[實用新型]反應氣體混合裝置及包含該裝置的等離子體處理設備

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201220448240.4
• 申請日: 2012-09-04
• 公開（公告）號: CN202893212U
• 公開（公告）日: 2013-04-24
• 發(fā)明（設計）人: 魏強;倪圖強
• 申請（專利權）人: 中微半導體設備（上海）有限公司
• 主分類號: B01F3/02
• 分類號: B01F3/02;B01F5/02;H01J37/32
• 代理公司: 隆天國際知識產權代理有限公司 72003
• 代理人: 張龍哺;馮志云

1.一種反應氣體混合裝置，與等離子體處理設備配合使用，所述等離子體處理設備包括反應腔室和氣體噴淋頭，所述反應氣體混合裝置用于將第一氣體和第二氣體混合為所述反應氣體，所述反應氣體導入所述等離子體處理設備中進行等離子體處理工藝，所述混合裝置包括：

第一氣體進氣口，所述第一氣體從所述第一氣體進氣口通入；

第二氣體進氣口，所述第二氣體從所述第二氣體進氣口通入；

混合氣體出口，所述反應氣體通過所述混合氣體出口經所述氣體噴淋頭導入所述反應腔室；

混合氣體管道，其一端連接所述第一氣體進氣口和第二氣體進氣口，其另一端連接所述混合氣體出口，所述混合氣體管道包括至少一個第一管道部和至少一個第二管道部，所述第一管道部和第二管道部為所述混合氣體管道中相鄰接的管道部分；

其特征在于，在所述第一管道部和所述第二管道部之間還接有至少一個彎角管道。

2.如權利要求1所述的反應氣體混合裝置，其特征在于，所述彎角管道分別可拆卸地與所述第一管道部、所述第二管道部連接。

3.如權利要求2所述的反應氣體混合裝置，其特征在于，所述反應氣體混合裝置還包括一氣體分離器，連接入所述混合氣體管道和所述氣體噴淋頭之間，所述氣體分離器將所述反應氣體分成多路并通過所述氣體噴淋頭導入所述反應腔室的不同區(qū)域。

4.如權利要求3所述的反應氣體混合裝置，其特征在于，所述反應氣體混合裝置還包括至少一個調節(jié)閥，連接入所述混合氣體出口和所述氣體分離器之間，所述調節(jié)閥控制所述反應氣體進入所述氣體分離器的流量。

5.如權利要求3所述的反應氣體混合裝置，其特征在于，所述彎角管道為多個并成對設置，在任一對或任多對相鄰的所述彎角管道之間連接有至少一個調節(jié)閥，所述調節(jié)閥控制所述混合氣體管道的通斷狀態(tài)以及所述混合氣體管道中所述反應氣體的流量。

6.如權利要求1至5中任一項所述的反應氣體混合裝置，其特征在于，所述彎角管道的彎角為90度。

7.如權利要求6所述的反應氣體混合裝置，其特征在于，所述彎角管道為一體成型。

8.如權利要求7所述的反應氣體混合裝置，其特征在于，所述混合氣體管道由鋁或鋁合金制成。

9.如權利要求6所述的反應氣體混合裝置，其特征在于，所述第一氣體為制程氣體，所述第二氣體為調制氣體，配合所述第一氣體進行所述等離子體處理工藝。

10.一種等離子體處理設備，至少包括反應腔室、氣體噴淋頭和如權利要求1至5中任一項所述的反應氣體混合裝置，所述反應氣體混合裝置將第一氣體和第二氣體混合后通過所述氣體噴淋頭導入所述反應腔室中進行等離子體處理工藝。