[實用新型]用于掩膜板的防塵保護裝置有效
| 申請號： | 201220521265.2 | 申請日： | 2012-10-11 |
| 公開（公告）號： | CN202794842U | 公開（公告）日： | 2013-03-13 |
| 發明（設計）人： | 覃柳莎;張力群 | 申請（專利權）人： | 中芯國際集成電路制造（北京）有限公司 |
| 主分類號： | G03F1/64 | 分類號： | G03F1/64 |
| 代理公司： | 上海思微知識產權代理事務所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅;李時云 |
| 地址： | 100176 北京市大興區*** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 用于 掩膜板 防塵 保護裝置 | ||
1.一種用于掩膜板的防塵保護裝置，所述掩膜板具有圖案區域，所述用于掩膜板的防塵保護裝置包括保護薄膜以及用于固定所述保護薄膜的框架，所述保護薄膜和所述框架限定的空間覆蓋所述圖案區域，其特征在于，所述框架包括多個首尾相連的長條狀邊框，其中至少一個邊框沿其長度方向上設置有孔洞。
2.如權利要求1所述的用于掩膜板的防塵保護裝置，其特征在于，所述邊框為單層結構。
3.如權利要求1所述的用于掩膜板的防塵保護裝置，其特征在于，所述邊框為多層結構，每層結構沿其長度方向均設置有孔洞。
4.如權利要求1至3中任一項所述的用于掩膜板的防塵保護裝置，其特征在于，所述邊框的寬度沿所述掩膜板的厚度方向變化。
5.如權利要求4所述的用于掩膜板的防塵保護裝置，其特征在于，所述孔洞的寬度沿所述掩膜板的厚度方向變化。
6.如權利要求5所述的用于掩膜板的防塵保護裝置，其特征在于，所述孔洞的寬度的變化趨勢與所述邊框的寬度的變化趨勢一致。
7.如權利要求5所述的用于掩膜板的防塵保護裝置，其特征在于，所述孔洞的寬度的變化趨勢與所述邊框的寬度的變化趨勢不一致。
8.如權利要求3所述的用于掩膜板的防塵保護裝置，其特征在于，所述邊框的多層結構是同種材質。
9.如權利要求3所述的用于掩膜板的防塵保護裝置，其特征在于，所述邊框的多層結構是不同種材質。
10.如權利要求1所述的用于掩膜板的防塵保護裝置，其特征在于，所述邊框、所述掩膜板和所述保護薄膜之間粘合連接。
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G03F 圖紋面的照相制版工藝，例如，印刷工藝、半導體器件的加工工藝；其所用材料；其所用原版；其所用專用設備
G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其專門適用于此的容器；其制備
G03F1-20 .用于通過帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜，例如通過電子束；其制備
G03F1-22 .用于通過100nm或更短波長輻照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射線掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制備
G03F1-36 .具有臨近校正特征的掩膜；其制備，例如光學臨近校正(OPC)設計工藝
G03F1-38 .具有輔助特征的掩膜，例如用于校準或測試的特殊涂層或標記；其制備
