[實用新型]用于濕法化學處理的設備有效
| 申請號: | 201220451012.2 | 申請日: | 2012-09-05 |
| 公開(公告)號: | CN203055873U | 公開(公告)日: | 2013-07-10 |
| 發明(設計)人: | 約爾格·弗蘭茨克;馬蒂亞斯·尼澤;于爾根·施韋希肯迪克 | 申請(專利權)人: | 睿納有限責任公司 |
| 主分類號: | H01L21/67 | 分類號: | H01L21/67 |
| 代理公司: | 北京集佳知識產權代理有限公司 11227 | 代理人: | 張春水;田軍鋒 |
| 地址: | 德國居*** | 國省代碼: | 德國;DE |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用于 濕法 化學 處理 設備 | ||
技術領域
本實用新型涉及一種用于濕法化學處理的設備,以用于借助處理液對襯底進行濕法化學處理。更準確地,本實用新型涉及一種可替換的處理池。?
背景技術
通常使用容納相應處理液的處理池來對例如為硅襯底(晶圓)的物體進行濕法化學的處理,所述處理例如涉及對這種襯底進行移除(蝕刻)、覆層或清洗。根據期望的處理,處理液為蝕刻液、覆層液(例如電解液)、或清洗液。隨后,襯底或者成堆疊狀地引入到池中(“批量處理”),或者將所述襯底以連續式方法運輸經過處理液或者沿著處理液運輸(“連續式處理”),其中所述襯底在處理時間內保留于所述池中。?
例如從US5,000,827和DE102007020449中已知適合于成堆疊狀地處理襯底的設備的實例。所述參考文獻示出用于處理置于反應器殼體之上的襯底的所謂的溢流反應器。借助于泵輸送的處理液穿過反應器殼體向上流動,其中在襯底和反應器殼體的上部端部之間設有一定距離,使得形成構造為溢流口的環形間隙。?
因為在使用這種處理池時,處理液穿過反應器殼體的上部邊緣從所述反應器殼體中流出,通常在池之下存在有用于容納溢出液體的容器。?
由于工藝順序的改變、由于定期的檢驗工作、或者由于要短時間內執行的維護工作,必須能夠替換處理池。對此,通常需要一系列的措施,其中尤其強調將處理池從用于容納的容器中脫離和可靠地提升池。在此,對池精確地以及謹慎地進行提升是期望的。?
實用新型內容
因此,本實用新型的目的是提供一種設備,所述設備實現對用于濕法化學工藝的處理池進行簡單的以及可靠的替換。在此,尤其期望省時?地、可靠地和盡可能位置精確地提升池或放下(替換)池。此外,解決方案應盡是可能低成本的。?
所述目的通過用于濕法化學處理的設備以用于借助處理液對襯底進行濕法化學處理來實現,所述用于濕法化學處理的設備包括:具有外壁的、能夠替換的處理池;設置在所述處理池之下的、用于容納從所述處理池中流出的處理液的容器;以及至少兩根偏心軸,借助于所述偏心軸能夠通過提升來將所述處理池與所述用于容納的容器分離。其他有利的實施形式從說明書中以及附圖得出。?
根據本實用新型的設備用于借助處理液對襯底進行濕法化學處理。根據定義,這種處理不僅包括對襯底進行化學移除或覆層,而且包括穿過或沿著所述處理液對襯底進行清洗或者僅僅運輸。?
根據本實用新型,設備包括能夠具有外壁的、可替換的處理池;設置在處理池之下的、用于容納從處理池中流出的處理液的容器;以及至少兩根偏心軸,借助于所述偏心軸通過提升用于容納的容器能夠分離處理池。?
優選地,處理池能夠在至少兩根偏心軸上在提升位置中移動。?
根據一個優選的實施形式,在處理池的外壁和用于容納的容器之間的過渡區域中設置有基于液體的密封部,通過在過渡區域中提供液體收集容積部實現所述密封部的構成。為了闡明這種密封部參考參附圖描述。?
尤其優選地,所述液體收集容積部具有小于偏心軸的偏心距的(要垂直地確定的)深度。通過以偏心距的大小提升處理池能夠足夠高地將所述處理池從液體收集容積部的接合區域中提起,以便能夠無碰撞或歪斜地將所述處理池可靠地移出。這當液體收集容積部的深度大于偏心距時是不可能的;因此,從接合區域中附加地進行提升是必需的。?
此外優選的是,偏心軸從設備的提取側朝向與所述提取側對置的后側傾斜地延伸。因此,在拉出時,在然后起到滑軌或導軌作用的偏心軸上繼續提升處理池。對此也參考附圖描述。以這種方式可能的是,無工具地(或者至少用少量工具地)替換處理池,還在較短時間內完成所述?替換。?
隨后,描述利用根據本實用新型的設備對用于借助處理液對襯底進行濕法化學處理的處理池的替換。為避免重復可以參考上述實施形式。?
這種應用包括利用至少兩根偏心軸通過提升來將處理池與用于容納的容器分離的、與替換池有關的步驟,以及接下來在提升位置中的處理池的移動。?
為替換處理池,首先在與處理池連接的配合面處通過與所述配合面共同作用的偏心軸的旋轉將該處理池提升。?
隨后,在借助于旋轉偏心軸進行提升之后,在提升位置中,處理池在所述偏心軸上移動。清楚的是,進行所述移動使得將要替換的處理池從處理站的區域中移出。優選地,能夠將處理池在充分的移動之后放置在池運輸設備上。?
同樣清楚的是,以相反的方式進行將同一個或另一個處理池裝如到處理站中。因此不相應地進行描述。?
因此,本實用新型提供一種設備,借助所述設備基于借助于偏心軸進行的提升可實現簡單、可靠、快速和低成本地替換用于濕法化學處理襯底的處理池。?
附圖說明
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
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H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





