[實用新型]靶材背板

有效

• 申請號: 201220506040.X
• 申請日: 2012-09-28
• 公開（公告）號: CN202830156U
• 公開（公告）日: 2013-03-27
• 發明（設計）人: 姚力軍;相原俊夫;大巖一彥;潘杰;王學澤;李曉瑜
• 申請（專利權）人: 寧波江豐電子材料有限公司
• 主分類號: C23C14/34
• 分類號: C23C14/34
• 代理公司: 北京集佳知識產權代理有限公司 11227
• 代理人: 駱蘇華

技術領域

本實用新型屬于濺射靶材領域，特別是涉及一種能與靶材結合成靶材組件的靶材背板。

背景技術

在半導體工業中，靶材組件是由符合濺射性能的靶材及能與所述靶材結合并具有一定強度的靶材背板構成。靶材背板可以在所述靶材組件裝配至濺射基臺中起到支撐作用，并具有傳導熱量的功效。

圖1是現有一種濺射系統的剖視圖，如圖1所示，濺射系統包括：磁控裝置1，磁控裝置1通常固定在機臺（未圖示）上，用于產生電場和磁場；與磁控裝置1固定在一起的靶材背板2，磁控裝置1固定在靶材背板2的上表面；與靶材背板2固定在一起的靶材3，靶材3固定在靶材背板2的下表面；固定在靶材背板2下表面上的真空罩4，真空罩4內形成一個封閉的空間，且靶材3位于真空罩4內。在濺射靶材3時，真空罩4內必須保持在真空狀態。為了加強靶材背板2與真空罩4界面處的密封，以使真空罩4內能形成一個真正的真空環境，在靶材背板2設有密封槽5，且密封槽5內放置有被壓縮的密封圈6，陶瓷圈7緊緊壓在密封圈6上，由于密封圈6的材料為橡膠，當陶瓷圈7壓在密封圈6上之后，密封圈6容易發生壓縮變形，并使陶瓷圈7與密封圈6緊緊貼合在一起，從而使得外界環境中的氣體無法進入真空罩4內，使真空罩4內保持在真空狀態。

在濺射過程中，靶材3會被施加高電壓，由于靶材背板2與靶材3固定在一起，且靶材背板2也是導電的，因此，靶材背板2也帶有高電壓，并能產生較大的電場。而陶瓷圈7距離靶材背板2非常近，在靶材背板2所產生電場的作用下，陶瓷圈7會被電離，使得靶材背板2的靠近陶瓷圈7的表面會形成黑色印跡。考慮到所述黑色印跡有可能會對濺射鍍膜造成一些無法預料的不良影響，需減少濺射過程中靶材背板的靠近陶瓷圈的表面處形成的黑色印跡。

實用新型內容

本實用新型的目的是減少濺射過程中靶材背板的靠近陶瓷圈的表面處形成的黑色印跡。

為了達到上述目的，本實用新型提供了一種靶材背板，所述靶材背板上設有呈燕尾狀的密封槽，所述密封槽的開口設置在所述靶材背板的表面上，所述密封槽的開口將所述靶材背板的表面分隔為外側表面及內側表面，所述外側表面高于所述內側表面，所述密封槽具有底壁及呈相對設置的第一側壁、第二側壁，其中，所述第一側壁的一端與所述外側表面連接，另一端與所述底壁連接，所述第二側壁的一端與所述內側表面連接，另一端與所述底壁連接，所述外側表面與所述第一側壁之間的夾角大于70度，且所述外側表面與所述第一側壁的連接處設有第一圓角，所述第一圓角的半徑為0.45mm±0.13mm，所述內側表面與所述第二側壁之間的夾角等于70度，且所述內側表面與所述第二側壁的連接處設有第二圓角，所述第二圓角的半徑為0.25mm±0.13mm，所述密封槽的槽深為2.54mm±0.05mm，所述密封槽的槽寬為3.38mm±0.08mm。

可選地，所述外側表面與所述第一側壁之間的夾角等于71.23度。

可選地，所述外側表面比所述內側表面高0.30mm±0.08mm。

可選地，所述底壁與所述第一側壁的連接處以及所述底壁與所述第二側壁的連接處設有圓角，所述圓角的半徑為0.79mm。

為了達到上述目的，本實用新型還提供了另一種靶材背板，所述靶材背板上設有呈燕尾狀的密封槽，所述密封槽的開口設置在所述靶材背板的表面上，所述密封槽的開口將所述靶材背板的表面分隔為外側表面及內側表面，所述外側表面高于所述內側表面，所述密封槽具有底壁及呈相對設置的第一側壁、第二側壁，其中，所述第一側壁的一端與所述外側表面連接，另一端與所述底壁連接，所述第二側壁的一端與所述內側表面連接，另一端與所述底壁連接，所述外側表面與所述第一側壁之間的夾角等于70度，且所述外側表面與所述第一側壁的連接處設有第一圓角，所述第一圓角的半徑為0.25mm±0.13mm，所述內側表面與所述第二側壁之間的夾角大于70度，且所述內側表面與所述第二側壁的連接處設有第二圓角，所述第二圓角的半徑為0.20mm±0.13mm，所述密封槽的槽深為2.54mm±0.05mm，所述密封槽的槽寬為3.38mm±0.08mm。

可選地，所述內側表面與所述第二側壁之間的夾角等于71.23度，所述外側表面比所述內側表面高0.30mm±0.08mm。

可選地，所述底壁與所述第一側壁的連接處以及所述底壁與所述第二側壁的連接處設有圓角，所述圓角的半徑為0.79mm。