[實用新型]具有氣流限制機構的等離子體處理系統

有效

• 申請號: 201220465081.9
• 申請日: 2012-09-12
• 公開（公告）號: CN202839532U
• 公開（公告）日: 2013-03-27
• 發明（設計）人: 丁雪苗
• 申請（專利權）人: 珠海寶豐堂電子科技有限公司
• 主分類號: H01J37/32
• 分類號: H01J37/32
• 代理公司: 廣州華進聯合專利商標代理有限公司 44224
• 代理人: 曾旻輝;胡杰

1.一種具有氣流限制機構的等離子體處理系統，包括外框、電極板、氣體輸送管道、抽真空系統、置料夾具；所述電極板、置料夾具、氣體輸送管道上設有的出氣孔均位于外框所形成的真空腔體內；

其特征在于，所述置料夾具為框架型結構，位于兩塊對應的電極板中間，所述氣體輸送管道位于置料夾具與電極板之間,其出氣孔與所述置料夾具框架相對。

2.根據權利要求1所述的具有氣流限制機構的等離子體處理系統，其特征在于，所述氣體輸送管道沿置料夾具框架形狀設置，其上均勻設有若干個出氣孔，每個出氣孔均與所述置料夾具框架相對。

3.根據權利要求1所述的具有氣流限制機構的等離子體處理系統，其特征在于，所述電極板至少為三塊，均平行相對設置，且相鄰電極板為不同極性，每兩塊電極板之間均設有置料夾具和氣體輸送管道。

4.根據權利要求3所述的具有氣流限制機構的等離子體處理系統，其特征在于，所述多個置料夾具連為一體，形成置料夾具架，該置料夾具架下端設有滑輪。

5.根據權利要求1所述的具有氣流限制機構的等離子體處理系統，其特征在于，還包括氣體限制擋板，所述抽真空系統包括真空管道和真空泵；所述真空管道一端連接真空泵，另一端開口于外框內壁，形成抽真空口；所述氣體限制擋板位于抽真空口前方，將抽真空口遮擋，并與抽真空口相隔預定距離。

6.根據權利要求5所述的具有氣流限制機構的等離子體處理系統，其特征在于，所述氣體限制擋板與開有抽真空口的外框平行設置，該氣體限制擋板四周邊緣與真空腔體內壁之間留有供氣體流動的空隙。

7.根據權利要求5所述的具有氣流限制機構的等離子體處理系統，其特征在于，所述抽真空口設置的方向與出氣孔出氣方向一致。

8.根據權利要求1-7任一項所述的具有氣流限制機構的等離子體處理系統，其特征在于，所述置料夾具兩側分別設有兩條所述氣體輸送管道。

9.根據權利要求1所述的具有氣流限制機構的等離子體處理系統，其特征在于，所述置料夾具上沿電極板平面方向開有供等離子處理樣品放入的條形通孔。