[實用新型]防斷電保護的硅片清洗機

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201220478275.2
• 申請日: 2012-09-18
• 公開（公告）號: CN202824050U
• 公開（公告）日: 2013-03-27
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 張紹國;何金群;裴立坤;吳儀;王好肖
• 申請（專利權(quán)）人: 北京七星華創(chuàng)電子股份有限公司
• 主分類號: B08B13/00
• 分類號: B08B13/00;B08B3/00
• 代理公司: 北京路浩知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11002
• 代理人: 王瑩

技術(shù)領(lǐng)域

本實用新型涉及半導體清洗技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種防斷電保護的硅片清洗機。?

背景技術(shù)

在半導體行業(yè)，需要對硅片后道工藝銅互連階段后，多孔性介質(zhì)材料進行超精細清洗，Chuck（卡盤）夾持的硅片高速旋轉(zhuǎn)進行清洗時在工藝腔室內(nèi)完成，清洗包括藥液漂洗、超純水沖洗和N₂甩干等工藝。在清洗的過程為了實現(xiàn)對化學藥液的回收利用，工藝腔室采用分層設(shè)計，Up/down單元帶動Chuck至各工藝位置，由伺服電機帶動Chuck做高速旋轉(zhuǎn)運動，通過離心力將化學藥液甩到專用的回收槽里面。為了防止化學液向下發(fā)生滴漏，需要在工藝腔室底背部向上吹N₂，從而在硅片底部形成一層自下而上的氣體保護膜。一般情況下，如果設(shè)備突然發(fā)生斷電，化學液將會殘留在硅片上面，此時如果硅片底部N₂保護氣發(fā)生中斷，液體將可能通過硅片邊緣滴漏到工藝腔室里面，嚴重污染清洗環(huán)境的清潔度。整個設(shè)備如果采用UPS斷電保護，成本較高。?

實用新型內(nèi)容

（一）要解決的技術(shù)問題?

本實用新型要解決的技術(shù)問題是，針對現(xiàn)有技術(shù)的不足，提供一種防斷電保護的硅片清洗機，對N₂管路進行雙通道設(shè)計，從而保證整個清洗過程N₂通道始終處于暢通狀態(tài)。?

（二）技術(shù)方案?

本實用新型提供一種防斷電保護的硅片清洗機，包括：工藝腔室和位于工藝腔室底部的N₂管路，所述N₂管路包括：常開N₂管路和常閉?N₂管路，所述常開N₂管路與常閉N₂管路并聯(lián)設(shè)置，所述常開N₂管路上設(shè)有常開波紋密封閥，所述常閉N₂管路上設(shè)有常閉波紋密封閥。?

其中，當所述常開波紋密封閥打開時，所述常閉波紋密封閥關(guān)閉；當所述常開波紋密封閥關(guān)閉時，所述常閉波紋密封閥打開。?

其中，所述常開波紋密封閥和常閉波紋密封閥通過電磁閥島氣動控制。?

其中，防斷電保護的硅片清洗機還包括：位于常閉波紋密封閥前端管路上的壓力針閥。?

其中，防斷電保護的硅片清洗機還包括：位于常閉波紋密封閥后端管路上的單向閥。?

其中，防斷電保護的硅片清洗機還包括：位于常開波紋密封閥后端管路上的超聲波流量計和過濾器，所述超聲波流量計位于所述過濾器的前端管路上。?

（三）有益效果?

本實用新型提供的防斷電保護的硅片清洗機，采用雙通道互鎖并聯(lián)設(shè)計，當設(shè)備主電源發(fā)生斷電時候，兩個互鎖的波紋密封閥通過相反控制動作，使N₂通路不會因為斷電而發(fā)生中斷，保證清洗機環(huán)境清潔。?

附圖說明

圖1為本實用新型防斷電保護的硅片清洗機管路結(jié)構(gòu)示意圖；?

圖2為本實用新型防斷電保護的硅片清洗機的工藝腔室結(jié)構(gòu)示意圖。?

具體實施方式

下面結(jié)合附圖和實施例，對本實用新型的具體實施方式作進一步詳細描述。以下實施例用于說明本實用新型，但不用來限制本實用新型的范圍。?

如圖1所示，本實用新型提供一種防斷電保護的硅片清洗機，包?括：工藝腔室8和位于工藝腔室底部的N₂管路，所述N₂管路包括：常開N₂管路9和常閉N₂管路10，所述常開N₂管路9與常閉N₂管路10并聯(lián)設(shè)置，所述常開N₂管路9上設(shè)有常開波紋密封閥4，所述常閉N₂管路10上設(shè)有常閉波紋密封閥3。當所述常開波紋密封閥4打開時，所述閉波紋密封閥3關(guān)閉，當所述常開波紋密封閥4關(guān)閉時，所述閉波紋密封閥3打開。所述常開波紋密封閥4和常閉波紋密封閥3通過電磁閥島氣動控制。?

防斷電保護的硅片清洗機還包括：位于常閉波紋密封閥3前端管路上的壓力針閥2、位于常閉波紋密封閥3后端管路上的單向閥7以及位于常開波紋密封閥4后端管路上的超聲波流量計5和過濾器6，所述超聲波流量計5位于所述過濾器6的前端管路上。?

工作原理：?