[實用新型]吸附裝置有效
| 申請號: | 201220543427.2 | 申請日: | 2012-10-23 |
| 公開(公告)號: | CN202846418U | 公開(公告)日: | 2013-04-03 |
| 發明(設計)人: | 宋延生;文斌 | 申請(專利權)人: | 京東方科技集團股份有限公司;北京京東方顯示技術有限公司 |
| 主分類號: | B25B11/00 | 分類號: | B25B11/00 |
| 代理公司: | 北京同達信恒知識產權代理有限公司 11291 | 代理人: | 宋珊珊 |
| 地址: | 100015 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 吸附 裝置 | ||
1.一種吸附裝置,其特征在于,包括:
載放臺,所述載放臺的上表面劃分有一個或多個吸附區域;每個所述吸附區域凹設有吸附槽,每個所述吸附槽的槽底設置有一個或多個真空孔;
抽真空單元,所述抽真空單元與所述每個真空孔相連通。
2.根據權利要求1所述的吸附裝置,其特征在于,每個所述吸附區域包括p個相互平行的吸附槽;其中,p是大于1的自然數。
3.根據權利要求1所述的吸附裝置,其特征在于,所述吸附槽包括橫向吸附槽和縱向吸附槽;每個所述吸附區域包括m個相互平行的橫向吸附槽和n個相互平行的縱向吸附槽,橫向吸附槽和縱向吸附槽相交叉且交叉處相連通,交叉處為m×n個;其中,m和n是大于1的自然數。
4.根據權利要求3所述的吸附裝置,其特征在于,所述橫向吸附槽之間等間距分布,所述縱向吸附槽之間等間距分布,且最邊緣的交叉處位于所述橫向吸附槽和所述縱向吸附槽的端部。
5.根據權利要求4所述的吸附裝置,其特征在于,每個所述真空孔設置在交叉處的槽底。
6.根據權利要求5所述的吸附裝置,其特征在于,所述多個真空孔均勻分布。
7.根據權利要求5所述的吸附裝置,其特征在于,所述多個真空孔圍合形成的圖形是中心對稱圖形且是軸對稱圖形。
8.根據權利要求5所述的吸附裝置,其特征在于,每個所述交叉處的槽底設置有一個真空孔。
9.根據權利要求7所述的吸附裝置,其特征在于,所述載放臺的上表面劃分有1個吸附區域,所述吸附區域包括6個相互平行的橫向吸附槽和6個相互平行的縱向吸附槽;
所述第1個,第3個,第4個和第6個橫向吸附槽與第1個,第3個,第4個和第6個縱向吸附槽的交叉處的槽底設置有真空孔;
所述第2個和第5個橫向吸附槽與所述第2個和第5個縱向吸附槽的交叉處的槽底設置有真空孔。
10.根據權利要求7所述的吸附裝置,其特征在于,所述載放臺的上表面劃分有四個吸附區域,所述四個吸附區域按陣列兩行×兩列分布;每個所述吸附區域包括3個相互平行的橫向吸附槽和3個相互平行的縱向吸附槽;
第一行第一列和第二行第二列的吸附區域的所述第1個橫向吸附槽與第1個縱向吸附槽的交叉處的槽底設置有真空孔,所述第2個橫向吸附槽與第2個縱向吸附槽的交叉處的槽底設置有真空孔,所述第3個橫向吸附槽與第3個縱向吸附槽的交叉處的槽底設置有真空孔;
第一行第二列和第二行第一列的吸附區域的所述第1個橫向吸附槽與第3個縱向吸附槽的交叉處的槽底設置有真空孔,所述第2個橫向吸附槽與第2個縱向吸附槽的交叉處的槽底設置有真空孔,所述第3個橫向吸附槽與第1個縱向吸附槽的交叉處的槽底設置有真空孔。
11.根據權利要求1-10中任一項所述的吸附裝置,其特征在于,還包括真空監測單元,所述真空監測單元與吸附區域一一對應,每個真空監測單元和與之對應的吸附區域的吸附槽相連接。
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