[實(shí)用新型]一種便于清潔的半導(dǎo)體沉積設(shè)備結(jié)構(gòu)

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201220437873.5
• 申請(qǐng)日: 2012-08-30
• 公開（公告）號(hào): CN202772119U
• 公開（公告）日: 2013-03-06
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 許亮
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 中芯國(guó)際集成電路制造（北京）有限公司
• 主分類號(hào): H01L21/687
• 分類號(hào): H01L21/687
• 代理公司: 上海光華專利事務(wù)所 31219
• 代理人: 李儀萍

1.一種便于清潔的半導(dǎo)體沉積設(shè)備結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述半導(dǎo)體沉積設(shè)備結(jié)構(gòu)至少包括：

承載結(jié)構(gòu)，所述承載結(jié)構(gòu)包括一承載圓盤及垂直固定于該承載圓盤側(cè)壁的六對(duì)用于承載晶圓的承載棒，且相鄰的兩對(duì)承載棒之間的夾角為60度；

環(huán)繞于所述承載圓盤四周的加熱器，且所述加熱器表面具有多個(gè)與各該承載棒對(duì)應(yīng)的收容槽；

連接于所述承載圓盤底部中心區(qū)域，用于帶動(dòng)所述承載圓盤上下移動(dòng)及帶動(dòng)該承載圓盤沿其中心軸轉(zhuǎn)動(dòng)的旋轉(zhuǎn)支撐裝置；

其中，所述承載棒被所述旋轉(zhuǎn)支撐裝置固定至超出所述加熱器的上表面，且與與其對(duì)應(yīng)的收容槽的夾角為20～40度的位置。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的便于清潔的半導(dǎo)體沉積設(shè)備結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述承載棒被所述旋轉(zhuǎn)支撐裝置固定至與與其對(duì)應(yīng)的收容槽的夾角為30度的位置。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的便于清潔的半導(dǎo)體沉積設(shè)備結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述承載棒的截面形狀為矩形。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的便于清潔的半導(dǎo)體沉積設(shè)備結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述收容槽為矩形槽，且所述收容槽的寬度大于所述承載棒的寬度，所述收容槽的深度大于所述承載棒的高度。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的便于清潔的半導(dǎo)體沉積設(shè)備結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述承載圓盤為陶瓷盤，所述承載棒為陶瓷棒。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的便于清潔的半導(dǎo)體沉積設(shè)備結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述加熱器的表面為鋁盤。