[實用新型]反應氣體混合裝置及包含該裝置的等離子體處理設備

有效

• 申請號: 201220448240.4
• 申請日: 2012-09-04
• 公開（公告）號: CN202893212U
• 公開（公告）日: 2013-04-24
• 發明（設計）人: 魏強;倪圖強
• 申請（專利權）人: 中微半導體設備（上海）有限公司
• 主分類號: B01F3/02
• 分類號: B01F3/02;B01F5/02;H01J37/32
• 代理公司: 隆天國際知識產權代理有限公司 72003
• 代理人: 張龍哺;馮志云

技術領域

本實用新型涉及一種與等離子體處理設備配合使用的反應氣體混合裝置。?

背景技術

在等離子體處理工藝中，首先需要將調制氣體和制程氣體混合為反應氣體，再將反應氣體導入反應腔室中，并施加射頻功率，對半導體待加工件進行等離子體處理工藝。等離子體處理工藝要求調制氣體和制程氣體混合均勻，但通常情況下采用管道狀或腔室形狀的氣體混合裝置進行氣體混合時，由于兩種氣體流速不同、氣壓不同，在氣體混合裝置中難以得到較佳程度的混合，從而導致反應腔室中反應氣體的濃度和質量不符合工藝要求，給等離子體處理工藝帶來不利影響。?

一般而言，將調制氣體和制程氣體通過一個大容積、長路徑的混合裝置，將會更好地實現對氣體的混合；但采用這種混合裝置會降低反應氣體的氣壓，從而使等離子體處理工藝增加過多的開銷，提升了整個工藝的復雜性。?

因此，研發人員期望得到一種結構簡單、能使調制氣體和制程氣體充分均勻地混合在一起的反應氣體混合裝置。?

實用新型內容

本實用新型的目的在于提供一種能使調制氣體和制程氣體混合均勻的反應氣體混合裝置。?

為實現上述目的，本實用新型的技術方案如下：?

一種反應氣體混合裝置，與等離子體處理設備配合使用，等離子體?處理設備包括反應腔室和氣體噴淋頭，反應氣體混合裝置用于將第一氣體和第二氣體混合為反應氣體，反應氣體導入等離子體處理設備中進行等離子體處理工藝，該混合裝置包括：第一氣體進氣口，第一氣體從第一氣體進氣口通入；第二氣體進氣口，第二氣體從第二氣體進氣口通入；混合氣體出口，反應氣體通過混合氣體出口經氣體噴淋頭導入反應腔室；混合氣體管道，其一端連接第一氣體進氣口和第二氣體進氣口，其另一端連接混合氣體出口，混合氣體管道包括至少一個第一管道部和至少一個第二管道部，第一管道部和第二管道部為混合氣體管道中相鄰接的管道部分；其中，在第一管道部和第二管道部之間還接有至少一個彎角管道。?

優選地，彎角管道分別可拆卸地與第一管道部、第二管道部連接。?

優選地，反應氣體混合裝置還包括一氣體分離器，連接入混合氣體管道和氣體噴淋頭之間，氣體分離器將反應氣體分成多路并通過氣體噴淋頭導入反應腔室的不同區域。?

優選地，彎角管道為多個并成對設置，在任一對或任多對相鄰的彎角管道之間連接有至少一個調節閥，調節閥控制混合氣體管道的通斷狀態以及混合氣體管道中反應氣體的流量。?

本實用新型還公開了一種等離子體處理設備，至少包括反應腔室、氣體噴淋頭和反應氣體混合裝置，反應氣體混合裝置將第一氣體和第二氣體混合后通過氣體噴淋頭導入反應腔室中進行等離子體處理工藝。?

本實用新型提供的反應氣體混合裝置，在混合氣體管道中接入了一個或多個彎角管道，以簡單的結構實現了對第一氣體和第二氣體均勻混合，使反應腔室中反應氣體濃度及分布符合工藝要求，其開銷少，實施便利。?

附圖說明

圖1示出本實用新型第一實施例的反應氣體混合裝置結構示意圖；?

圖2示出本實用新型第二實施例的反應氣體混合裝置結構示意圖；?

圖3示出本實用新型第三實施例的反應氣體混合裝置結構示意圖；?

圖4示出本實用新型第四實施例的反應氣體混合裝置結構示意圖。?

具體實施方式

下面結合附圖，對本實用新型的具體實施方式作進一步的詳細說明。?

如圖1所述，本實用新型第一實施例提供的反應氣體混合裝置包括第一氣體進氣口10、第二氣體進氣口20、混合氣體出口30和混合氣體管道，該反應氣體混合裝置與等離子體處理設備配合使用。等離子體處理設備包括反應腔室和氣體噴淋頭，反應氣體混合裝置將第一氣體和第二氣體混合成反應氣體，反應氣體隨后通過氣體噴淋頭導入反應腔室中，再向反應腔室施加射頻功率作用于反應氣體產生等離子體，對放置于反應腔室中的待加工半導體工件進行等離子體處理工藝。?

第一氣體自第一氣體進氣口10通入該反應氣體混合裝置，第二氣體自第二氣體進氣口20通入，兩者混合形成的反應氣體自混合氣體出口30導出到氣體噴淋頭中。?