[實用新型]具有氣流限制機構的等離子體處理系統有效
| 申請號: | 201220465081.9 | 申請日: | 2012-09-12 |
| 公開(公告)號: | CN202839532U | 公開(公告)日: | 2013-03-27 |
| 發明(設計)人: | 丁雪苗 | 申請(專利權)人: | 珠海寶豐堂電子科技有限公司 |
| 主分類號: | H01J37/32 | 分類號: | H01J37/32 |
| 代理公司: | 廣州華進聯合專利商標代理有限公司 44224 | 代理人: | 曾旻輝;胡杰 |
| 地址: | 519000 廣東省珠*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 具有 氣流 限制 機構 等離子體 處理 系統 | ||
技術領域
本實用新型涉及一種等離子處理技術,具體來說,特別是涉及一種可使氣體均勻分布的具有氣流限制機構的等離子體處理系統。
背景技術
目前,等離子處理設備廣泛應用于等離子清洗、刻蝕、等離子鍍、等離子涂覆、等離子灰化和表面活化、改性等場合。通過其處理,能夠改善材料的潤濕能力,使多種材料能夠進行涂覆、鍍等操作,增強粘合力、鍵合力,同時去除有機污染物、油污或油脂。
但是,在現有的等離子處理設備當中,所有的電極之間沒有氣流限制機構,氣體也沒有均勻的分布到每兩片電極之間,氣體在兩片電極之間只能部分電離,還有一部分氣體被真空泵抽走,由于產生的等離子氣體不均勻,導致進行等離子體處理時,也會產生不均勻的問題。同時,由于氣體在電極之間只能部分電離,產生等離子體的效率較低,也導致進行等離子體處理的效率降低。
發明內容
基于此,本實用新型的目的在于提供一種具有氣流限制機構的等離子體處理系統,該系統可以產生均勻分布的等離子氣體。
為實現本實用新型目的,提供以下技術方案:一種具有氣流限制機構的等離子體處理系統,包括外框、電極板、氣體輸送管道、抽真空系統、置料夾具;所述電極板、置料夾具、氣體輸送管道上設有的出氣孔均位于外框所形成的真空腔體內;所述置料夾具為框架型結構,位于兩塊對應的電極板中間,所述氣體輸送管道位于置料夾具與電極板之間,其出氣孔與所述置料夾具框架相對。
當氣體由氣體輸送管道的出氣孔噴射出后,碰到置料夾具框架的阻擋,有效地控制了氣流,使氣體在電極板之間均勻分布,產生均勻的等離子氣體,增加樣品的等離子體處理均勻性。
下面對進一步技術方案進行說明:
在一些實施例中,所述氣體輸送管道沿置料夾具框架形狀設置,其上均勻設有若干個出氣孔,每個出氣孔均與所述置料夾具框架相對。氣體由若干個均勻分布的出氣孔噴射出,進一步增加了氣體在電極板之間分布的均勻性。
在一些實施例中,所述電極板至少為三塊,均平行相對設置,且相鄰電極板為不同極性,每兩塊電極板之間均設有置料夾具和氣體輸送管道。每兩塊電極板形成一個等離子體處理室,以此類推,每三塊電極板形成兩個等離子體處理室,整個真空腔體內形成多個處理室,使得該等離子體處理系統空間利用合理、結構緊湊,處理效率高。
在一些實施例中,所述多個置料夾具連為一體,形成置料夾具架,該置料夾具架下端設有滑輪。方便將置料夾具由真空腔體內拉出,收放待處理樣品。
在一些實施例中,該具有氣流限制機構的等離子體處理系統還包括氣體限制擋板,所述抽真空系統包括真空管道和真空泵;所述真空管道一端連接真空泵,另一端開口于外框內壁,形成抽真空口;所述氣體限制擋板位于抽真空口前方,將抽真空口遮擋,并與抽真空口相隔預定距離。通過氣體限制擋板的阻擋限流作用,有效控制氣體流動方向,防止氣體直接被真空泵抽走,進一步增加了氣體在電極板之間分布的均勻性。
在一些實施例中,所述氣體限制擋板與開有抽真空口的外框平行設置,該氣體限制擋板四周邊緣與真空腔體內壁之間留有供氣體流動的空隙。最大限度的控制氣體流動方向,使氣體僅能從該空隙中流走,增加其在真空腔體內的均勻性。
在一些實施例中,所述抽真空口設置的方向與出氣孔出氣方向一致。保證出氣孔的出氣方向與抽真空方向一致,使氣體可以均勻的進入真空腔體內。
在一些實施例中,所述置料夾具兩側分別設有兩條所述氣體輸送管道。使氣體由在真空腔體內更加均勻分布的出氣孔噴射出,進一步增加了氣體在電極板之間分布的均勻性。
在一些實施例中,所述置料夾具上沿電極板平面方向開有供等離子處理樣品放入的條形通孔。方便處理樣品的收放。
下面對前述技術方案的優點進行說明:
本實用新型所提供的具有氣流限制機構的等離子體處理系統,利用置料夾具,有效地控制了氣流,使氣體在電極板之間均勻分布,產生均勻的等離子氣體,增加樣品的等離子體處理均勻性。并通過在氣體輸送管道上均勻設有若干個出氣孔,及設置氣體限制擋板來進一步增加氣體在電極板之間分布的均勻性,從而可以產生均勻分布的等離子氣體,改善目前等離子體處理均勻性問題。還通過設置多塊電極板,在真空腔體內形成多個等離子體處理室,具有空間利用合理、結構緊湊,處理效率高的特點。
附圖說明
圖1是本實用新型實施例所述的具有氣流限制機構的等離子體處理系統示意圖;
圖2是本實用新型實施例所述的具有氣流限制機構的等離子體處理系統正視圖;
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