[實(shí)用新型]一種多芯片半導(dǎo)體器件有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201220468754.6 | 申請(qǐng)日: | 2012-09-14 |
| 公開(公告)號(hào): | CN202816917U | 公開(公告)日: | 2013-03-20 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 羅艷玲 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 杰群電子科技(東莞)有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L23/49 | 分類號(hào): | H01L23/49;H01L23/495 |
| 代理公司: | 東莞市華南專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 44215 | 代理人: | 雷利平 |
| 地址: | 523750 廣東省東莞市黃江鎮(zhèn)裕元工*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 芯片 半導(dǎo)體器件 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型涉及半導(dǎo)體器件技術(shù)領(lǐng)域,特別涉及一種多芯片半導(dǎo)體器件。
背景技術(shù)
現(xiàn)如今,半導(dǎo)體集成電路芯片因其體積小,處理能力強(qiáng)而得到越來越廣泛的使用。而隨著技術(shù)的進(jìn)步,越來越多的半導(dǎo)體器件需要將多個(gè)半導(dǎo)體元件封裝在一起。同時(shí)為了實(shí)現(xiàn)各個(gè)半導(dǎo)體元件之間的電連接,一般需要采用接合線使半導(dǎo)體元件之間實(shí)現(xiàn)電連接。
現(xiàn)有技術(shù)中,一般采用銅線或者鋁線等單一形式的金屬線作為接合線,但是由于半導(dǎo)體器件中有多個(gè)半導(dǎo)體元件,所以需要較多的接合線,如果單獨(dú)采用銅線作為接合線,大量的銅線會(huì)占用比較多的空間,增加了半導(dǎo)體器件的體積,同時(shí)比較密集的銅線之間也容易產(chǎn)生較大的寄存性電容,影響半導(dǎo)體器件性能。另一方面,由于接合線數(shù)量較多,焊接需要較多時(shí)間,生產(chǎn)效率低下。如果采用鋁線作為連接線,由于一根鋁線可替代多條銅線,因此可大大減少接合線的數(shù)量,避免采用銅線時(shí)遇到的諸多問題,但是,由于IC芯片上的焊盤尺寸較小,而采用鋁線焊點(diǎn)較大,容易造成短路等問題,所以在IC芯片上不適合采用鋁線作為接合線。
因此,為解決現(xiàn)有技術(shù)中的不足之處,提供一種能減少半導(dǎo)體器件接合線數(shù)量,縮小半導(dǎo)體器件尺寸,同時(shí)又不影響半導(dǎo)體器件性能的半導(dǎo)體器件技術(shù)顯得尤為重要。
發(fā)明內(nèi)容
本實(shí)用新型的目的在于避免上述現(xiàn)有技術(shù)中的不足之處而提供一種能減少半導(dǎo)體器件接合線,縮小半導(dǎo)體器件尺寸的多芯片半導(dǎo)體器件。
本實(shí)用新型的目的通過以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn):
提供了一種多芯片半導(dǎo)體器件,包括IC芯片和MOS芯片,還包括管腳和電路基板,所述IC芯片和MOS芯片分別焊接在對(duì)應(yīng)的電路基板上,所述IC芯片通過銅線分別與MOS芯片、電路基板和管腳電連接,所述MOS芯片通過鋁線分別與電路基板和管腳電連接。
其中,所述銅線外表面涂覆有涂覆層。
其中,還包括引線框架,所述引線框架上設(shè)置有焊接區(qū),所述電路基板焊接于所述焊接區(qū)上。
其中,所述半導(dǎo)體應(yīng)先框架的外部對(duì)應(yīng)所述IC芯片的位置設(shè)置有散熱板。
其中,所述引線框架的外部對(duì)應(yīng)所述MOS芯片的位置設(shè)置有散熱板。
本實(shí)用新型的有益效果:提供了一種多芯片半導(dǎo)體器件,包括IC芯片和MOS芯片,還包括管腳和電路基板,所述IC芯片和MOS芯片分別焊接在對(duì)應(yīng)的電路基板上,所述IC芯片通過銅線分別與MOS芯片、電路基板和管腳電連接,所述MOS芯片通過鋁線分別與電路基板和管腳電連接。由于IC芯片焊盤尺寸較小,不利于鋁線焊接,因此,采用銅線焊接,而MOS芯片的焊盤尺寸較大,采用鋁線替代銅線焊接,而一條鋁線能夠代替多條銅線,本實(shí)用新型采用銅線和鋁線相結(jié)合的接合方式,不僅能減少接合線的使用數(shù)量,減小了器件的總體尺寸,同時(shí)也避免了大量密集的銅線會(huì)產(chǎn)生寄存性電容的問題,提高器件性能。
附圖說明
利用附圖對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步說明,但附圖中的實(shí)施例不構(gòu)成對(duì)本實(shí)用新型的任何限制,對(duì)于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員,在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下,還可以根據(jù)以下附圖獲得其它的附圖。
圖1為本實(shí)用新型一種多芯片半導(dǎo)體器件的實(shí)施例的內(nèi)部結(jié)構(gòu)示意圖。
圖2為本實(shí)用新型一種多芯片半導(dǎo)體器件的實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖。
在圖1至圖2中包括有:
1——IC芯片、2——MOS芯片、3——管腳、4——電路基板、5——銅線、6——鋁線、7——引線框架?、8——散熱板。
具體實(shí)施方式
結(jié)合以下實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步描述。
本實(shí)用新型一種多芯片半導(dǎo)體器件的具體實(shí)施方式,如圖1至圖2所示,包括有:包括IC芯片1和MOS芯片2,還包括管腳3和電路基板4,所述IC芯片1和MOS芯片2分別焊接在對(duì)應(yīng)的電路基板4上,所述IC芯片1通過銅線5分別與MOS芯片2、電路基板4和管腳3電連接,所述MOS芯片2通過鋁線6分別與電路基板4和管腳3電連接。由于IC芯片1焊盤尺寸較小,不利于鋁線6焊接,因此采用銅線5焊接,而MOS芯片2的焊盤尺寸較大,采用鋁線6替代銅線5焊接,而一條鋁線6能夠代替多條銅線5,因此能減少了接合線的數(shù)量,減小了器件的總體尺寸,同時(shí)也避免了大量密集的銅線5會(huì)產(chǎn)生寄存性電容的問題,提高器件性能。
本實(shí)施例中,所述銅線5外表面涂覆有涂覆層。涂覆層既能夠有效的保護(hù)銅線5,提高銅線5以及金線的耐高溫特性,耐遷移性等,同時(shí)還可以減低接合線之間的寄存性電容,進(jìn)一步提高多芯片半導(dǎo)體器件的性能。
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