[實用新型]除油裝置以及研磨液攪拌裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201220521264.8
• 申請日: 2012-10-11
• 公開（公告）號: CN202823221U
• 公開（公告）日: 2013-03-27
• 發(fā)明（設計）人: 沈葉舟
• 申請（專利權）人: 中芯國際集成電路制造（北京）有限公司
• 主分類號: B01F7/16
• 分類號: B01F7/16;B01F15/00
• 代理公司: 上海思微知識產(chǎn)權代理事務所(普通合伙) 31237
• 代理人: 屈蘅;李時云

1.一種除油裝置，用于去除研磨液攪拌裝置的油漬，所述研磨液攪拌裝置包括：攪拌馬達、攪拌棒以及研磨液缸，所述研磨液缸設有一開口；其特征在于，所述除油裝置包括：第一遮擋盤、第二遮擋盤和油管，所述第一遮擋盤設有一第一開孔，所述第二遮擋盤設有一第二開孔；所述第二遮擋盤的尺寸大于所述第一遮擋盤的尺寸，所述攪拌棒穿過所述第一開孔和第二開孔伸入到所述研磨液缸，所述第一遮擋盤與所述攪拌棒連接并隨所述攪拌棒轉(zhuǎn)動，所述第二遮擋盤固定于所述研磨液缸的開口上，所述油管與所述第二遮擋盤連通。

2.如權利要求1所述的除油裝置，其特征在于，所述第一遮擋盤包括圓形的底壁以及與所述底壁外邊緣連接的側(cè)壁，所述第一開孔設置于所述底壁上。

3.如權利要求2所述的除油裝置，其特征在于，所述第一遮擋盤的側(cè)壁高度范圍為1cm~3cm，所述第一遮擋盤的底壁的直徑范圍為8cm~12cm。

4.如權利要求3所述的除油裝置，其特征在于，還包括設置于所述第一開孔內(nèi)的密封圈，所述第一遮擋盤通過所述密封圈與所述攪拌棒密封連接。

5.如權利要求2所述的除油裝置，其特征在于，所述第二遮擋盤包括圓形的底壁、與所述底壁外邊緣連接的外側(cè)壁以及與所述底壁內(nèi)邊緣連接的內(nèi)側(cè)壁，所述第二開孔設置于所述底壁上。

6.如權利要求5所述的除油裝置，其特征在于，所述第二遮擋盤的底壁的直徑大于所述第一遮擋盤的底壁的直徑。

7.如權利要求6所述的除油裝置，其特征在于，所述第二遮擋盤的外側(cè)壁及內(nèi)側(cè)壁的高度范圍均為1cm~3cm，所述第二遮擋盤的底壁的直徑范圍為10cm~14cm。

8.如權利要求5所述的除油裝置，其特征在于，所述第二遮擋盤通過一螺絲與所述研磨液缸的開口固定連接。

9.如權利要求5所述的除油裝置，其特征在于，所述外側(cè)壁上設有一排油孔，所述油管通過所述排油孔與所述第二遮擋盤連通。

10.如權利要求5所述的除油裝置，其特征在于，所述底壁上設有一排油孔，所述油管通過所述排油孔與所述第二遮擋盤連通。

11.如權利要求9或10所述的除油裝置，其特征在于，所述油管通過一便捷卡頭固定于所述第二遮擋盤上。

12.一種研磨液攪拌裝置，其特征在于，包括如權利要求1至11中任意一項所述的除油裝置。