡單的結構，增加吸附面積，從而改善了吸附固定基板的效果，同時，吸附槽的加工比較簡單。

附圖說明

圖1為本實用新型的吸附裝置的一個實施例的示意圖；

圖2為本實用新型的吸附裝置的另一個實施例的示意圖。

主要元件附圖標記說明：

100載放臺，111橫向吸附槽，112縱向吸附槽，113交叉處，

200真空孔。

具體實施方式

下面將結合本實用新型實施例中的附圖，對本實用新型實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本實用新型一部分實施例，而不是全部的實施例。基于本實用新型中的實施例，本領域普通技術人員在沒有做出創造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本實用新型保護的范圍。

本實用新型的第一個實施例的吸附裝置，如圖1和圖2所示，包括：