[實用新型]金屬有機物化學氣相沉積設備石墨盤轉移裝置

有效

• 申請號: 201220484724.4
• 申請日: 2012-09-19
• 公開（公告）號: CN202898531U
• 公開（公告）日: 2013-04-24
• 發明（設計）人: 甘志銀;王明星;胡少林;潘建秋;蔣小敏;植成楊;劉玉貴
• 申請（專利權）人: 甘志銀
• 主分類號: C23C16/00
• 分類號: C23C16/00
• 代理公司: 上海市華誠律師事務所 31210
• 代理人: 李平

技術領域

本實用新型涉及半導體制造技術領域，特別涉及一種用于金屬有機物化學氣相沉積設備的石墨盤轉移裝置。

背景技術

金屬有機物氣相化學沉積（Metal?Organic?Chemical?Vapor?Deposition，簡稱MOCVD）技術集精密機械、半導體材料、真空電子、流體力學、傳熱學、光學、化學、計算機等多學科于一體，是一種自動化程度高、價格昂貴、技術密集、技術程度高的高端半導體材料、光電子專用設備。MOCVD作為化合物半導體材料外延生長的理想方法，具有質量高、穩定性好、重復性好、工藝靈活等特點，具有廣闊的應用前景和產業化價值。

MOCVD設備薄膜外延生長過程是在放置在石墨盤上的襯底片上進行的，對石墨盤進行清洗或者更換時，需要將石墨盤從反應腔體里面取出來。現有技術中取石墨盤的方式是在反應腔充分冷卻以后，打開反應腔的上蓋，手工從反應腔體里面將石墨盤取出。這種方式的不足之處是要等到反應腔冷卻到能夠取石墨盤需要花費一段較長的時間，而且手工取石墨盤的操作繁瑣、效率低下。經上述背景技術的描述可知，找到一種快速、穩定的將石墨盤轉移出反應腔的方法是十分必要的。

發明內容

本實用新型的目的是針對已有技術中存在的缺陷,提供一種金屬有機物化學氣相沉積設備石墨盤轉移裝置。本實用新型包括:包括:機械臂、手套箱1、噴淋盤2、噴淋盤導柱3、整流罩7、升降板導柱8、波紋管9、升降板10、連接套11、波紋管12、底座基體13、旋轉座14、石磨盤支撐15、石墨盤16、石墨盤中轉裝置17，機械臂由機械臂夾取爪4、機械臂旋轉軸5、機械臂懸臂桿18和機械臂滑動導軌6組成，噴淋盤2經噴淋盤導柱3設置在手套箱1內，其特征在于所述手套箱1底板上設有一孔，底座基體13固定在手套箱1的底板開孔位置的箱體里面，整流罩7固定在底座基體13上，波紋管9的頂端和手套箱1的底板開孔位置的箱體密封連接，其底端與升降板10密封連接，升降板10上表面依次與連接套11、旋轉座14、石墨盤支撐15和石墨盤16連接，升降板10由外部動力驅動沿升降板導柱8上下移動，壓縮或者拉伸波紋管9以使石墨盤16跟隨升降板10上升或者下降，旋轉座14、石墨盤支撐15和石墨盤16都設置在手套箱1內，手套箱1的底板上設有一機械臂滑動導軌6與石墨盤中轉裝置17，機械臂旋轉軸5安裝在機械臂滑動導軌6上，機械臂旋轉軸5的頂端裝有機械臂懸臂桿18，機械臂夾取爪4安裝在機械臂懸臂桿18的前端，機械臂由機械臂動力裝置驅動。外部動力驅動升降板10帶動，當石墨盤16逐漸上升，升出反應腔直到合適的位置，機械臂可以沿機械臂滑動導軌6滑動靠近反應腔，機械臂可以繞機械臂旋轉軸5旋轉一定角度，靠近石墨盤支撐15上的石墨盤16，再由程序控制的機械臂將石墨盤16轉移出反應腔體，石墨盤16由機械臂放置在石墨盤中轉裝置17上，反之相同，石墨盤16由機械臂從中轉位置17處轉移放置在支撐結構15上面。

所述石墨盤中轉裝置17為一機械臂轉移石墨盤16暫時存放石墨盤16的中轉支撐臺。

所述機械臂的外部動力裝置為電機驅動或液壓驅動，由動力裝置驅動機械臂旋轉軸5，機械臂旋轉軸5沿機械臂導軌6前后移動以及旋轉角度，機械臂旋轉軸5帶動機械臂懸臂桿18前后位移及旋轉角度。

所述石墨盤16放置在石磨盤支撐15上，由機械臂夾取爪4夾取或放置。石墨盤中轉裝置17是支撐由機械臂轉移的石墨盤16暫時存放的中轉臺。

本實用新型的優點是利用機械臂轉移石墨盤，而且該機械臂的組成簡單，成本低廉。在保證整個腔體密封性的同時能夠聯動地升高石墨盤，機械臂沿導軌滑動到合適位置，通過夾取、轉移石墨盤的方式，將石墨盤移出反應腔，操作方便、提高了效率。

附圖說明

圖1本實用新型的結構示意圖；

圖2本實用新型的夾取石墨盤時的俯視結構示意圖；

圖3本實用新型的移出石墨盤時的俯視結構示意圖。

圖中：1手套箱、2噴淋盤、3噴淋盤導柱、4機械臂夾取爪、5機械臂旋轉軸、6機械臂滑動導軌、7整流罩、8升降板導柱、9波紋管、10升降板、11連接套、12-1波紋管法蘭、12-2波紋管法蘭、13底座基體、14旋轉座、15石墨盤支撐、16石墨盤、17石墨盤中轉裝置、18機械臂懸臂桿。

具體實施方式

下面結合附圖進一步說明本實用新型的實施例：